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[发明专利]曝光机-CN202311084969.7在审
发明人： 项宗齐;汪涛;刘国藩 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-08-25 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光机，包括：曝光装置，所述曝光装置包括：两个曝光组件，两个所述曝光组件沿第一方向相对设置，两个所述曝光组件对料带同步进行双面曝光；传输装置，所述传输装置包括：至少两个第一滚轮，至少两个所述第一滚轮沿高度方向间隔设置且分别位于两个所述曝光组件的上下两侧，以用于输送所述料带在两个所述曝光组件之间沿高度方向运动。其中，料带在两个曝光组件之间沿高度方向运动，避免料带悬空因重力变形，导致曝光组件离焦；两个曝光组件对料带在第一方向的两个侧面进行双面同步曝光。
曝光

[发明专利]曝光机-CN202310889583.7在审
发明人：程强;项宗齐;汪涛 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-07-19 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光机，包括：壳体、驱动系统、吸附系统、曝光系统和数据处理系统，壳体上设有容纳空间；驱动系统设于容纳空间内；吸附系统用于吸附基板，吸附系统设于驱动系统的自由端；曝光系统与基板相对设置，曝光系统设于驱动系统上；数据处理系统与驱动系统连接，数据处理系统用于控制驱动系统上吸附系统和曝光系统的相对位置以实现对于基板的曝光处理。这样，在曝光机的工作过程中，能够直接通过数据处理系统控制驱动系统的使用以实现对于基板曝光处理，能够在曝光机的结构中节省掩膜板的设置，从而简化曝光机的结构，降低曝光机的生产成本。
曝光

[发明专利]一种直写曝光机的吸盘系统-CN202310524163.9在审
发明人：汪涛;项宗齐;程强 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-05-09 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及直写光刻技术领域，具体公开了一种直写曝光机的吸盘系统，包括用于吸附待加工面板的吸附模块，另外还包括顶升模块、支撑组件以及定位模块。本发明通过顶升模块将面板平稳放置到吸附模块上吸附面，定位模块将面板定位到吸附模块的中央位置，从而通过吸附模块支撑待加工面板完成直写光刻机的曝光操作，由于是可整体做升降运动的顶升模块，无需多个电机分别控制顶升动作，解决了现有第六代TFT‑LCD生产线的直写曝光机的吸盘顶升大多采用多个电机控制顶升板，存在易造成面板破碎的问题，从而提高了实用性。
一种曝光吸盘系统

[实用新型]曝光系统-CN202321072209.X有效
发明人： 项宗齐 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-05-05 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光系统，所述曝光系统包括：曝光装置，所述曝光装置包括：工作台；曝光支架，所述曝光支架可移动地安装于所述工作台，所述曝光支架构造有上支臂和下支臂；上曝光头组件和下曝光头组件，所述上曝光头组件安装于所述上支臂，所述下曝光头组件安装于所述下支臂；吸盘组件，所述吸盘组件安装于所述工作台且位于所述上曝光头组件和所述下曝光头组件之间，所述吸盘组件适于放置并吸附待加工电路板料带；卷绕机构，所述卷绕机构安装于所述吸盘组件和所述曝光支架的两侧。根据本实用新型实施例的曝光系统，曝光稳定性高、精度性高、效率高等优点。
曝光系统

[实用新型]用于卷对卷连续曝光的双运动平台-CN202320575445.7有效
发明人：程强;项宗齐 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-03-22 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： B65H16/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于卷对卷连续曝光的双运动平台，包括支撑座，在所述支撑座上沿着进给方向分别移动设置有两组移动平台；两个所述移动平台均设置有用于夹持卷料的夹持组件；通过两个所述移动平台分别交替地夹持并驱动卷料。该用于卷对卷连续曝光的双运动平台通过两个沿着进给方向交替动作的移动平台实现对卷料的连续输送，对卷料在进给方向与宽度方向的位置控制更加准确，可以避免在曝光过程中由于定位不准造成的曝光不良。其不仅实现了卷料由间歇输送向连续输送的升级，提升了曝光作业的生产效率，而且避免了间歇输送过程中由于周期性停止导致的曝光错位的问题。
用于连续曝光运动平台

