专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体异质场效应晶体管结构的制备方法-CN201110266824.X无效
  • 朱俊;廖秀尉;郝兰众;李言荣 - 电子科技大学
  • 2011-09-09 - 2012-01-04 - H01L21/283
  • 半导体异质场效应晶体管结构的制备方法,涉及微电子器件制备领域。本发明包括下述步骤:(1)在已制作了源电极和漏电极的GaN基半导体异质结构上涂覆正性光刻胶;(2)通过曝光和显影工艺对光刻胶进行微图形化,留下合适的区域制作MgO掩膜;(3)沉积MgO薄膜;(4)剥离光刻胶,留下直接沉积在基片上的MgO薄膜作为掩膜;(5)依次沉积铁电氧化物薄膜层和金属层;(6)剥离MgO掩膜,留下直接沉积在基片上的铁电氧化物薄膜层和金属层作为半导体异质场效应管的结构。本发明制备方法简单,而且对GaN基半导体异质结构的损伤较小,不会对器件的性能造成太大的影响。
  • 半导体异质结场效应晶体管结构制备方法
  • [实用新型]AZO-黑硅异质太阳能电池-CN201220432470.1有效
  • 夏洋 - 夏洋
  • 2012-08-28 - 2013-08-14 - H01L31/074
  • 本实用新型公开了一种AZO-黑硅异质太阳能电池,包括表面保护层、金属电极、AZO薄膜、黑硅层、晶硅层和金属背电极,所述表面保护层位于金属电极之上,所述金属电极位于AZO薄膜上,所述AZO薄膜位于黑硅层之上本实用新型的有益效果:在黑硅结构表面沉积n型AZO薄膜,形成异质太阳能电池,提高太阳能电池的开路电压与短路电流,进而提高太阳能电池的转化效率;并简化了太阳能电池的结构,降低了生产成本。
  • azo黑硅异质结太阳能电池

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