专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]Ka波段MMIC数字移相器-CN201710980987.1在审
  • 龚平 - 绵阳鑫阳知识产权运营有限公司
  • 2017-10-20 - 2018-03-06 - H03H11/22
  • 本发明公开了一种本发明公开了一种六位数字移相器,包括5.625°相移电路、11.25°相移电路、22.5°相移电路、45°相移电路、90°相移电路和180°相移电路,所述5.625°相移电路、11.25°相移电路、22.5°相移电路、45°相移电路以任意顺序级联在90°相移电路、180°相移电路之间;所述11.25°相移电路、22.5°相移电路、45°相移电路、90°相移电路采用π型拓扑结构,所述180°相移电路采用高低通相移网络。将移相器两较高相移电路作为移相器的输出、输出,不仅可提高移相器极间匹配性,且可有效提高移相精度。
  • ka波段mmic数字移相器
  • [发明专利]修正相移掩膜中特征尺寸偏差的方法及相移掩膜-CN201410542513.5在审
  • 施维;王然 - 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
  • 2014-10-14 - 2016-05-11 - H01L21/027
  • 本申请公开了一种修正相移掩膜中特征尺寸偏差的方法及相移掩膜。该相移掩膜包括不透光层和相移层,该方法包括以下步骤:步骤S1、测量相移掩膜的特征尺寸,以找出相移掩膜中的特征尺寸偏差图形;步骤S2、对相移掩膜进行氧化处理,以在相移层的表面上形成保护层;步骤S3、对相移层进行补偿刻蚀该方法通过对相移掩膜进行氧化处理以在相移层的表面上形成保护层后,再对相移层进行补偿刻蚀,从而实现了对相移掩膜中相移层的特征尺寸偏差进行修正的目的。在对相移层进行补偿刻蚀时,相移层表面上的保护层能够降低相移层的刻蚀速率,减少了相移层的高度偏差,进而减少了由对相移层进行补偿刻蚀导致的相位差值。
  • 修正相移掩膜中特征尺寸偏差方法
  • [发明专利]声学设备-CN200880018654.X有效
  • 鹈饲训史;田中良;石桥利晃 - 雅马哈株式会社
  • 2008-05-28 - 2010-03-24 - H04R3/00
  • 相移电路(211A-211H)对从各个麦克风阵列输出的声音信号进行相移,并且声音被加法器(212)组合。相移电路(211A-211H)根据各个麦克风阵列的安装位置执行相移相移电路根据旋转角度连续进行相移相移电路(211A)进行了0度相移,随后相移电路(211B)进行了45度相移相移电路(211C)进行了90度相移,并且依次至相移电路(211H)。
  • 声学设备
  • [发明专利]双偏振雷达的系统差分相移标定方法及系统-CN201610997476.6有效
  • 孙召平;陈艳 - 北京敏视达雷达有限公司
  • 2016-11-08 - 2019-11-15 - G01S7/40
  • 本发明提供了双偏振雷达的系统差分相移标定方法及系统,计算地物杂波的距离库的差分相移,保存出现频率最高的差分相移;统计最近第一时长内保存的各差分相移的标准差;如本次统计得到的标准差小于预设标准差门限,则当本次保存的差分相移与当前系统差分相移之差大于预设阈值时,将当前系统差分相移更新为本次保存的差分相移;如本次统计得到的标准差大于预设标准差门限,则将当前系统差分相移分别与最近第二时长内保存的差分相移的最大值、最近第二时长内保存的差分相移的最小值进行比较,如当前系统差分相移大于最大值或小于最小值,则将当前系统差分相移更新为最近第二时长内保存的差分相移的平均值。本发明可以及时对系统差分相移进行更新。
  • 偏振雷达系统相移标定方法

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