[发明专利]曝光设备-CN202310436374.7在审
发明人：叶飞;项宗齐;汪涛 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-04-19 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光设备，曝光设备包括：工作台；曝光支架，曝光支架可移动地安装于工作台，多个上曝光头组件和多个下曝光头组件，多个上曝光头组件安装于上支臂，多个下曝光头组件安装于下支臂；标定支撑架，标定支撑架安装于工作台且部分位于上曝光头组件和下曝光头组件之间；水平标定组件，水平标定组件安装于标定支撑架，多个上曝光头组件和多个下曝光头组件在水平标定组件处校准多个上曝光头组件相对位置以及多个下曝光头组件相对位置；竖直标定组件，竖直标定组件安装于标定支撑架，竖直标定组件用于校准上曝光头组件和下曝光头组件之间的相对位置。根据本发明实施例的曝光设备，具有标定准确、操作方便、有利于实现自动化等优点。
曝光设备

[实用新型]料带支撑装置及双面卷对卷曝光机-CN202320018041.8有效
发明人：叶飞;项宗齐;曲鲁杰 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种料带支撑装置及双面卷对卷曝光机，包括机架，该机架沿长度方向上下布置有第一水平导轨和第二水平导轨；设置在机架中部的第一吸附组件，该第一吸附组件能够沿着第一水平导轨的行程移动并对基材进行吸附；设置在机架中部的第二吸附组件，该第二吸附组件能够沿着第二水平导轨的行程移动并对基材进行吸附；以及设置在机架长度方向两端的端部夹紧机构，该端部夹紧机构对基材的放料端和收料端分别进行夹紧。通过在基材悬空的中间部位设置起支撑作用的吸附组件，还能够对基材进行吸附，并且在基材两端设置端部夹紧机构，从而使得在曝光过程中基材被有效限位，避免在曝光过程中卷式基材由于精密运动平台的运动而产生振动和位移。
支撑装置双面曝光

[实用新型]双面卷对卷激光直写曝光机-CN202320017951.4有效
发明人：叶飞;项宗齐 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种双面卷对卷激光直写曝光机，包括用于对基材进行输送的放卷装置和收卷装置，以及用于对基材进行涨紧悬空的涨紧装置，所述涨紧装置包括支撑机构，该支撑机构通过设置在曝光区域中的多个支撑杆对基材悬空的中间部位进行支撑；通过设置在非曝光区域的吸附装置对基材进行吸附固定；以及设置在侧边对基材进行夹紧的侧面夹紧机构；在支撑杆两端的放料端和收料端分别设置有端部夹紧机构，使得在曝光过程中基材始终被夹紧，避免在曝光过程中卷式基材由于精密运动平台的运动而产生振动和位移，从而影响曝光精度。
双面激光曝光

[发明专利]料带支撑装置、双面卷对卷曝光机及曝光方法-CN202310007185.8在审
发明人：叶飞;项宗齐;曲鲁杰 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种料带支撑装置、双面卷对卷曝光机及曝光方法，包括机架，该机架沿长度方向上下布置有第一水平导轨和第二水平导轨；设置在机架中部的第一吸附组件，该第一吸附组件能够沿着第一水平导轨的行程移动并对基材进行吸附；设置在机架中部的第二吸附组件，该第二吸附组件能够沿着第二水平导轨的行程移动并对基材进行吸附；以及设置在机架长度方向两端的端部夹紧机构，该端部夹紧机构对基材的放料端和收料端分别进行夹紧。通过在基材悬空的中间部位设置起支撑作用的吸附组件，还能够对基材进行吸附，并且在基材两端设置端部夹紧机构，从而使得在曝光过程中基材被有效限位，避免在曝光过程中卷式基材由于精密运动平台的运动而产生振动和位移。
支撑装置双面曝光方法

[发明专利]双面卷对卷激光直写曝光机-CN202310007548.8在审
发明人：叶飞;项宗齐 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-01-04 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种双面卷对卷激光直写曝光机，包括用于对基材进行输送的放卷装置和收卷装置，以及用于对基材进行涨紧悬空的涨紧装置，所述涨紧装置包括支撑机构，该支撑机构通过设置在曝光区域中的多个支撑杆对基材悬空的中间部位进行支撑；通过设置在非曝光区域的吸附装置对基材进行吸附固定；以及设置在侧边对基材进行夹紧的侧面夹紧机构；在支撑杆两端的放料端和收料端分别设置有端部夹紧机构，使得在曝光过程中基材始终被夹紧，避免在曝光过程中卷式基材由于精密运动平台的运动而产生振动和位移，从而影响曝光精度。
双面激光曝光

