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[发明专利]基于纬度幅角补偿的干涉测量星座初值迭代优化方法-CN202210810910.0在审
发明人：乔栋;贾飞达;李翔宇;周星宇;何嘉欣 -专利权人：北京理工大学
申请日： 2022-07-11 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： G01V7/00 文献下载
摘要：本发明公开的基于纬度幅角补偿的干涉测量星座初值迭代优化方法，属于航空航天技术领域。本发明实现方法为：建立干涉测量星座构型，并求解干涉测量星座构型的纬度幅角偏差与呼吸角之间的关系。根据已变形构型的形状推导纬度幅角的偏差量；根据平均化方法将构型参数的方差作为补偿量加入纬度幅角平均偏差；推导以纬度幅角平均偏差为梯度的初始状态迭代方法；迭代得到具备较强稳定性的星座构型初值，实现长期受到复杂摄动影响的干涉测量星座的初值高效优化本发明具有优化效率高、优化后结果对应的初值构型稳定性好、应用范围广的优点，能够应用于后续干涉测量星座数值优化，减少干涉测量星座数值优化搜索范围，显著提高干涉测量星座数值优化效率。
基于纬度补偿干涉测量星座初值优化方法

[发明专利]双通道双波长干涉检测装置-CN201610551583.6有效
发明人：刘世杰;周游;白云波;鲁棋;张志刚;王微微;徐天柱 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2016-07-14 - 公布日： 2019-06-18 - 主分类号： G01B9/02 文献下载
摘要：一种双通道双波长干涉检测装置，该装置包括第一激光光源干涉仪主机、第二激光光源干涉仪主机、转折反射镜、滑动导轨、扩束次镜、准直主镜和标准透射镜。其中第一激光光源干涉仪主机和第二激光光源干涉仪主机到转折反射镜之间的空间光束为第一小口径测量通道，标准透射镜后的光束为第二大口径测量通道。第一激光光源干涉仪主机和第二激光光源干涉仪主机分别可以输出两种不同的激光波长。测量时将待测反射镜置于光路中，本发明装置可以同时提供两种测量通道和测量波长，适合不同口径和对测量波长有特殊要求的光学元件波前畸变的测量。
双通道波长干涉检测装置

[实用新型]一种带有激光干涉仪的角位移测量装置-CN201820048684.6有效
发明人：胡常安 -专利权人：胡常安
申请日： 2018-01-12 - 公布日： 2018-08-14 - 主分类号： G01B11/26 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种带有激光干涉仪的角位移测量装置，包括激光测量结构,所述激光测量结构内部安装有激光干涉仪，且激光干涉仪的一面上安装有感光反射面板，所述感光反射面板上安装有激光光源，且激光光源四周的感光反射面板上安装有感光元件，所述激光干涉仪的一端安装有信号处理器，所述激光测量结构的一端设置有激光干涉镜，且激光干涉镜的一面上安装有反射镜，所述反射镜的一端安装有光斑位置探测器，所述激光干涉镜通过底端安装的固定连接件与被测物体相连接，本实用新型解决了现有角位移测量装置测量效率低下、测量不够精确、存在较大误差且操作不便的问题。
激光干涉角位移测量装置反射面板激光测量感光本实用新型激光光源反射镜固定连接件激光干涉仪信号处理器被测物体测量效率感光元件光斑位置内部安装一端设置大误差探测器底端测量

