[发明专利]一种曝光机在审
| 申请号： | 201910645184.X | 申请日： | 2019-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN110426921A | 公开（公告）日： | 2019-11-08 |
| 发明（设计）人： | 韩宗范;许俊安;王维;丁仁义;冯超;王抗 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种曝光机，该曝光机用于将电路绘制于玻璃基板上，该曝光机包括：壳体、机械手、保护罩和导流组件，壳体用于为玻璃基板提供密闭的工作环境，机械手固定在壳体内，机械手用于将玻璃基板传递至壳体中的曝光区域处，保护罩罩设在机械手上，导流组件，导流组件的一端与保护罩连接，导流组件的相对一端穿设于壳体，且用于与排风系统连接，其中，在排风系统运行时，排风系统在导流组件中形成负压气流，以将保护罩内的空气抽出。本申请的曝光机能够降低壳体内部中微尘出现的可能性。 | ||
| 搜索关键词： | 导流组件 曝光机 保护罩 壳体 机械手 玻璃基板 排风系统 负压气流 壳体内部 曝光区域 运行时 密闭 穿设 微尘 申请 电路 抽出 绘制 体内 传递 | ||
【主权项】：
1.一种曝光机，所述曝光机用于将电路绘制于玻璃基板上，其特征在于，所述曝光机包括：壳体，用于为所述玻璃基板提供密闭的工作环境；机械手，固定在所述壳体内，所述机械手用于将所述玻璃基板传递至所述壳体中的曝光区域处；保护罩，罩设在所述机械手上；及导流组件，所述导流组件的一端与所述保护罩连接，所述导流组件的相对一端穿设于所述壳体，且用于与排风系统连接；其中，在所述排风系统运行时，所述排风系统在所述导流组件中形成负压气流，以将所述保护罩内的空气抽出。
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