专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光加工装置-CN202180094408.8在审
  • 须藤健太 - 株式会社尼康
  • 2021-02-26 - 2023-10-20 - B23K26/064
  • 本发明提供一种光加工装置,包括:整合元件,整合第一波长的第一光束的第一光路、与波长较第一波长还长的第二波长的第二光束的第二光路;聚光光学系统,具有正的折射力,且使来自整合元件的第一光束与第二光束分别朝向被加工物聚光;以及校正光学系统,具有负的折射力,校正光学系统配置于整合元件的入射侧的第一光路,第一光束及第二光束的其中一方的光束是对被加工物进行加工的光束,第一光束及第二光束的另一方的光束是对被加工物进行测量的光束。
  • 加工装置
  • [发明专利]变倍光学系统以及光学设备-CN202080087988.3有效
  • 村谷真美 - 株式会社尼康
  • 2020-12-02 - 2023-10-20 - G02B15/20
  • 变倍光学系统(ZL)由前组(GA)和后组(GB)构成,后组(GB)具有第1对焦透镜组(GF1)和第2对焦透镜组(GF2),在从无限远物体向近距离物体进行对焦时,前组(GA)相对于像面固定,第1对焦透镜组(GF1)与第2对焦透镜组(GF2)分别以不同的轨迹沿着光轴移动,且该变倍光学系统(ZL)满足以下的条件式:0.25βF1t/βF1w2.000.25βF2w/βF2t2.00其中,βF1t:远焦端状态下的第1对焦透镜组(GF1)的倍率,βF1w:广角端状态下的第1对焦透镜组(GF1)的倍率,βF2t:远焦端状态下的第2对焦透镜组(GF2)的倍率,βF2w:广角端状态下的第2对焦透镜组(GF2)的倍率。
  • 光学系统以及光学设备
  • [发明专利]图案描绘装置及图案描绘方法-CN202110922904.X有效
  • 加藤正纪;中山修一 - 株式会社尼康
  • 2017-05-15 - 2023-10-20 - G03F7/20
  • 本发明的图案描绘装置(EX)具备:位置计测部(MU),其计测应藉由多个描绘单元(Un)描绘的基板(P)上的被曝光区域的位置;第1调整构件(HVP),其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案相对于被曝光区域的位置误差减少,而根据利用位置计测部(MU)计测出的位置对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中于第2方向上进行调整;及第2调整构件(AOM1),其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案于第2方向上的接合误差减少,而对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中以高于第1调整构件(HVP)的响应性在第2方向上进行调整。
  • 图案描绘装置方法
  • [发明专利]摄像元件及摄像元件的制造方法-CN201780071882.2有效
  • 中山智史;安藤良次 - 株式会社尼康
  • 2017-12-26 - 2023-10-20 - H01L27/146
  • 本发明提供一种摄像元件,其具备:第一导电类型的基板(10);第一导电类型的元件形成部(20),其设于基板上且与基板相比为轻掺杂;和多个像素部(30),其设于元件形成部上,分别具有受光元件(32)和设于与受光元件不同的区域内的第二导电类型的载流子吸收部(80),且该多个像素部排列成二维状,多个像素部中的至少一个像素部具有:第一导电类型的第一壁部(41),其以在多个像素部的排列方向上与受光元件的至少一部分重叠的方式与受光元件相比设于基板侧,且与基板相比为重掺杂;和载流子通过区域(Rcp),其在多个像素部的排列方向上未设有第一壁部。
  • 摄像元件制造方法
  • [发明专利]振动波马达及光学设备-CN201880067160.4有效
  • 芦泽隆利 - 株式会社尼康
  • 2018-10-17 - 2023-10-17 - H02N2/12
  • 振动波马达具有:通过电压的施加而位移的元件;以及圆环状的弹性体,其具有与上述元件接触的底面及具有沟槽的驱动面,且通过因上述元件的位移而在上述驱动面产生了的振动波来驱动动子,上述元件的密度为4.2~6.0×103kg/m3,并且在将上述沟槽的深度设为T、将从上述沟槽的底部至上述底面为止的距离设为B、且将上述弹性体的直径方向的宽度设为W时,[(T/B)÷W]的值为0.84~1.94的范围。
  • 振动马达光学设备
  • [发明专利]变倍光学系统以及光学设备-CN202080089278.4有效
  • 大竹史哲 - 株式会社尼康
  • 2020-11-11 - 2023-10-03 - G02B15/20
  • 本发明由从物体侧依次在光轴上排列配置的具有正的光焦度的第1透镜组(G1)以及具有多个透镜组的后组(GR)构成,在从广角端向远焦端进行变倍时,第1透镜组(G1)与后组(GR)之间的间隔变化,构成后组(GR)的多个透镜组彼此之间的间隔变化,后组(GR)从物体侧依次具备具有负的光焦度的第1对焦透镜组(GF1)以及具有负的光焦度的第2对焦透镜组(GF2),在从无限远对焦到近距离位置时,第1对焦透镜组和第2对焦透镜组都在光轴上向像侧移动,且满足以下的条件式:0.000(MWF1/MTF1)/(MWF2/MTF2)0.500其中,MWF1:在广角端状态下从无限远对焦到近距离位置时的第1对焦透镜组的移动量,MTF1:在远焦端状态下从无限远对焦到近距离位置时的第1对焦透镜组的移动量,MWF2:在广角端状态下从无限远对焦到近距离位置时的第2对焦透镜组的移动量,MTF2:在远焦端状态下从无限远对焦到近距离位置时的第2对焦透镜组的移动量,关于移动量,全部将向像侧的移动设为正。
  • 光学系统以及光学设备
  • [发明专利]曝光系统、曝光装置以及曝光方法-CN202080021585.9有效
  • 川上雄介;布川泰辉 - 株式会社尼康
  • 2020-03-18 - 2023-10-03 - G03F7/20
  • [课题]在对具有感光性保护基团的化合物的层进行曝光而形成亲液/疏液图案后、在形成布线图案前,判断保护基团的脱离是否充分。[解决手段]一种曝光系统,其是对基板上的包含感光性保护基团的层进行曝光,在层中形成包含亲液区域和疏液区域的亲液/疏液图案的曝光系统,其中,具备:曝光装置,对层进行曝光;检查装置,以非接触方式对被曝光装置曝光的区域进行检查;以及控制装置,基于检查装置的检查结果,对曝光系统中包含的装置中的任意一个以上的装置进行控制。
  • 曝光系统装置以及方法

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