专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种铜铜键合的制作方法-CN201310721054.2有效
  • 薛恺;于大全 - 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
  • 2013-12-24 - 2014-04-16 - H01L21/60
  • 本发明提供了一种铜铜键合的制作方法,有效降低了铜柱表面粗糙度,提高了的表面平整度,同时保证了晶圆不同区域的高度的一致,满足铜铜键合工艺对表面平整度的要求;其特征在于:包括以下步骤:(1)在晶圆表面制作粘附层和种子层;(2)在晶圆表面淀积铜层;(3)对晶圆表面的铜层进行处理,改善铜表面粗糙度和平整度;(4)利用光刻工艺对铜层进行图形化;(5)去除位置以外的铜,在晶圆上形成结构;(6)去除晶圆表面区域以外的粘附层材料,形成电隔离的结构;(7)去除晶圆表面的光刻胶,得到高度均匀,表面平坦光滑的结构。
  • 一种铜铜键合凸点制作方法
  • [发明专利]铟铁复合晶压电盘-CN202110717052.0有效
  • 林绍义;林雪莲;林逸彬 - 福建船政交通职业学院
  • 2021-06-28 - 2023-08-01 - H10N30/85
  • 本发明公开了铟铁复合晶压电盘,本发明的铟铁复合晶压电盘是在压电盘零件表面设一含铟超过60%(Wt%)且含铟和铁共超过70%(Wt%)的复合材料层,在复合材料层表面设有许多个晶,每个晶高度大于100nm且小于500μm、直径大于100nm且小于500μm的顶部为球状或近似球状、含铟超过60%(Wt%)且含铟和铁共超过70%(Wt%),晶与复合材料层成为一体;零件表面复合材料层和基体材料成为一体;去除各小孔附着的材料层,形成铟铁复合晶压电盘。
  • 铟铁凸点复合压电
  • [发明专利]一种胎压计零件制造工艺-CN202110721497.6有效
  • 林逸彬;林源;林绍义;林雪莲 - 福建船政交通职业学院
  • 2021-06-28 - 2023-03-24 - B60C23/04
  • 本发明公开了一种胎压计零件制造工艺,其特征在于:将铟复合织构层裁切,用不大于1N的力将铟复合织构层平整均匀且无皱折铺在胎压计零件凹槽内圆底面、和凹槽内圆侧面,涂胶固定侧面;其中铟复合织构层为含铟超过60%(Wt%)且含铁超过8%(Wt%)且含铟和铁共超过70%(Wt%)的复合材料层,在复合材料层表面设有许多个晶,每个晶高度大于100nm且小于500μm、直径大于100nm且小于500μm的顶部为球状或近似球状、含铟超过60%(Wt%)且含铁超过8%(Wt%)且含铟和铁共超过70%(Wt%),晶与复合材料层成为一体;装配过程将具有晶朝向凹槽;去除各小孔附着,制成一种胎压计零件
  • 一种胎压计零件制造工艺
  • [发明专利]电子封装用高共面度锡合金点阵列直接打印装置及方法-CN202211297440.9在审
  • 罗俊;吴浪;齐乐华;周怡 - 西北工业大学
  • 2022-10-21 - 2023-04-07 - C23C4/123
  • 本发明一种电子封装用高共面度锡合金点阵列直接打印装置及方法,属于电子封装用锡合金点阵列制备领域;包括均匀锡合金滴喷射装置、域加热组件、高度检测装置和点阵列成型平台;均匀锡合金滴喷射装置通过喷嘴将锡合金滴喷射到基板上,形成;高度检测装置设置于基板的外侧,用于检测高度并对域加热组件发出控制信号;域加热组件安装于匀锡合金滴喷射装置的喷嘴上,包括高度微调装置和域加热装置,通过高度微调装置调节域加热装置与基板之间的距离;通过域加热装置对顶部进行局部加热融化,调整其初始振荡高度,以有效地降低高度误差,进而实现在常温基板上一步打印成形高共面度锡合金点阵列之目的。
  • 电子封装用高共面度锡合金阵列直接打印装置方法
