[发明专利]层状结构在审

专利信息
申请号: 202210471897.0 申请日: 2022-04-29
公开(公告)号: CN115377205A 公开(公告)日: 2022-11-22
发明(设计)人: A·克拉克;R·达尔基斯 申请(专利权)人: IQE公开有限公司
主分类号: H01L29/20 分类号: H01L29/20;H01L29/04;H01L33/32;H01L21/02;C30B23/02;C30B29/02;C30B29/16;C30B29/40;C30B29/52
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 宋岩
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了层状结构。层状结构10包括:呈[100]晶体取向的基板;呈[111]取向的结晶方铁锰矿氧化物层14;以及与结晶方铁锰矿氧化物层在晶体学上匹配的含金属层16。有利地,可以在整个行业常用的基板上生长高质量的含金属层,这开启了集成和成本益处。
搜索关键词: 层状 结构
【主权项】:
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  • 本发明公开了一种具有高阈值的氮化镓功率半导体,包括半导体本体、散热背板、三氧化二铝衬底和栅极层,散热背板固定于半导体本体的一侧,半导体本体的顶部和底部皆均匀固定有引脚,栅极层设置于半导体本体的一侧。本发明通过安装有半导体本体、导电管和导电区,使得装置优化了自身的性能,使用时,一方面通过在半导体本体上设置有材质为氮化铝的过渡层,利用该性质稳定的过渡结构,便于分摊电流压力,另一方面通过在半导体本体的内部设置有带有导电管的导电区,通过导电作用,可以有效消除电荷存储现象,保证了器件在重复开关工作条件下具有较高的阈值稳定性。
  • 基于自对准技术的GaN基毫米波功率器件及其制备方法-202110262423.0
  • 马晓华;宓珉瀚;周雨威;刘文良;韩雨彤;张濛;侯斌;祝杰杰 - 西安电子科技大学
  • 2021-03-10 - 2022-11-04 - H01L29/20
  • 本发明涉及一种基于自对准技术的GaN基毫米波功率器件及其制备方法,该方法包括:S1:在衬底上生长GaN基异质结;S2:在GaN基异质结上生长n+GaN帽层;S3:利用离子注入设备,在器件的两侧形成隔离区;S4:在欧姆区域的n+GaN帽层上淀积金属,形成源极和漏极;S5:在源极和漏极之外的区域淀积钝化层;S6:采用干法刻蚀工艺对栅极区域的钝化层进行刻蚀,形成凹槽;S7:采用干法刻蚀工艺对凹槽下方的n+GaN帽层进行自终止刻蚀,形成栅极凹槽;S8:在栅极凹槽侧壁淀积绝缘层,并在具有绝缘层的栅极凹槽淀积金属形成栅极。本发明的制备方法,与常规自对准工艺制备方法相比,避免了制备难度高、工艺复杂的MBE欧姆再生长环节,使得制备工艺更加简化。
  • 半导体器件和形成半导体器件的方法-201910576064.9
  • 叶佳灵;陈京玉 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2019-06-28 - 2022-11-04 - H01L29/20
  • 提供了高电子迁移率晶体管(HEMT)器件及其形成方法。该方法包括在衬底上方形成第一III‑V族化合物层。在第一III‑V族化合物层上方形成第二III‑V族化合物层。第二III‑V族化合物层比第一III‑V族化合物层具有更大的带隙。在第二III‑V族化合物层上方形成第三III‑V族化合物层。第三III‑V族化合物层和第一III‑V族化合物层包括相同的III‑V族化合物。沿着第三III‑V族化合物层的最顶表面和侧壁形成钝化层。在第二III‑V族化合物层上方形成第四III‑V族化合物层。第四III‑V族化合物层比第一III‑V族化合物层具有更大的带隙。本发明的实施例还涉及半导体器件和形成半导体器件的方法。
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