专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于沟道阵列结构的异质场效应晶体管-CN201110083011.7有效
  • 蔡勇;刘胜厚;张宝顺 - 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
  • 2011-04-02 - 2011-09-28 - H01L29/778
  • 本发明涉及一种基于沟道阵列结构的异质场效应晶体管,其包括异质,所述异质包括由上到下层叠设置的第一半导体层和第二半导体层,所述第一半导体层和第二半导体层界面处形成有二维电子气,所述第一半导体层上设置有源极、漏极和栅极,所述栅极设置于源极和漏极之间,所述栅极下方的异质内形成有一条以上沟道,且所述沟道两端分别指向源极和漏极。本发明采用基于沟道阵列的结构设计,并通过将金属覆盖在沟道的顶部和两边的侧壁形成环结构,从而增强了对沟道的调制能力。本发明适用于一切基于异质结界面处二维电子气工作的半导体电子器件,并可同时满足实际应用的各种要求。
  • 基于沟道阵列结构异质结场效应晶体管
  • [发明专利]一种氮化镓基双异质HEMT场效应迁移率的表征方法-CN202310079234.9在审
  • 朱青;郭思音;陈怡霖;张濛;马晓华 - 西安电子科技大学
  • 2023-02-01 - 2023-06-23 - G01R31/26
  • 本发明公开了一种氮化镓基双异质HEMT场效应迁移率的表征方法,包括将待测试的HEMT制备为fat‑FET结构的HEMT,其中,待测试的HEMT为氮化镓基双异质HEMT,fat‑FET结构的HEMT为fat‑FET结构的氮化镓基双异质HEMT。fat‑FET结构的HEMT进行沟道电导测试;对fat‑FET结构的HEMT进行CV特性曲线测试得到第一电容‑电压变化曲线;对第一电容‑电压变化曲线进行加和处理;根据预设公式得到上沟道和下沟道的场效应迁移率‑压曲线图;分别得到上、下沟道的电子面密度‑压曲线图;分别得到上、下沟道的场效应迁移率‑电子面密度曲线图。本发明能够分别表征上、下沟道具体的场效应迁移率,提高了对氮化镓基双异质HEMT的场效应迁移率的表征精度,有益于氮化镓基双异质HEMT的特性分析和工艺优化。
  • 一种氮化镓基双异质结hemt场效应迁移率表征方法
  • [发明专利]一种氮面增强型氮化镓基异质场效应管-CN201610934823.0有效
  • 杜江锋;白智元;蒋知广;于奇 - 电子科技大学
  • 2016-11-01 - 2019-10-01 - H01L29/10
  • 该发明公开了一种氮面增强型氮化镓基异质场效应管,属于微电子领域,涉及半导体器件的制作工艺。针对现有技术存在的问题与不足,本发明提出了一种具有局部P型沟道层结构的氮面氮化镓基异质场效应晶体管,通过引入局部P型沟道层,实现增强型的氮面氮化镓基异质场效应晶体管。当下GaN沟道层掺P型杂质后会抬高沟道层的导带,从而使二维电子气沟道耗尽。当压正向增大时,下pn沟道层的耗尽区变窄,从而使二维电子气沟道开启。显然本发明能解决之前氮面增强型器件的问题,在保证控能力的同时保证形成的局部P型沟道层与二维电子气沟道有一定距离,使沟道载流子依然有较高的迁移率。
  • 一种增强氮化镓基异质结场效应
  • [发明专利]一种太阳能电池及其制作方法-CN202210445514.2在审
  • 王涛 - 王涛
  • 2022-04-24 - 2022-07-29 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种太阳能电池及其制作方法;属于太阳能电池技术领域,包括在电池基底上形成线电极,所述电池基底包括异质基底和在异质基底相对的两侧面上形成的透明氧化导电层;所述线电极包括:在透明导电氧化层上沉积形成覆盖透明导电氧化膜的种子层;在种子层上进行第一次喷墨打印形成具有线图案的第一掩膜层,所述线图案为与种子层垂直、暴露出种子层的凹槽;在第一掩膜层上,线图案凹槽的两侧打印第二掩膜层;在线图案中电镀导电线。
  • 一种太阳能电池及其制作方法
  • [发明专利]一种异质太阳能电池及其制备方法-CN201310312402.0无效
  • 张东升;赵会娟 - 国电光伏有限公司
  • 2013-07-24 - 2015-02-11 - H01L31/0224
  • 本发明公开了一种异质太阳能电池及其制备方法,异质太阳能电池依次按照P层,本征层,N型硅基体,金字塔绒面,N+层和氧化硅层叠加制成,并且正面电极自背面贯穿到P层,背面电极贯穿氧化硅层,连接N+层和背面金属线本发明还提供了一种制备异质太阳能电池的方法,经过槽式制绒、PECVD镀膜、激光通孔、背面电极低温银浆印刷、200℃烘干。使用本发明的异质电池,降低银浆遮挡面积,提高异质太阳能电池效率,本发明所采用的制备方法简单易行,切于实用。
  • 一种异质结太阳能电池及其制备方法
  • [发明专利]一种异质电池的制备方法及异质电池-CN202110047038.4在审
  • 不公告发明人 - 宣城睿晖宣晟企业管理中心合伙企业(有限合伙)
  • 2021-01-14 - 2021-09-07 - H01L31/18
  • 本申请实施例中提供了一种异质电池的制备方法及异质电池,属于光伏电池技术领域,该制备方法具体包括如下步骤:对硅片进行单面制绒,使硅片一侧面形成绒面,另一侧面保持抛光面;在硅片的绒面和抛光面上分别制备非晶硅层;在绒面的非晶硅层上依次层叠制备第一透明导电层和透明绝缘薄膜层,并在透明绝缘薄膜层对应金属线的区域裸露出第一透明导电层;在抛光面的非晶硅层上制备第二透明导电层;制备金属线,绒面的金属线穿过透明绝缘薄膜层与第一透明导电层接触,抛光面的金属线直接与第二透明导电层接触。通过本申请的处理方案,解决现有技术中硅片损耗较大的问题,降低异质电池的成本。
  • 一种异质结电池制备方法
  • [发明专利]一种异质太阳电池及其制备方法和应用-CN202210496893.8有效
  • 胡磊;施利君;屠金玲;蒋新 - 苏州晶洲装备科技有限公司
  • 2022-05-09 - 2022-07-29 - H01L31/0224
  • 本发明提供一种异质太阳电池及其制备方法和应用,所述制备方法包括:在设有透明导电层的硅基板上以3,4‑乙烯二氧噻吩和苯乙烯磺酸类单体的组合作为单体进行聚合,得到高分子导电膜;在所述高分子导电膜上电化学沉积锡铜合金层,形成金属线,得到异质太阳电池。本发明以电化学沉积工艺制备锡铜合金线,显著降低制造成本,并使金属线具有更好的导电性和稳定性,无需再设置外层的保护层。所述制备方法采用原位聚合的方式形成PEDOT:PSS高分子导电膜,其作为透明导电层与金属线的结合层,能够有效提高导电性和可镀性,并防止激光刻蚀中对TCO的损伤,防止铜离子向电池迁移,有效提升了异质太阳电池的综合性能
  • 一种异质结太阳电池及其制备方法应用

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