专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种便于在野外固定的全站仪-CN202321235100.3有效
  • 张濛;尹鸥 - 辽宁国沣矿产勘查开发有限责任公司
  • 2023-05-22 - 2023-10-27 - F16M11/38
  • 本实用新型属于全站仪领域,具体涉及一种便于在野外固定的全站仪,解决了现有技术中存在不方便更改高度,三脚架固定不牢靠的问题,包括底座,底座的顶部分别通过螺丝固定连接有下立板和两个对称布置的下竖块,底座上安装有水平尺,两个下竖块上共同转动安装有移动螺杆,移动螺杆的一端通过螺丝固定连接有摇柄,两个下竖块上共同通过螺丝固定连接有下滑杆,下滑杆上滑动装配有下滑块,通过摇柄、移动螺杆等结构的设置,转动摇柄,移动螺杆转动的时候带动下滑块在下滑杆上面滑动,第一支撑杆和第二支撑杆通过上立板和上滑块共同支撑放置台上升,放置台上安装的光测仪本体跟随上升,实现了方便更改高度的效果。
  • 一种便于野外固定全站仪
  • [发明专利]一种基于GaN基凹槽MIS结构的SRAM芯片-CN202310581183.X在审
  • 侯斌;杨凌;王博麟;牛雪锐;马晓华;张濛;武玫;芦浩;郝跃 - 西安电子科技大学
  • 2023-05-22 - 2023-10-10 - H10B10/00
  • 本发明公开了一种基于GaN基凹槽MIS结构的SRAM芯片,包括:第一反相器包括晶体管P1和N1;P1和N1的栅极相连形成第一反相器的输入端,漏极相连形成第一反相器的输出端;第二反相器包括晶体管P2和N2;P2和N2的栅极相连形成第二反相器的输入端,漏极相连形成第二反相器的输出端;第一控制读写晶体管的栅极连接字线,源极连接第一位线,漏极连接第一反相器的输出端以及第二反相器的输入端;第二控制读写晶体管的栅极连接字线,源极连接第二位线,源极连接第二反相器的输出端以及第一反相器的输入端;P1和P2均为P沟道增强型异质结晶体管;其余晶体管均为N沟道增强型异质结晶体管。
  • 一种基于gan凹槽mis结构sram芯片
  • [实用新型]大蜂窝铝板安装结构-CN202320977745.8有效
  • 刘一;陈丽;付志杰;张濛 - 武汉建工集团装饰工程有限公司
  • 2023-04-24 - 2023-10-10 - E04F13/076
  • 本申请涉及蜂窝铝板技术领域,具体公开了一种大蜂窝铝板安装结构,其包括两铝板本体,还包括承托条,所述承托条与两所述铝板本体的板面相抵接,所述承托条上的设置有连接条,所述连接条穿设于两所述铝板本体之间,且所述连接条与两所述铝板本体相抵接,所述连接条的相对两侧上均滑移安装有抵压条,所述抵压条与所述铝板本体的板面活动抵接,所述连接条上设置有用于调节所述抵压条与所述承托条之间间距的调节组件。本申请具有改善利用固定卡件连接相邻两蜂窝铝板时适用性较低的效果。
  • 蜂窝安装结构
  • [发明专利]视频播放方法、装置、设备及存储介质-CN202310789189.6在审
  • 张濛 - 北京奇艺世纪科技有限公司
  • 2023-06-29 - 2023-08-29 - H04N21/472
  • 本申请涉及一种视频播放方法、装置、设备及存储介质,所述方法包括:当视频应用程序启动时,创建全局唯一的播放内核,实时监测是否有页面访问所述播放内核,当监测到页面访问播放内核时,控制页面获取播放内核中唯一的实例进行视频播放。本申请创建了全局唯一的播放内核,不需要对每个视频播放页面都创建对应的多个播放器,当监测到页面访问播放内核时,控制页面获取播放内核中唯一的实例进行视频播放,通过一个播放内核便可承载视频应用程序内所有页面的播放任务,极大地节约了内存和CPU的占用空间,提高视频应用程序运行流畅度。
  • 视频播放方法装置设备存储介质
  • [发明专利]一种氮化镓基双异质结HEMT场效应迁移率的表征方法-CN202310079234.9在审
  • 朱青;郭思音;陈怡霖;张濛;马晓华 - 西安电子科技大学
  • 2023-02-01 - 2023-06-23 - G01R31/26
  • 本发明公开了一种氮化镓基双异质结HEMT场效应迁移率的表征方法,包括将待测试的HEMT制备为fat‑FET结构的HEMT,其中,待测试的HEMT为氮化镓基双异质结HEMT,fat‑FET结构的HEMT为fat‑FET结构的氮化镓基双异质结HEMT。对fat‑FET结构的HEMT进行沟道电导测试;对fat‑FET结构的HEMT进行CV特性曲线测试得到第一电容‑电压变化曲线;对第一电容‑电压变化曲线进行加和处理;根据预设公式得到上沟道和下沟道的场效应迁移率‑栅压曲线图;分别得到上、下沟道的电子面密度‑栅压曲线图;分别得到上、下沟道的场效应迁移率‑电子面密度曲线图。本发明能够分别表征上、下沟道具体的场效应迁移率,提高了对氮化镓基双异质结HEMT的场效应迁移率的表征精度,有益于氮化镓基双异质结HEMT的特性分析和工艺优化。
  • 一种氮化镓基双异质结hemt场效应迁移率表征方法

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