专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种半导体虚设元器件的高度控制方法-CN201911028693.4在审
  • 程丙坤 - 东莞新科技术研究开发有限公司
  • 2019-10-28 - 2021-04-30 - H01L21/3065
  • 本发明提供了一种半导体虚设元器件的高度控制方法,包括以下步骤:(1)在半导体虚设元器件的正面切割2~5条互相平行的槽且在半导体虚设元器件的背面切割2~5条互相平行的槽,正面和背面的槽数量差值为1,正面的槽和背面的槽互相平行,半导体虚设元器件正面的槽和半导体虚设元器件背面的槽在平面上的相邻投影间的距离相等且不重合;(2)在半导体虚设元器件的槽底面和槽侧面沉积形成应力释放层,所述应力释放层的材料为硼硅玻璃或硼磷硅玻璃;(3)本发明方法通过对槽的数量和切割位置的限定,极大的降低了半导体虚设元器件的高度,减少了半导体虚设元器件铺设在半导体元器件的过程中对正常元器件造成阴影。
  • 一种半导体虚设元器件高度控制方法
  • [发明专利]N沟道半导体元器件的制造方法及N沟道半导体元器件-CN201811088522.6在审
  • 金兴成;陈晓亮;陈天 - 无锡华润微电子有限公司
  • 2018-09-18 - 2020-03-24 - H01L21/336
  • 本发明涉及一种N沟道半导体元器件的制造方法,形成栅极结构之后,通过在P阱表面表面注入中性杂质,然后再进行P阱表面注入第一N型杂质,因此上述制造方法可以与目前CMOS生产工艺的主流注入工艺兼容,制造方法简单且容易实现并且根据上述制造方法在N沟道半导体元器件中掺杂中性杂质,不影响N沟道半导体元器件器件结构,对该N沟道半导体元器件的电参数(例如开启电压和饱和电流)影响很小,但是却可以有效抑制N沟道半导体元器件的热载流子注入效应,保证了N沟道半导体元器件的性能,提高N沟道半导体元器件的使用寿命。
  • 沟道半导体元器件制造方法
  • [发明专利]一种半导体元器件中键合引线的返修方法-CN202211405440.6在审
  • 黄芳;唐伟;赖升 - 中国电子科技集团公司第四十四研究所
  • 2022-11-10 - 2023-01-24 - H01L21/60
  • 本发明涉及一种半导体元器件中键合引线的返修方法,包括:将待返修的半导体元器件放置在键合设备承片台上;通过AOI光学自动检测设备自动扫描系统获取半导体元器件目标焊点位置处键合引线的直径;根据目标焊点位置处键合引线的直径和键合引线的金属材质创建键合引线返修工具;使用键合引线返修工具将半导体元器件目标焊点处的键合引线与焊盘分离;使用等离子风枪吹淋分离的键合引线,直至半导体元器件的封装外壳内部未残留有分离的键合引线为止;在目标焊点处重新对键合引线进行键合,完成半导体元器件中键合引线的返修,通过本发明能够对半导体元器件中键合引线进行返修,提高半导体元器件的成品率。
  • 一种半导体元器件中键合引线返修方法
  • [发明专利]一种光伏组件内部半导体元器件连接结构-CN201911371037.4在审
  • 郭志球;王娟;金叶义 - 晶科能源科技(海宁)有限公司;浙江晶科能源有限公司
  • 2019-12-27 - 2020-04-10 - H01L31/05
  • 本发明提供了一种光伏组件内部半导体元器件连接结构,包括多个呈阵列的半导体元器件,和连接相邻半导体元器件的多根导电条,半导体元器件的一侧面贴附若干条正电极,另一侧面贴附若干条负电极,沿阵列的每一横排中,相邻半导体元器件在同一面内按照正电极、负电极交替排布,导电条由一半导体元器件的正电极/负电极平直延伸至相邻半导体元器件的负电极/正电极,每相邻两片半导体元器件之间的多根导电条呈平行设置,沿阵列横排的上下面,分段式的导电条呈交错布设。本发明极大简化目前的焊接方案,降低焊接复杂度,提高焊接良率,减少组件面积,有效减低组件成本,增加元器件模块的输出功率,提高模块的输出效率。
  • 一种组件内部半导体元器件连接结构
  • [发明专利]氮化物半导体元器件-CN200610163962.4有效
  • 长滨慎一;妹尾雅之;中村修二 - 日亚化学工业株式会社
  • 1998-01-08 - 2007-05-16 - H01L33/00
  • 本发明涉及一种发光元器件等的氮化物半导体元器件,是在一层或二层以上的氮化物半导体层所组成的n导电侧半导体区域与一层或二层以上的氮化物半导体层所组成的p导电侧半导体区域之间形成活性层的氮化物半导体元器件,所述p导电侧或n导电侧半导体区域的至少一层氮代物半导体层是分别由氮化物半导体所组成并且组成互异的第1层与第2层积层而成的超格子层。根据上述结构,即可降低元器件所用电流、电压,实现效率高的元器件
  • 氮化物半导体元器件

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