[发明专利]基于光学平面条纹图像处理的干涉测量系统误差标定方法-CN201811629906.4有效
发明人：朱新栋;杨树明;方素平;杨鹏程;王睍;刘勇;张国锋;吉培瑞 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2018-12-28 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： G01B9/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于光学平面条纹图像处理的干涉测量系统误差标定方法，将测量系统视作一个整体，先拍摄被测对象的一组干涉条纹图像，然后保持测量光学系统不动，将光学平面安装到被测对象的位置并拍摄其干涉条纹图像，最后通过处理光学平面条纹图像来标定实际测量光学系统的误差。该方法操作简单，仅需拍摄并处理一组光学平面的干涉条纹图像就可以标定测量光学系统误差，并补偿被测曲面的测量结果。该方法应用范围较广，可以用于常见的几种干涉测量系统的误差标定，提高干涉测量系统的精度。采用该方法能够统一仿真计算和实际测量光学系统之间的参数，从而实现计算机仿真计算的结果作为测量基准，避免使用实物基准，降低了测量成本，提高了测量的灵活性。
光学平面干涉测量系统干涉条纹图像条纹图像误差标定测量光学系统被测对象光学系统实际测量标定拍摄计算机仿真计算测量成本测量基准测量系统仿真计算实物基准测量统一

[发明专利]面向齿轮齿面形状误差的变角度同步相移干涉测量方法-CN202011063563.7有效
发明人：王晛;方素平;寇科;翁浚 -专利权人：西安理工大学
申请日： 2020-09-30 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种面向齿轮齿面形状误差的变角度同步相移干涉测量方法，沿测量光路设置有前双光楔、后双光楔；沿扫描测量光路设置有结构光传感器，前双光楔与后双光楔之间放置被测齿轮。将双光楔引入到了测量光路，定量改变入射角照射到被测齿面的角度，从而调整干涉条纹的密度分布方便相位数据处理；将结构光传感器引入干涉测量装置中，投射的结构光通过在测量过程中与被测物表面的相对运动，结合干涉测量数据，使得在对大螺旋角复杂螺旋曲面进行测量时可以保证全场测量。本发明的测量方法将空间相移技术引入到干涉测量装置中，通过单次测量拍摄能够得到多张移相干涉图，简化了操作流程步骤，提升了装置的抗干扰能力。
面向齿轮形状误差角度同步相移干涉测量方法

[发明专利]一种双波长调频连续波激光干涉高精度绝对测量方法-CN201911060711.7有效
发明人：郑刚;王欢;白浪;孙彬;张雄星;高明;刘卫国 -专利权人：西安工业大学
申请日： 2019-11-01 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： G01B9/02 文献下载
摘要：本发明涉及光学调频连续波干涉测量技术领域，具体涉及一种实现调频连续波激光干涉高精度绝对测量方法。本发明提供的方法是：利用两个中心波长不同的调频连续波激光干涉仪同时检测同一个光程差及其变化，根据两个干涉信号的干涉级尾数，通过计算得出其中一个干涉仪干涉级变化量的整数和尾数，从而得出对应光程差变化量的绝对值本发明的优点是：可以实现光程差变化量的高精度绝对测量，根据此方法制备的干涉仪结构简单、响应速度快、测量精度高。
一种波长调频连续激光干涉高精度绝对测量方法

[发明专利]平面面形子孔径拼接干涉测量装置与测量方法-CN202110085155.X有效
发明人：唐锋;卢云君;王向朝;郭福东 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所
申请日： 2021-01-21 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：一种平面面形子孔径拼接干涉测量装置与测量方法，测量装置包括：平面干涉仪，平面干涉仪支架，安装平台，XY二维运动拼接位移台，俯仰偏摆角二维调节台，偏摆角测量系统，俯仰角测量系统，被测平面光学元件；本发明在平面面形子孔径拼接干涉测量装置中加入了偏摆角测量系统和俯仰角测量系统，能够从原理上消除拼接累积误差，即拼接测量误差与拼接口径无关，不会随着拼接口径的增大而增大。
平面面形子孔径拼接干涉测量装置测量方法

