专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]显示装置-CN202180004153.1在审
  • 魏俊波;杨盛际;卢鹏程;黄冠达;田元兰 - 京东方科技集团股份有限公司;云南创视界光电科技有限公司
  • 2021-12-23 - 2023-08-25 - H10K59/88
  • 一种显示装置,包括显示区域(100)和虚设区域(300);显示区域(100)包括多个像素驱动电路和多个显示发光器件(10),显示发光器件(10)至少包括显示阳极和显示阴极;虚设区域(300)包括阴极电压线40、至少一个虚设阳极连接线(60)和多个虚设发光器件(30),虚设发光器件(30)至少包括虚设阳极和虚设阴极;显示阴极和虚设阴极均与阴极电压线(40)连接,显示阳极与像素驱动电路连接,虚设阳极与虚设阳极连接线(40)连接,虚设阳极连接线(60)被配置为使虚设阳极与虚设阴极的电压差小于虚设发光器件(30)的起亮电压。
  • 显示装置
  • [发明专利]虚设图案自动生成方法-CN03122480.6无效
  • 松本明 - 恩益禧电子股份有限公司
  • 2003-04-28 - 2003-11-05 - H01L21/82
  • 本发明的虚设图案自动生成方法包括:第一步,准备多个虚设图案元件,它们各自具有规则排列的虚设图案,且根据预定的规则为这些虚设图案元件设置了优先级;第二步,选择多个虚设图案元件之一,并排列属于被选择的虚设图案元件的虚设图案,使其覆盖设置有排列禁止区的掩模图案布局数据;第三步,从排列的虚设图案中,去除接触或覆盖排列禁止区的虚设图案;和第四步,在多个虚设图案互相接触或覆盖的情况下,去除属于优先级较低的虚设图案元件的虚设图案。
  • 虚设图案自动生成方法
  • [实用新型]显示装置-CN202320678689.8有效
  • 李龙熙;郭真善;金璟陪;李智慧 - 三星显示有限公司
  • 2023-03-30 - 2023-08-11 - H01L27/15
  • 本公开涉及显示装置,该显示装置包括:显示区域,其中设置有像素,像素中的每个包括第一电极和第二电极以及发光元件;第一虚设像素区域,设置在显示区域之外并且其中设置有虚设像素,虚设像素中的每个包括第一电极、第二电极和发光元件;以及第二虚设像素区域,围绕显示区域和第一虚设像素区域并且其中设置有虚设电极线和虚设电极图案,其中,虚设电极线彼此间隔开并且电连接到虚设像素的第二电极,并且虚设电极图案设置在虚设电极线之间并且与虚设像素的第一电极间隔开
  • 显示装置
  • [发明专利]半导体存储器装置-CN201911219053.1在审
  • 金在泽;郑蕙英 - 爱思开海力士有限公司
  • 2019-12-03 - 2021-01-19 - H01L27/11517
  • 该半导体存储器装置包括:多个沟道插塞,其被设置在半导体基板的单元区中;第一虚设区和第二虚设区,该第一虚设区被设置在所述单元区的一个端部处,并且该第二虚设区被设置在所述单元区的另一端部处;第一虚设插塞和第二虚设插塞,所述第一虚设插塞被设置在所述第一虚设区中,并且所述第二虚设插塞被设置在所述第二虚设区中。所述第一虚设插塞的数量与所述第二虚设插塞的数量不同。
  • 半导体存储器装置
  • [发明专利]阵列基板、具有其的显示装置、及其方法-CN200710005930.6有效
  • 林智淑;申爱 - 三星电子株式会社
  • 2007-02-15 - 2007-08-29 - G02F1/133
  • 本发明提供一种阵列基板,包括底部基板、虚设电路部件、虚设像素部分、延伸线、公共电压线、以及交迭部分。像素部分形成在显示区域中。虚设电路部件形成在外围区域中从而保护所述像素部分免于静电影响。虚设像素部分与虚设电路部件相邻。虚设电路部件处于电浮置状态。延伸线从所述虚设电路部件延伸并关于虚设像素部分电开路。公共电压线与虚设电路部件的延伸线交迭,延伸线关于显示区域电开路,因而显示区域可被保护免于流进虚设电路部件的静电的影响。
  • 阵列具有显示装置及其方法
  • [发明专利]半导体器件及其制造方法-CN200710161861.8无效
  • 李相熙;曹甲焕 - 东部高科股份有限公司
  • 2007-09-24 - 2008-10-29 - H01L27/00
  • 一种半导体器件及其制造方法,其中根据实施例的半导体器件包括第一组虚设图案和第二组虚设图案,该第二组虚设图案与第一组虚设图案以第二间距分隔开。第一组虚设图案包括多个第一虚设图案,该多个第一虚设图案以第一间距彼此分隔开而形成。第二组虚设图案包括多个第二虚设图案,该多个第二虚设图案以第一间距彼此分隔开而形成。第一虚设图案和第二虚设图案具有相同形状和大小。本发明的半导体器件及其制造方法可以确保图案一致性以及简化设计工艺和制造工艺。
  • 半导体器件及其制造方法

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