“G03F7/20”专利分类搜索_专利查询_文献下载_出售_求购_买卖_交易

钻瓜专利网为您找到相关结果13351个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]用于激光直写曝光机的光源控制方法及系统-CN202310838421.0在审
发明人：李显杰;何先福;吴长江;刘世林 -专利权人：江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-07-10 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了用于激光直写曝光机的光源控制方法及系统，属于曝光设备领域。所述系统包括：光源控制模块和光源模块，所述光源模块包括多个光源驱动器和对应的光源，光源控制命令和光源同步命令输入光源控制板，所述光源控制板接收命令后，通过板卡内的处理芯片进行命令解析，经过数据解析后产生多组固定时延的同步信号，输出的同步控制信号分别用于控制所述光源驱动器，并进行脉冲控制信号和恒流源控制信号的切换；本发明的用于激光直写曝光设备的光源控制方式，可以有效地解决光源同步，提升了设备的光源使用率，降低光源寿命成本，提升了解析能力和图形边框毛刺降低了补偿难度和报废率。
用于激光曝光光源控制方法系统

[发明专利]一种应用于非平整平面的近场接触式光刻方法-CN202310954680.X在审
发明人：杨爱国;李一鸣 -专利权人：浙大宁波理工学院
申请日： 2023-07-31 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种应用于非平整平面的近场接触式光刻方法，包括以下步骤：把配置好的固化剂‑聚二甲基硅氧烷(PDMS)混合物涂敷在平整石英片上，固化，涂光刻胶，曝光，显影，淀积金属，去胶，形成软光刻版；再在非平整平面衬底上涂敷光刻胶，把软光刻版压在非平整平面衬底上，然后曝光，显影，刻蚀，完成目标图形转移。本发明提出的方法，通过制备出软光刻版，能够简单、便捷地将目标图形转移到非平整平面衬底上，并且制好的软光刻版可以重复使用，节省了成本。
一种应用于平整平面近场接触光刻方法

[发明专利]用于表征半导体制造过程的方法和装置-CN202280019816.1在审
发明人： N·W·克莱因·科尔坎普;M·豪普特曼;A·凯瓦尼·简巴韩;王静超 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2022-02-07 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：用于表征在衬底上执行的半导体制造过程的方法和装置。获得在第一处理步骤之后测量的、与衬底的指纹数据相关联的第一数据。获得在第二过程步骤之后测量的、与衬底的指纹数据相关联的第二数据。统计模型被用于将第一数据和第二数据分解为在第一数据和第二数据之间互相关的第一类指纹成分以及在第一数据和第二数据之间不互相关的第二类指纹成分。第一类指纹成分和第二类指纹成分中的至少一个指纹成分被用于表征半导体制造过程。
用于表征半导体制造过程方法装置

[发明专利]一种无掩膜曝光方法及曝光装置-CN202310814692.2在审
发明人：李显杰;钱文欢;袁征;钱聪 -专利权人：江苏影速集成电路装备股份有限公司
申请日： 2023-07-04 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种无掩膜曝光方法及曝光装置，属于曝光技术领域。该方法通过识别曝光图档中的数据，当曝光图形存在很多纵向空白时，直接跳过这些空白，只进行有效图形的扫描曝光，从而有效节省扫描行程，提升产能，根据待曝光图形的复杂程度，能够提升产能10％～50％。
一种无掩膜曝光方法装置

[发明专利]光刻投影物镜及光刻机-CN202210384013.8在审
发明人：侯宝路;王进霞;王彩红;王彦飞;王锋;李运锋 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2022-04-12 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻投影物镜，包括沿光轴顺次排列的第一镜组、第二镜组、第三镜组、第四镜组和第五镜组，所述第一镜组的光焦度#imgabs0#第二镜组的光焦度#imgabs1#第三镜组的光焦度#imgabs2#第四镜组的光焦度#imgabs3#和第五镜组的光焦度#imgabs4#满足#imgabs5##imgabs6#在满足高曝光分辨率的基础上可以减少透镜数量和非球面镜的数量，降低光刻投影物镜的设计成本及制造周期，提高产品市场竞争力；同时，通过正、负相间的光焦度组合，提高光刻投影物镜的像质校正能力，进而提高曝光成像质量，实现更小的曝光分辨率和CDU。相应的，本发明还提供了一种光刻机。
光刻投影物镜