[发明专利]温度测量方法-CN201110303076.8有效
发明人：舆水地盐;山涌纯;松土龙夫 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-09-29 - 公布日： 2012-05-09 - 主分类号： G01K11/00 文献下载
摘要：本发明提供一种温度测量方法。该温度测量方法即使在测量对象物上形成有薄膜的情况下，也能够比以往准确地对测量对象物的温度进行测量。其包括以下工序：将来自光源的光传送到在基板上形成有薄膜的测量对象物的测量点；对由基板的表面的反射光构成的第1干涉波、由基板与薄膜之间的界面的反射光、在薄膜的背面的反射光构成的第2干涉波进行测量；计算从第1干涉波到第2干涉波的光路长度；根据第2干涉波的强度计算薄膜的膜厚；根据算出的薄膜的膜厚计算基板的光路长度与算出的光路长度之间的光路差；根据算出的光路差校正算出的从第1干涉波到第2干涉波的光路长度；利用被校正的光路长度计算测量对象物的测量点处的温度
温度测量方法

[发明专利]一种干涉仪测量装置及其控制方法-CN201511031860.2在审
发明人：沈鑫 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2015-12-31 - 公布日： 2017-07-07 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种干涉仪测量装置及其控制方法，该装置包括载物台、激光干涉仪以及安装于所述载物台上的测量镜，其特征在于，所述测量镜由多个平面镜沿水平方向拼接而成，所述激光干涉仪包括第一干涉仪和第二干涉仪，当所述载物台移动，使所述激光干涉仪发出的光对应入射至过渡区域时，所述第一干涉仪和所述第二干涉仪交替提供位置信息给所述载物台，所述过渡区域为所述第一干涉仪和所述第二干涉仪入射至不同的所述平面镜时经过的区域。本发明中，利用多个平面镜的拼接，同时配合两个干涉仪交替更新零位基准，来延展载物台在水平面上的测量行程。
一种干涉仪测量装置及其控制方法

[发明专利]一种白光扫描干涉测量蝠翼效应的形貌模拟和补偿方法-CN202010443270.5有效
发明人：闫英;李萍;周平;赵林杰 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2020-05-22 - 公布日： 2021-07-16 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明提供一种白光扫描干涉测量蝠翼效应的形貌模拟和补偿方法，包括如下步骤：S1：给定模拟形貌；S2：生成白光扫描干涉仪测量结果的光强信号；S3：利用卷积定理获得新的干涉光强信号；S4：采用峰值提取算法从步骤S3得到的干涉光强信号提取位相并重构干涉仪测量形貌；S5：蝠翼效应的形貌补偿，将步骤S4得到的含有蝠翼效应的模拟形貌利用公式(1)生成模拟干涉光强信号，然后利用反卷积定理得到补偿后的干涉光强信号，对补偿后的干涉光强信号采用峰值提取算法得到补偿后的高度信息本发明解决了现有白光扫描干涉测量技术受蝠翼效应误差的影响，限制白光干涉仪的测量精度和准确度的问题。
一种白光扫描干涉测量效应形貌模拟补偿方法

[发明专利]一种扫描误差自修正的白光干涉测量方法-CN202110023324.7有效
发明人：刘乾;崔凯华;黄小津;张辉;李璐璐 -专利权人：中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
申请日： 2021-01-08 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： G01B11/02 文献下载
摘要：本发明提供了一种扫描误差自修正的白光干涉测量方法，包括以下步骤：使用白光干涉测量装置采集干涉图；使用清晰度算子计算干涉图的清晰度，并标记有效干涉图；将有效干涉图重新编号，并划分成P组；计算每组有效干涉图上像素点沿序号方向的灰度变化，将像素点标记为有效像素点；采用相移计算方法计算相移步进值；根据相移步进值，计算扫描高度；再计算每组特征干涉图上每个像素点的调制度和相位；最后，计算此处像素点的高度。采用本方案，能够高精度计算白光干涉测量中的实际扫描步长，并对扫描步长引起的测量误差进行有效补偿，获得了相当高的精度，且本发明能够处理白光干涉测量的中高频扫描误差，且不依赖于硬件的改进，具有较高的经济性。
一种扫描误差修正白光干涉测量方法

