专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]外延结构-CN202010447738.8有效
  • 刘嘉哲;施英汝 - 环球晶圆股份有限公司
  • 2020-05-25 - 2023-10-13 - H01L29/20
  • 本发明提供一种外延结构,包括:基板、缓冲层、背面扩散阻挡层、形成在背面扩散阻挡层上的通道层以及形成在通道层上的阻挡层。缓冲层形成在基板上。背面扩散阻挡层形成在缓冲层上,背面扩散阻挡层的化学组成为AlxInyGa1‑x‑yN,其中0≦x≦1且0≦y≦1,背面扩散阻挡层的晶格常数在#imgabs0#之间。背面扩散阻挡层于厚度方向上由多个区域组成,且背面扩散阻挡层的铝含量与铟含量沿厚度方向为阶梯式变化或阶梯渐变式变化。背面扩散阻挡层还包括碳,且碳浓度沿厚度方向为阶梯式变化或阶梯渐变式变化。
  • 外延结构
  • [发明专利]高电子迁移率晶体管结构及其制造方法-CN202211168331.7在审
  • 林伯融;刘嘉哲 - 环球晶圆股份有限公司
  • 2022-09-23 - 2023-09-22 - H01L29/778
  • 本发明提供一种高电子迁移率晶体管改良结构包括有一基板、一氮化物成核层、一氮化物缓冲层、一氮化物通道层及一阻障层,所述氮化物缓冲层包含金属掺杂物;所述氮化物通道层相较于所述氮化物缓冲层具有较低的金属掺杂浓度;一二维电子气体沿所述氮化物通道层与所述阻障层间的界面形成于所述氮化物通道层中;所述氮化物缓冲层与所述氮化物通道层交界处的金属掺杂浓度X定义为每立方公分的金属原子数量,所述氮化物通道层的厚度Y的单位为微米(μm)且满足:Y≤(0.2171)ln(X)‑8.34,以降低金属掺杂物对所述氮化物通道层的片电阻值的影响并提供具有良好效能的高电子迁移率晶体管改良结构。
  • 电子迁移率晶体管结构及其制造方法
  • [发明专利]半导体外延结构-CN202210597413.7在审
  • 林子尧;刘嘉哲;施英汝 - 环球晶圆股份有限公司
  • 2022-05-30 - 2023-05-05 - H01L21/18
  • 本发明提供一种半导体外延结构,包括碳化硅基板、成核层、氮化镓缓冲层与堆叠结构。成核层形成于所述碳化硅基板上,氮化镓缓冲层设置于所述成核层上,堆叠结构则形成于所述成核层与所述氮化镓缓冲层之间。所述堆叠结构包括:交替堆叠的多层氮化硅(SiNx)层与多层氮化铝镓(AlxGa1‑xN)层,其中所述多层氮化硅层中的第一层与所述成核层直接接触。
  • 半导体外延结构
  • [发明专利]外延结构-CN201910547464.7有效
  • 刘嘉哲;黄彦纶;施英汝 - 环球晶圆股份有限公司
  • 2019-06-24 - 2023-04-18 - H01L29/20
  • 本发明提供一种外延结构,包括:基板、成核层、缓冲层以及氮化物层。成核层设置于基板上,所述成核层于厚度方向上由多个区域组成,所述区域的化学组成为Al(1‑x)InxN,其中0≤x≤1。缓冲层设置于成核层上,成核层的厚度小于缓冲层的厚度。氮化物层则设置于缓冲层上,其中所述成核层与所述缓冲层接触的表面的粗糙度大于所述缓冲层与所述氮化物层接触的表面的粗糙度。
  • 外延结构
  • [发明专利]制造设备及其晶圆承载盘-CN201910418046.8有效
  • 谢伟杰;刘嘉哲;施英汝 - 环球晶圆股份有限公司
  • 2019-05-20 - 2021-11-23 - H01L21/687
  • 本发明公开一种制造设备及其晶圆承载盘,晶圆承载盘包含呈圆形的第一表面、位于第一表面相反侧的第二表面、凹设于第一表面的N个晶圆槽。第一表面界定出以其圆心为顶点且面积相等的N个扇形区域,N为大于1的正整数,N个晶圆槽分别自N个扇形区域所凹设形成。N个晶圆槽是相对于第一表面的圆心以预定角度而呈旋转对称排列,预定角度为360/N度。每个扇形区域包含两直线边与圆弧边,每个晶圆槽的内侧壁包含直线段与圆弧段。在每个扇形区域及其内的晶圆槽中,直线段平行于两个直线边的其中之一,而圆弧段相切于两个直线边的其中另一。据此,通过在晶圆承载盘形成有特定排布方式的N个晶圆槽,以避免位于晶圆槽内的晶圆之外围部位的磊晶厚度过厚。
  • 制造设备及其承载
  • [发明专利]具有氮化铝成核层的基板及其制造方法-CN202010413464.0在审
  • 谢伟杰;黄彦纶;刘嘉哲;李依晴 - 环球晶圆股份有限公司
  • 2020-05-15 - 2020-12-22 - H01L29/20
  • 一种具有氮化铝成核层的基板包括一硅基材及一氮化铝成核层;所述氮化铝成核层系设置于所述硅基材上;其中,所述氮化铝成核层的厚度为20nm至200nm;所述氮化铝成核层的表面粗糙度系小于或等于0.4nm;所述氮化铝成核层的X光衍射摇摆曲线的波峰的半高宽(FWHM)系小于或等于4000角秒;所述氮化铝成核层中无滑移线。其中,硅基材为含硅的基材,且其材质例如可为碳化硅(SiC)或硅(Si)。一种具有氮化铝成核层的基板的制造方法亦在此揭露。由于基板的氮化铝成核层无滑移线产生,因此后续形成的磊晶层可具有较好的质量。
  • 具有氮化成核及其制造方法
  • [实用新型]一种多功能试管夹-CN201620062947.X有效
  • 刘嘉哲 - 刘嘉哲
  • 2016-01-22 - 2016-06-08 - B01L9/06
  • 本实用新型属于化学实验领域,具体涉及一种多功能试管夹。包括固定板、位于固定板左端的试管腔、试管腔左侧的软垫、试管腔右侧的固定块,固定板右端固定连接有固定件Ⅰ、固定件Ⅰ和固定块之间有弹性部件、活动连接在固定板右端的支撑架、连接在支撑架末端的支撑板,固定板右端固定连接有握柄,固定板右端和握柄之间有向握柄呈“U”型的挡板;支撑架为伸缩杆,支撑板为可折叠的金属板;连接固定件Ⅰ和固定块的部件为压缩弹簧。本实用新型的有益效果是:通过伸缩杆的设计可以实现调节试管夹固定时高度的调节,和支撑板及悬挂孔的设计一起解决试管夹不用时占据空间大的问题,握柄的设计方便使用者使用,挡板的设计对手起到保护作用。
  • 一种多功能试管

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