[发明专利]动态气体隔离装置及光刻设备-CN202310822085.0在审
发明人：高梓翔;吴晓斌;王魁波;罗艳;沙鹏飞;韩晓泉;谢婉露;李慧;张良乐 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2023-07-05 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种动态气体隔离装置及光刻设备，涉及光刻技术领域。动态气体隔离装置用于连接于光刻设备的第一工作腔室和第二工作腔室之间，其包括主管道、第一进气组件、第二进气组件以及温度控制组件。主管道两端分别连接第一工作腔室和第二工作腔室；第一进气组件和第二进气组件均连接于主管道；由进入到主管道内的第一清洁气体和第二清洁气体通过气体分子间的碰撞来抑制污染物在第一工作腔室和第二工作腔室间的流通；同时，通过温度控制组件对第二进气组件的进气温度进行控制，使得第一清洁气体与第二清洁气体进行混合冷却后再进入到第二腔室内，避免气体温度过高而导致衬底升温，进而防止产生套刻误差，保证了芯片的制造质量和可靠性。
动态气体隔离装置光刻设备

[发明专利]一种LDI聚焦系统-CN202311060717.0在审
发明人：李显杰;徐广峰;卞钦巍;陈海巍 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2023-08-21 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种LDI聚焦系统，涉及直写曝光技术领域，该方法包括上位机、运动平台以及设置在运动平台上的对准相机、对准镜筒、光源和测距传感器。其中，对准镜筒的顶部与对准相机相接，对准镜筒的底部固定有光源，测距传感器固定在光源上；运动平台用于承载PCB并带动其沿z轴方向移动，测距传感器用于检测PCB相对于自身的距离。上位机与运动平台、对准相机和测距传感器连接，上位机根据测距传感器反馈的数据判定当前PCB的mark标记是否在对准镜筒的焦面内，不在则控制运动平台移动，直至对准相机重新聚焦到mark标记。解决了因板材曲翘或者机械结构形变导致的焦面不对的问题，满足PCB行业产能的要求。
一种 ldi 聚焦系统

[发明专利]曝光机-CN202311084969.7在审
发明人：项宗齐;汪涛;刘国藩 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-08-25 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光机，包括：曝光装置，所述曝光装置包括：两个曝光组件，两个所述曝光组件沿第一方向相对设置，两个所述曝光组件对料带同步进行双面曝光；传输装置，所述传输装置包括：至少两个第一滚轮，至少两个所述第一滚轮沿高度方向间隔设置且分别位于两个所述曝光组件的上下两侧，以用于输送所述料带在两个所述曝光组件之间沿高度方向运动。其中，料带在两个曝光组件之间沿高度方向运动，避免料带悬空因重力变形，导致曝光组件离焦；两个曝光组件对料带在第一方向的两个侧面进行双面同步曝光。
曝光

[发明专利]验证利用AEI OVL补偿套刻精度是否有效的方法-CN202310835866.3在审
发明人：姜冒泉;金乐群;李玉华;陈建;李锦茹 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2023-07-07 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请提供一种验证利用AEI OVL补偿套刻精度是否有效的方法，包括：若显影后套刻标记图形和刻蚀后套刻标记图形存在所述补偿偏差，则套刻偏差；获取特征图形偏差；根据套刻偏差和特征图形偏差，进行点对点建模以得到拟合曲线，并获取拟合曲线的K值和相关系数R2；根据相关系数R2以及K值，判断利用AEI OVL来补偿套刻精度的方式是否有效。本申请通过套刻偏差和特征图形偏差建模得到拟合曲线，并通过拟合曲线的相关系数R2和K值，判断利用AEI OVL来补偿套刻精度的方式是否有效，确保基于AEI OVL量测反馈的准确性和可靠性，从而改善图层最终真实套刻精度。
验证利用 aei ovl 补偿精度是否有效方法

[发明专利]匹配工具的系统及方法-CN202310705542.8在审
发明人：黄实权;王圣闵;张世明;谢艮轩 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2023-06-14 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开涉及匹配工具的系统及方法。在一种匹配工具的方法中，判断至少两个曝光机工具的至少两个光学系统的多个像差映图。借由使用至少两个曝光机工具中的每一者的光学系统将第一布局图案分别投影至基板，以产生光阻图案。基于所判断的至少两个光学系统的像差映图，调整上述至少两个光学系统的至少一个泽尼克系数，以最小化每个各自的基板上的光阻图案的第一区中的关键尺寸变异。
匹配工具系统方法

