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[发明专利]一种微纳加工方法及其光刻介质-CN202310844256.X在审
发明人：李会巧;曾诚;翟天佑 -专利权人：华中科技大学
申请日： 2023-07-10 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种微纳加工方法及其光刻介质，属于微纳加工领域，其采用无机小分子作为光刻介质执行光刻工艺，利用电子、离子或/和光子的高能量束对光刻介质设定区域进行照射，被照射区域的无机小分子发生升华而被刻蚀，直接形成所需的光刻图案。在光刻介质去除过程中，还可采用物理干法粘连剥离，全程避免溶剂或液体的使用，实现对敏感材料的微纳加工。作为光刻介质的无机小分子通过范德华作用力形成固体薄膜，薄膜厚度为5nm～8000nm。光刻介质包括无机小分子单质、二元或三元无机小分子化合物类或者至少以上两种组成的混合物。本发明方法能简化微纳加工步骤，避免显影液、清洗剂等的使用，实现对敏感材料和器件的微纳加工。
一种加工方法及其光刻介质

[发明专利]一种芯片载板感光阻焊干膜及其形成方法-CN202310951411.8在审
发明人：杨仁鸿;张华泉;杨忠平 -专利权人：广东诚展科技股份有限公司
申请日： 2023-07-31 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提出了一种芯片载板感光阻焊干膜及其形成方法，属于芯片载板感光阻焊干膜技术领域。S1.将酚醛环氧树脂、阻聚剂、催化剂溶于溶剂中，加热升温，加入不饱和酰胺羧酸化合物，搅拌反应，停止反应，加水搅拌，过滤，洗涤，制得感光树脂；S2.将感光树脂、颜料、光引发剂、三聚氰胺、硫酸钡、消泡剂、热固化剂、阻燃剂分散混合均匀，得到感光阻焊组合物；S3.将感光阻焊组合物用挤出膜头均匀涂在承载膜上，经过隧道烤箱多段烘烤后，得到触干膜；S4.贴膜：将触干膜进行双面或者单面贴膜，压膜，得到半成品芯片载板感光阻焊干膜；S5.将半成品芯片载板感光阻焊干膜去除膜层，烘烤至完全干燥，分切成不同宽幅和长度的成品，制得芯片载板感光阻焊干膜。
一种芯片感光阻焊干膜及其形成方法

[发明专利]一种基于液态镓的冷冻离心纳米压印方法-CN202310743150.0在审
发明人：范闻;聂修宇;陈越;徐祖顺 -专利权人：湖北大学
申请日： 2023-06-21 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于液态镓的冷冻离心纳米压印方法，包括：制备表面具有微纳米级凹凸结构图案的压印模板；将液态金属镓加入容器中，再将压印模板有凹凸结构的一面覆盖在液态镓的表面；将容器放置于离心机中，使液态镓在低温条件下离心并凝固；离心后揭掉镓表面的压印模板，得到表面压印出微纳米凹凸结构的固态镓。本发明克服了液态金属镓因表面张力大而在常规重力条件下难以制备出纳米级结构的不足，从而可在镓表面压印出各种形貌精细可控的高分辨率微纳米结构。此外，本发明工艺简便、成本低，适合大面积和批量化的微纳米结构压印制造，有望在半导体和芯片制造、光刻替代、柔性电子以及可穿戴设备等领域具有很好的研究和应用价值。
一种基于液态冷冻离心纳米压印方法

[发明专利]使用金属模板的紫外纳米压印方法和设备-CN202210397576.0在审
发明人：罗龙 -专利权人：镭亚股份有限公司;镭亚电子（苏州）有限公司
申请日： 2022-04-15 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：提供了使用金属模板的紫外纳米压印方法和设备。该方法包括：在待加工材料上提供光刻胶层；在所述光刻胶层上提供具有预置纳米结构图案的不透光金属模板并将所述预置纳米结构图案转移至所述光刻胶层；在所述待加工材料的背离所述光刻胶层的表面处提供导光装置，并在所述导光装置的至少一个侧面处提供紫外光源；以及通过所述导光装置改变从所述紫外光源入射到所述导光装置的所述至少一个侧面上的光线的传播方向以使所述光线朝向所述光刻胶层出射。
使用金属模板紫外纳米压印方法设备

[发明专利]紫外线光学膜的压印成形方法-CN202211260216.2在审
发明人：林刘恭 -专利权人：湖南和锐镭射科技有限公司;光群雷射科技股份有限公司
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明公开一种紫外线光学膜的压印成形方法，包含：制造一压印图章，其制造过程包含：于一载体的外表面涂布有一光阻层，及以一曝光紫外线通过光罩或干涉而照射在所述光阻层，以使所述光阻层构成一单位图案层；以所述压印图章逐个压印于一紫外线光学膜的多个区域上，以使每个所述区域被压印形成有一单位图案而构成一图案化区域，并且相邻的任两个所述图案化区域之间保留有不大于10微米的一间隙；及以一固化紫外线来逐个照射并固化被所述压印图章所压印后的所述紫外线光学膜的多个所述图案化区域。据此，所述图案化区域若有单位图案产生失真的情况时，所述紫外线光学膜的压印成形方法也利于实时进行调整，以达到微调或修复所述图案化区域的效果。
紫外线光学压印成形方法