  • [发明专利]一种带弹性导电的互连基板和基于其的KGD插座-CN202011053228.9有效
  • 李宝霞 - 珠海天成先进半导体科技有限公司
  • 2020-09-29 - 2023-08-01 - G01R1/04
  • 本发明公开了一种带弹性导电的互连基板和基于其的KGD插座,属于先进电子封装技术领域。本发明通过在带弹性导电的互连基板中构建三维金属电互连的电通路结构、以及导电弹性和第一弹性之间的共面结构,实现了基于其的KGD插座中,能够配合采用芯片倒装技术实现被测芯片在KGD插座内的高精度定位放置,能够达到芯片或芯片焊盘与带弹性的互连基板上的导电弹性实现高效且高密度的电互连作用;同时,避免了后续与芯片倒装的配合使用受力中在芯片留下划痕,也避免了芯片的相对移动或脱落,解决了目前
  • 一种弹性导电微凸点互连基于kgd插座
  • [发明专利]一种多芯片上多尺寸的制备方法-CN202111370657.3在审
  • 袁渊 - 中国电子科技集团公司第五十八研究所
  • 2021-11-18 - 2022-02-25 - H01L21/60
  • 本发明公开一种多芯片上多尺寸的制备方法,属于集成电路封装领域。将多颗需要制备的芯片装载在临时键合膜上;将装载在临时键合膜上的多颗芯片注塑成型,重构形成圆片;将圆片上的临时键合膜进行解键合后,根据不同芯片的焊盘尺寸,在重构后芯片的焊盘上形成不同开口尺寸的钝化层;进行种子层溅射,为后续电镀工艺形成导电层,并提升电镀的质量;利用光刻胶在开口的焊盘上图像化出不同尺寸所需的电镀空间;通过一次电镀完成重构后芯片上不同尺寸的;依次去除图像化后的光刻胶和种子层;将重构圆片进行回流,完成不同尺寸的制备;将圆片减薄后切割形成单颗芯片,最终完成多芯片上不同尺寸的制备。
  • 一种芯片尺寸微凸点制备方法
  • [发明专利]铟复合织构包激光晶体工艺-CN202110718173.7在审
  • 林逸彬;黄如娟;林绍义;林雪莲 - 福建船政交通职业学院
  • 2021-06-28 - 2021-10-22 - H01S3/02
  • 本发明公开了铟复合织构包激光晶体工艺,其特征在于:用不大于1N的力将铟复合织构层平整均匀且无皱折包在激光晶体周围,其中铟复合织构层为含铟超过60%(Wt%)且含铁超过8%(Wt%)且含铟和铁共超过70%(Wt%)的复合材料层,在复合材料层表面设有许多个晶,每个晶高度大于100nm且小于500μm、直径大于100nm且小于500μm的顶部为球状或近似球状、含铟超过60%(Wt%)且含铁超过8%(Wt%)且含铟和铁共超过70%(Wt%);将包好的铟复合织构层平整放入激光器结构件的凹槽内,将金属压块压紧在铟复合织构层上方,用激光焊接方式将金属压块与激光器结构件固定一起
  • 复合微晶凸点织构包激光晶体工艺
  • [实用新型]MEMS芯片封装结构-CN201520906871.X有效
  • 万里兮;马力;付俊;翟玲玲 - 华天科技(昆山)电子有限公司
  • 2015-11-13 - 2016-04-27 - B81B7/02
  • 本实用新型公开了一种MEMS芯片封装结构,该封装结构包括MEMS芯片,MEMS芯片功能面上有连接部和密封圈连接部,连接部与MEMS芯片的焊垫电性相连;盖板,其第一表面制作有与密封圈,该盖板通过及密封圈与MEMS芯片对应位置的连接部及密封圈连接部键合,键合密封圈环绕MEMS芯片的功能区,且密封圈外边缘延伸到MEMS芯片的边缘,并与MEMS边缘有第一距离,内嵌在密封圈中,并与密封圈之间有一隔离间隙本实用新型密封圈由芯片功能区的边缘延伸至芯片边缘附近,并与位于其内的隔离的结构,增加了密封圈与MEMS芯片及盖板的黏结面积,从而加强了黏结力,保证了密封能力,并提高抗气压能力,增加可靠性。
  • mems芯片封装结构

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