[发明专利]LED聚光光源及使用LED聚光光源的曝光光源系统在审
| 申请号： | 201811016219.5 | 申请日： | 2018-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN109062012A | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 余燕青 | 申请（专利权）人： | 东莞市友辉光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 东莞市创益专利事务所 44249 | 代理人： | 许彬 |
| 地址： | 523000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及LED聚光光源，LED聚光光源器件主体具有前端安装板、驱动板和外壳，前端安装板上安装多个LED灯珠，LED灯珠电性连接驱动板，多个LED灯珠点亮后在设计焦点叠加集合成聚光光源的光斑。使用LED聚光光源的曝光光源系统中，光斑经过蝇眼透镜组积分分配，形成均匀多点光源，冷镜吸收蝇眼透镜组透射的多点光源，反射到球面镜上，球面镜吸收多点光源反射积分形成面光源，投射到工作台上进行曝光作业。本发明利用多个LED的发光点叠加集合成聚光光源的光斑，达到曝光要求的光照强度，解决了灯珠衰减不一致或某个LED灯失效而导致的曝光作业问题，获得均匀的曝光光源，提升曝光效率，适合柔性精细线路制作。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 光斑 多点光源 曝光光源 前端安装板 蝇眼透镜组 聚光光源 球面镜 驱动板 曝光 反射 叠加 集合 电性连接 光源器件 精细线路 曝光效率 作业问题 不一致 发光点 形成面 投射 透射 灯珠 点亮 冷镜 衰减 吸收 光照 焦点 分配 制作 | ||
【主权项】：
1.LED聚光光源，包括LED聚光光源器件主体（1），其特征在于：该LED聚光光源器件主体（1）具有前端安装板（11）、驱动板（13）和外壳（14），外壳（14）提供前端安装板（11）和驱动板（13）的安装位，前端安装板（11）上安装多个LED灯珠（12），LED灯珠（12）电性连接驱动板（13），多个LED灯珠（12）点亮后在设计焦点叠加集合成聚光光源的光斑。
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- 本实用新型公开了一种稳压晒版机，包括机体，机体的顶部安装有盖板，盖板与机体的两侧均设置有伸缩杆，机体的前端面设置有操作台，操作台的顶部设置有控制面板，盖板的一端设置有把手，且把手位于操作台的顶部，机体的一侧设置有真空泵，机体的后端面设置有连接块。本实用新型通过在机体的内部两侧灯管与电源的连接处设置稳压二极管，使晒晒版机在一定程度上具有自动稳压的性能，避免由于电压过大造成机器损伤，影响工作效率，加强了安全性，由于灯管容易受到强光的腐蚀影响灯管的发光效率和使用寿命，在盖板的顶部涂覆有抗紫外线涂料，充分的保护了灯管的抗辐射性，同时也起到了防尘的作用，还具有消音的功效。
- 光刻设备以及使用光刻设备制造器件的方法-201580036436.9
- G·L·加托比吉奥;E·H·E·C·尤梅伦;R·奥莱斯拉格斯;G·皮特塞;C·M·洛普斯;L·J·A·范博克霍温 - ASML荷兰有限公司
- 2015-06-01 - 2019-11-01 - G03F7/20
- 一种光刻设备包括用于将图案化的辐射束投影到衬底上的投影系统以及被配置为将浸没流体限制在投影系统和衬底的表面之间的局部区域中的流体限制结构。光刻设备被配置为具有这样的空间：该空间在一侧由投影系统和光刻设备的至少部分地包围投影系统的最终元件的部件中的至少一个的表面界定以及在另一侧由流体限制结构的表面界定。该设备被配置为使空间内的气体的湿度最大化。
- 一种LED与复眼透镜结合的照明组件-201920081950.X
- 霍锦充;江晟 - 东莞王氏港建机械有限公司
- 2019-01-17 - 2019-10-29 - G03F7/20
- 本实用新型公开了一种LED与复眼透镜结合的照明组件，包括LED灯层和复眼透镜层，LED灯层包括散热面和光源面，复眼透镜层位于光源面的前端；复眼透镜层包括第一复眼透镜层和第二复眼透镜层；LED灯层还包括冷却装置，冷却装置与散热面相接触；冷却装置包括外壳、若干个冷却水进水接口和若干个冷却水出水接口；散热面安装在外壳内，光源面露出外壳，若干个冷却水进水接口和若干个冷却水出水接口均设置在外壳上。通过LED灯层与两层复眼透镜层结合组成均匀照明曝光的光学元件，以保证曝光机的均匀性，当其中一颗LED灯珠、多颗灯珠或者一组灯珠损坏时，都不会影响其均匀性，可以保持均匀性，使设备提高产品的质量和降低客户报废产品的风险。
- 印花机的曝光装置-201920321387.9
- 王科 - 杭州易染数码科技有限公司
- 2019-03-14 - 2019-10-29 - G03F7/20
- 本实用新型公开了一种印花机的曝光装置，包括机架，所述机架的两侧对称设有支架，支架之间设有滑轨，滑轨上设有滑块；所述曝光机构包括固定在滑块顶部的曝光组件所述滑块上方设有顶盖，顶盖上嵌设有与镜筒支座对应的透镜，顶盖在位于透镜的外围设有环形定位块，环形定位块内设有风腔，所述环形定位块的内侧壁上设有沿透镜周边分布的且与风腔连通的出风嘴，所述顶盖的上部设有安装腔，安装腔内设有气泵，空气制冷组件以及灰尘过滤筒。本实用新型通过出风嘴在透镜前形成风墙，来对曝光过程中产生的挥发性气体进行隔离，有效避免了挥发性气体在光学透镜上形成雾化，确保了能够长时间进行曝光工作，提高了曝光装置的使用寿命。
- 一种无掩光刻镜头对焦系统-201920325754.2
- 徐占辉;张晓辉;刘涛;刘景华;尹建刚;高云峰 - 大族激光科技产业集团股份有限公司
- 2019-03-14 - 2019-10-29 - G03F7/20
- 本实用新型提供了一种无掩光刻镜头对焦系统，包括光源、分光镜、反射型光调制器、光刻镜头以及光强测试模块；分光镜用于将光源出射的输出光线透射到反射型光调制器上，以及用于将反射型光调制器反射的测试光线反射向光强测试模块；反射型光调制器设置在光刻镜头的一焦平面上；反射型光调制器用于将分光镜透射的输出光线反射到光刻镜头中，以及用于将光刻镜头聚焦的测试光线反射向分光镜；光刻镜头用于将反射型光调制器反射的输出光线聚焦到感光基板上，以及用于将感光基板反射的测试光线聚焦至反射型光调制器；光强测试模块用于测试光强，实现对无掩光刻镜头进行快速对焦，提高无掩光刻镜头对焦精度以及减少显影耗材消耗。
- 专利分类