[发明专利]校正方法、曝光方法、物品的制造方法、存储介质、光学装置以及曝光装置-CN202310445537.8在审
发明人：崔长植;张劬 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2023-04-24 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及校正方法、曝光方法、物品的制造方法、存储介质、光学装置及曝光装置。校正方法通过驱动多个机构来校正在被成像面上成像图案的光学系统的成像误差，包括：获取工序，针对所述多个机构的各个，获取表示所述光学系统的成像相对于机构的驱动的变化程度的成像灵敏度矩阵；决定工序，通过求解规定将针对所述多个机构的各个在所述获取工序中获取的所述成像灵敏度矩阵作为矩阵元素的第1矩阵、将针对所述多个机构的各个的目标驱动量作为矩阵元素的第2矩阵及由所述成像误差的信息构成的第3矩阵的关系的方程式，针对所述多个机构的各个决定所述目标驱动量；驱动工序，按照在所述决定工序中决定的所述目标驱动量驱动所述多个机构的各个。
校正方法曝光物品制造存储介质光学装置以及

[发明专利]一种活动连接组件及宏微结合的垂向定位装置-CN202311204515.9在审
发明人：禹洪亮;江旭初;吴火亮;唐艳文 -专利权人：上海隐冠半导体技术有限公司
申请日： 2023-09-19 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种活动连接组件及宏微结合的垂向定位装置，该活动连接组件包括第一连接单元、第二连接单元及第三连接单元，每一连接单元均由顶板与顶头构成且三者连接单元的结构均不相同，能够实现对被支撑件与支撑件之间的稳定活动连接，在配合驱动组件作用时，能够驱动被支撑件相对于支撑件作自由度确定的微小运动，实现对被支撑件的垂向高度和水平度调整。该垂向定位装置包括宏动模块及微动模块，其中，宏动模块包括底座组件、下楔形块组件、上楔形块组件及宏动驱动组件，微动模块包括垂向微动板及微动驱动组件，微动驱动组件包括上述的活动连接组件，该垂向定位装置整体结构扁平紧凑，具有高刚性、高到位稳定性、抗电磁干扰及高负载能力。
一种活动连接组件结合定位装置

[发明专利]确定光刻工艺窗口的方法、装置、存储介质及电子设备-CN202311222006.9在审
发明人：马春雨;陈冠中;聂方园 -专利权人：合肥晶合集成电路股份有限公司
申请日： 2023-09-21 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种确定光刻工艺窗口的方法、装置、存储介质及电子设备。该方法包括：根据焦距能量矩阵和目标光刻图案的关键尺寸确定目标曝光条件；根据目标曝光条件和预设步进量确定多个第一曝光条件和多个第二曝光条件，以使得曝光设备根据目标曝光条件和多个第一曝光条件对第一晶圆进行曝光，以及根据目标曝光条件和多个第二曝光条件对第二晶圆进行曝光；获取第一晶圆在曝光过程中的多个第一目标焦距和第二晶圆在曝光过程中的多个第二目标焦距；根据目标曝光条件的目标曝光能量和多个第一目标焦距确定第一晶圆的第一光刻工艺窗口，并根据目标曝光条件的目标曝光能量和多个第二目标焦距确定第二晶圆的第二光刻工艺窗口。
确定光刻工艺窗口方法装置存储介质电子设备

[发明专利]灯保持用盒体及利用灯保持用盒体的曝光装置用光源-CN202011171828.5有效
发明人：松本弘 -专利权人：凤凰电机公司
申请日： 2020-10-28 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供一种灯保持用盒体，即使在将多个灯彼此紧密配置的情况下，附近的灯、到该灯的布线也不易造成干扰，灯的安装作业变得容易，且能够降低灯无法安装于适当的位置的风险。将灯保持用盒体(10)至少利用第一主体部(12)以及第二主体部(14)来构成。在第一主体部(12)以及第二主体部(14)，分别形成有供多个灯(L)安装的多个灯安装凹部(20)。第一主体部(12)的第一侧面(26)与第二主体部(14)的第二侧面(28)相配合而能彼此接合。
保持用盒体利用曝光装置用光

[发明专利]控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机-CN202111235304.2有效
发明人：赵美云 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2021-10-22 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了控制直写式光刻机的方法和直写式光刻机，直写式光刻机包括空间光调制器件，方法包括：获取原始光刻图形；获得用于本次曝光的形变后光刻图形，并提取其中的第二特征图形数据单元；查询预存的数据仓库；确定数据仓库中存在同类型的目标形变后光刻图形；将第二特征图形数据单元与数据序列中的第三特征图形数据单元进行比对；确定存在与第二特征图形数据单元可相互替换的目标第三特征图形数据单元，将对应的空间光调制器件所需数据转换为第二特征图形数据单元对应的空间光调制器件目标数据；控制直写式光刻机的空间光调制器件。本发明的控制直写式光刻机的方法处理时间短，可通过软件实现对数据的处理，提升了直写式光刻机的产能。
控制直写式光刻方法

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 13351 条