[发明专利]基于双侧干涉仪的形貌与厚度检测装置-CN202110529251.9在审
发明人：魏相宇;唐锋;王向朝;郭福东;冯鹏;陈梦来 -专利权人：中国科学院上海光学精密机械研究所;上海精测半导体技术有限公司
申请日： 2021-05-14 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：基于双侧干涉仪的形貌与厚度检测装置，通过在一侧干涉仪光路中加入相干性抑制单元，使得对侧干涉仪的输出光与本侧干涉仪的测量光、参考光不相干，不能发生干涉；或对侧干涉仪输出光与本侧干涉仪测量光、参考光等效不发生干涉，仅产生背景直流量，不影响干涉相位的提取。本发明不改变双侧干涉仪系统的光路结构，有效利用了光学系统的数值孔径，简化了系统工作流程，具有测量精度与效率高，分光方式灵活等优点。
基于干涉仪形貌厚度检测装置

[发明专利]一种基板翘曲量的测量装置及方法-CN201610687178.7在审
发明人：蒋学兵 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
申请日： 2016-08-18 - 公布日： 2016-12-21 - 主分类号： G01B11/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种基板翘曲量的测量装置及方法，用于测量显示母板的基板翘曲量，所述显示母板包括相对而置的第一基板和第二基板，所述测量装置包括：光源、测量目镜及处理器；所述光源，用于向所述显示母板的待测量区域发射单色光，形成牛顿环干涉图案；所述测量目镜，用于采集所述牛顿环干涉图案，并测量出所述牛顿环干涉图案中每条干涉条纹的直径及对应的级数；所述处理器，与所述测量目镜连接，用于根据每条干涉条纹的直径、对应的级数及所述单色光的波长，得到每条干涉条纹处的空气层厚度，以获得所述显示母板的待测量区域的翘曲量。
一种基板翘曲量测量装置方法

[发明专利]光学计量系统和方法-CN202180016485.1在审
发明人：吉拉德·巴拉克;阿米尔·沙亚里 -专利权人：诺威有限公司
申请日： 2021-02-24 - 公布日： 2022-10-11 - 主分类号： G01N21/95 文献下载
摘要：提供了一种用于光学计量测量的测量系统。该测量系统包括处理原始测量数据的控制系统，原始测量数据指示响应于入射到样品的顶部部分的照明电磁场而在样品上测量的光谱干涉信号并且光谱干涉信号包括所述样品基本上不吸收的至少一个光谱范围。处理包括：从原始测量数据中提取光谱干涉信号的一部分，光谱干涉信号的一部分描述在干涉测量期间随着光路差OPD的改变而变化的信号强度，提取信号部分与响应于所述照明电磁场从样品的底部部分返回的干涉信号无关；以及从所述提取部分中直接确定来自样品的顶部部分的电磁场的反射的光谱振幅和相位，从而确定表征样品的顶部部分的测量光谱特征。
光学计量系统方法

[发明专利]一种待测表面形貌测量方法及装置、电子设备和存储介质-CN202211714393.3在审
发明人：吴冠豪;施立恒 -专利权人：清华大学
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本公开涉及光学三维形貌测量技术领域，尤其涉及一种待测表面形貌测量方法及装置、电子设备和存储介质。所述待测表面形貌测量方法包括：将光源发出的光束进行分束，形成测量光和参考光，测量光到达待测表面、并被待测表面反射，参考光到达反射镜表面、并被反射镜表面反射，被反射的测量光和被反射的参考光合束后、产生干涉图像；调整测量光和参考光之间的相对光程差，使相对光程差在预设扫描范围内变化；对测量光和/或参考光进行相位补偿，以降低干涉图像中时间相移干涉条纹的密度；采集不同时刻的干涉图像，根据干涉图像序列，确定所述待测表面的高度分布该过程利用相位补偿的方法，降低了测量光和参考光合束后形成的时间相移干涉条纹密度。
一种表面形貌测量方法装置电子设备存储介质