专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]动态气体隔离装置及光刻设备-CN202310822085.0在审
  • 高梓翔;吴晓斌;王魁波;罗艳;沙鹏飞;韩晓泉;谢婉露;李慧;张良乐 - 中国科学院微电子研究所
  • 2023-07-05 - 2023-10-27 - G03F7/20
  • 本发明提供了一种动态气体隔离装置及光刻设备,涉及光刻技术领域。动态气体隔离装置用于连接于光刻设备的第一工作腔室和第二工作腔室之间,其包括主管道、第一进气组件、第二进气组件以及温度控制组件。主管道两端分别连接第一工作腔室和第二工作腔室;第一进气组件和第二进气组件均连接于主管道;由进入到主管道内的第一清洁气体和第二清洁气体通过气体分子间的碰撞来抑制污染物在第一工作腔室和第二工作腔室间的流通;同时,通过温度控制组件对第二进气组件的进气温度进行控制,使得第一清洁气体与第二清洁气体进行混合冷却后再进入到第二腔室内,避免气体温度过高而导致衬底升温,进而防止产生套刻误差,保证了芯片的制造质量和可靠性。
  • 动态气体隔离装置光刻设备
  • [发明专利]一种环栅晶体管-CN202311161002.4在审
  • 李永亮;雒怀志 - 中国科学院微电子研究所
  • 2023-09-08 - 2023-10-27 - H01L29/78
  • 本发明公开了一种环栅晶体管,涉及半导体技术领域,用于增强栅堆叠结构对每层纳米结构沿长度方向两侧边缘部分的控制能力,利于提升环栅晶体管的驱动性能。所述环栅晶体管包括:半导体基底、源区、漏区、至少一层纳米结构、栅堆叠结构和内侧墙。上述源区、漏区和至少一层纳米结构形成在半导体基底上。至少一层纳米结构位于源区和漏区之间。栅堆叠结构环绕在每层纳米结构的外周。内侧墙位于栅堆叠结构与源区之间、以及栅堆叠结构与漏区之间。内侧墙具有靠近栅堆叠结构的内侧壁,内侧壁沿栅堆叠结构宽度方向的中部区域的表面相对于边缘区域的表面向内凹入或向外凸出。
  • 一种晶体管
  • [发明专利]一种金属网栅的网格图形设计方法及相关设备-CN202210395523.5在审
  • 胡震恒;李超波;解婧;孙大鹏 - 中国科学院微电子研究所
  • 2022-04-14 - 2023-10-27 - G06F30/18
  • 本申请公开一种金属网栅的设计方法及相关设备,涉及电磁屏蔽技术领域,能够改善透过可见光的不均匀高级次衍射分布的问题,弱化甚至消除透过可见光的图形化成像,提高透光成像质量,改善透光效果。金属网栅的网格图形设计方法,包括:以目标金属网栅表面的几何中心点为原点,构建坐标系,以得到周期性排列的多个预设网格对应的多个预设中心坐标,其中,所述预设中心坐标为所述预设网格的几何中心点的坐标;对所述预设中心坐标进行随机化处理,得到目标网格中心坐标;将相邻所述目标网格中心坐标之间连线的中垂线作为目标网格的边线,以得到目标网格图形,其中,所述边线相交形成的封闭图形为所述目标网格,多个所述目标网格形成所述目标网格图形。
  • 一种金属网网格图形设计方法相关设备
  • [发明专利]一种光纤孔倒角的制造方法及其制造设备-CN202211169716.5有效
  • 李朋;侯煜;张昆鹏;石海燕;李曼;岳嵩;王然;张喆;文志东;薛美;张紫辰 - 中国科学院微电子研究所
  • 2022-09-23 - 2023-10-27 - G02B6/36
  • 本发明提供了一种光纤孔倒角的制造方法及其制造设备,该制造方法通过先采用激光加工+湿法刻蚀工艺在玻璃基板内形状有至少一个倒角直通孔;之后采用激光热加工工艺,加热每个倒角直通孔与对应光纤孔连接处的玻璃基材,使其坍塌后形成截面为弧形的倒角曲面;再采用激光热加工工艺,加热每个倒角直通孔与对应光纤孔连接处的玻璃基材,使其坍塌后形成截面为弧形的倒角曲面;最后对倒角直通孔、倒角曲面及倒角外扩孔的表面进行抛光处理。能够实现微小端口倒角的加工。而且随着激光光束焦点大小的变化,能够进一步缩小加工尺寸,并且无机械应力式加工工艺,能够减小刀具加工玻璃基材时容易带来的脆性样品崩裂概率,从而增加成品率及良率。
  • 一种光纤倒角制造方法及其设备
  • [发明专利]一种半导体器件的制造方法-CN202310878725.X在审
  • 李永亮;赵飞;罗军;王文武 - 中国科学院微电子研究所
  • 2023-07-17 - 2023-10-24 - H01L21/8238
  • 本发明公开了一种半导体器件的制造方法,涉及半导体技术领域,以降低CFET器件的集成难度,提高CFET器件的良率。所述半导体器件的制造方法包括:在半导体基底上形成依次层叠设置的至少一层叠层、半导体隔离层和半导体层。在半导体层上依次形成材料不同的第一掩膜图案和第二掩膜图案。在第一掩膜图案和第二掩膜图案的掩膜作用下,至少对层叠设置的至少一层叠层、半导体隔离层和半导体层进行图案化处理。去除第一掩膜图案;并在第二掩膜图案的掩膜作用下,至少对半导体层进行图案化处理。基于第一鳍状结构制造具有[100]晶向的沟道的N型环栅晶体管;并基于第二鳍状结构制造具有[110]晶向的沟道的P型环栅晶体管。
  • 一种半导体器件制造方法
  • [发明专利]精密转台误差测量装置-CN202210381695.7在审
  • 王国名;王博;程智;石俊凯;崔成君;董登峰;朱志忠;周维虎;梅东滨 - 中国科学院微电子研究所
  • 2022-04-12 - 2023-10-24 - G01C25/00
  • 本发明提供一种精密转台误差测量装置,包括:两个复合靶标,用于分别设置在待测转台的两个旋转轴上;每个所述复合靶标能对第一波长激光进行镜面反射和对第二波长激光进行角锥反射器反射;两个测量组件,用于分别对应两个复合靶标设置;所述测量组件能向对应的复合靶标发射具有第一波长激光和第二波长激光的测量光束,接收对应复合靶标反射的第一波长激光并标定对应旋转轴的角度,接收对应复合靶标反射的第二波长激光并标定对应旋转轴的位移。本发明提供的精密转台误差测量装置,采用双站基准,由两个测量组件搭建垂直度和相交度测量基准,能够实现待测二维转台垂直度和相交度误差的一站式高精度检测,解决垂直度和相交度分离测量时过程误差不可控难题。
  • 精密转台误差测量装置

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