[实用新型]一种物料分区域吸附装置-CN202223050776.3有效
发明人：于成信;项宗齐 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2022-11-15 - 公布日： 2023-04-11 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本实用新型涉及光刻机设备的技术领域，具体公开了一种物料分区域吸附装置，包括丫叉主体以及设置在丫叉主体上的吸附组件，吸附组件包括分别设置在丫叉主体上表面的多个真空吸盘：丫叉主体底部分布有多条相互独立的气道，气道一端与对应的真空吸盘连通，另一端与对应的气管接头连通，气管接头与用于控制气道的真空通断的多个电磁阀连接。本实用新型通过设置了多个真空吸盘以及多条相互独立的气道，通过电磁阀控制不同气道的真空通断，从而可以实现在同一点位每次取、放多个不同规格的料片，操作方便，解决了现有光刻机物料吸附部件无法满足不同规格物料片在同一装置上达到同时吸附要求的问题，从而提高了实用性。
一种物料区域吸附装置

[发明专利]一种光刻机主动辊式压板机构-CN202011622917.7有效
发明人：刘红现;项宗齐;陈东 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2023-02-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻机主动辊式压板机构，包括压板部，所述压板部包括支撑翼板以及设置于所述支撑翼板下方的胶辊组件；所述胶辊组件包括转轴以及套接于所述转轴上的胶辊，所述转轴两端均通过直线运动装置与所述支撑翼板下端连接，本申请采用辊式压板机构，使用气缸作为动力，通过气缸的伸出，在曝光区域两侧压住PCB板，避免了边缘压板机构导致中间鼓起、曝光区域不平整的现象，同时长辊结构可靠，无悬臂梁式压板机构使用过程中悬臂梁形变风险，整个结构简单，容易实现，而且胶辊可绕自身的转轴旋转，无滑动摩擦，长辊外侧包有不粘油墨的硅胶或橡胶，无损坏PCB板风险。
一种光刻机主动辊式压板机构

[发明专利]一种用于曝光机的曝光光头标定方法及标定装置-CN202110043203.9有效
发明人：程刚;陈东;项宗齐 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2021-01-13 - 公布日： 2023-02-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于曝光机的曝光光头标定方法，包括以下步骤：步骤1、移动光敏标定板至曝光光头下方，然后所有曝光光头在光敏标定板上曝光出标定图案；步骤2、通过对准相机对光敏标定板上的标定图案进行检测；步骤3、根据步骤2中的检测结果计算所有曝光光头的相对位置，进而完成一次曝光光头的位置标定，本申请通过在吸盘上设置有光敏标定板，曝光光头在标定时保持位置不动，所有光头一次性同时在光敏标定板上面爆光出标定图案，然后利用对准相机抓取上述曝光光头在光敏标定板上面爆光的标定图案，以此来计算标定各个曝光光头的相对位置关系，因而避免了曝光光头由于质量很重在移动过程中不可避免的较大运动误差。
一种用于曝光光头标定方法装置

[发明专利]一种激光直写光刻机长辊式压板机构-CN202011626210.3有效
发明人：刘红现;项宗齐;陈东 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2020-12-30 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光直写光刻机长辊式压板机构，包括压板部，压板部包括支撑翼板以及设置于支撑翼板下方的胶辊组件；胶辊组件包括转轴以及套接于转轴上的胶辊，转轴两端均通过线性导向轴与支撑翼板上下滑动连接，线性导向轴下端与转轴固定连接，线性导向轴上端与支撑翼板滑动连接，转轴与支撑翼板之间设置压缩弹簧，压缩弹簧套接于线性导向轴上，本申请采用长辊式压板机构，无需动力，靠吸盘自身运动的力量顶起长辊，在曝光区域两侧压住PCB板，避免了边缘压板机构导致中间鼓起、曝光区域不平整的现象，同时长辊结构可靠，无悬臂梁式压板机构使用过程中悬臂梁形变风险，整个结构简单，容易实现。
一种激光光刻机长压板机构

[发明专利]直写曝光机-CN202010912037.7有效
发明人： 项宗齐 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2020-09-02 - 公布日： 2022-11-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种直写曝光机，所述直写曝光机包括：吸附平台系统；运动平台系统，所述运动平台安装于吸附平台系统；对准系统，所述对准系统安装于所述运动平台系统；电控系统，所述电控系统安装于所述运动平台系统，所述电控系统和所述对准系统电连接；曝光系统，所述曝光系统安装于所述运动平台系统，所述曝光系统和所述电控系统电连接，所述曝光系统包括多个曝光单元，相邻曝光单元之间的间距小于每个曝光单元的宽度。根据本发明实施例的直写曝光机能够一次扫描成型，具有生产效率高、产品质量好等优点。
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