[发明专利]光敏层压体和使用该光敏层压体制造电路板的方法-CN202280018617.9在审
发明人：石想勋 -专利权人：可隆工业株式会社
申请日： 2022-03-29 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及一种光敏层压体以及使用所述光敏层压体制造电路板的方法，所述光敏层压体包括：雾度为2％以下的阻挡层；和光敏树脂层，该光敏树脂层包括含有邻苯二甲酸酯衍生物的可光聚合的化合物和粘合剂树脂，其中，直径小于1μm的气泡以5个气泡/mm2以下存在于所述光敏树脂层内。
光敏层压使用体制电路板方法

[发明专利]一种光刻胶组成物及使装置图案化的方法-CN202210975763.2在审
发明人：蔡承恩;陈旻贤;刘玲均;林文福;朱克泰;陈慧修 -专利权人：台州观宇科技有限公司
申请日： 2022-08-15 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本揭示涉及一种光刻胶组成物，包含：一聚合物，由第一单体及第二单体聚合而成，其中该第一单体为含可聚合基团与含氟原子基团的压克力单体，该第二单体为含可聚合基团与可改变溶解度反应性基团的单体；一光产碱剂；一热生酸剂；及一氟化溶剂。本揭示还涉及一种使装置图案化的方法，包含：在一装置的一衬底上形成一光刻胶组成物层，该光刻胶组成物层包括前述光刻胶组成物；暴露该光刻胶组成物层于经图案化的辐射，以在该光刻胶组成物层形成一曝光区域及一未曝光区域；烘烤该曝光区域及该未曝光区域；及及移除该光刻胶组成物层的曝光区域，形成一显影结构。
一种光刻组成装置图案方法

[发明专利]用于压印光刻的压印物料-CN201911094280.6有效
发明人： M.舒伊基 -专利权人： EV 集团 E·索尔纳有限责任公司
申请日： 2013-06-19 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于压印光刻的压印物料。具体地，本发明涉及能够用于压印光刻的可固化压印物料，其由以下的混合物组成：至少一种可聚合主要组分和至少一种次要组分。此外，本发明涉及所述压印物料用于初步形成压印形式(4、4'、4''、4'''、4IV)的用途。
用于压印光刻物料

[发明专利]用于基片补偿定位的定位装置-CN202010501382.1有效
发明人：冀然 -专利权人：青岛天仁微纳科技有限责任公司
申请日： 2020-06-04 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提出一种用于基片补偿定位的定位装置，包括：基盘，其上表面设置有第一真空槽组以及第二真空槽组；定位装置，其放置于所述基盘的上表面，且底部覆盖所述第一真空槽组和/或第二真空槽组，所述定位装置的中心设置有与基片尺寸相同的容纳槽，所述容纳槽贯通所述定位装置，基片位于所述容纳槽内，所述定位装置的上表面与基片的上表面位于同一水平面内；真空装置，其与所述第一真空槽组及第二真空槽组连通，以将基片以及所述定位装置真空吸附在所述基盘的上表面上。本发明易制作，造价低，且使用方法非常简单，能实现各种形状的基片的精确定位，并且根据基片的厚度进行厚度补偿，同时又能避免了溢出的胶体流入基盘内，进而延长基盘的使用寿命。
用于补偿定位装置

[发明专利]一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置及方法-CN201910617378.9有效
发明人：谷岩;林洁琼;陈斯;徐贞潘;颜家瑄;康洺硕;戴得恩;徐宏宇;李先耀;张昭杰;易正发;冯开拓;刘骜;卢发祥;段星鑫 -专利权人：长春工业大学
申请日： 2019-07-10 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置及方法摘要一种可制备超疏水微结构的纳米压印装置及方法，首先利用涂胶装置一、涂胶装置二将压印胶苄基硫醇钯均匀涂抹到衬底一、衬底二表面，然后压印装置一、压印装置二分别对衬底一、衬底二进行压印得到带有纵向光栅结构的衬底一、带有横向光栅结构的衬底二，对衬底一进行高温处理一小时使苄基硫醇钯光栅转化为金属钯光栅，然后在压印装置三的作用下横向光栅脱离衬底二，并粘附到纵向光栅上形成叠堆结构，再进行一小时的高温处理使横向苄基硫醇钯光栅转化为金属钯光栅，得到超疏水微结构。本发明通过使用辊对辊压印，使用纳米压印与化学相结合的方法制备超疏水微结构，可轻易制备出复合结构，避免衬底多次取放，减少制备时间与对准误差，成本大大降低。
一种制备疏水微结构纳米压印装置方法

[发明专利]一种量子点光刻胶以及量子点色转换层的制备方法-CN202210365742.9在审
发明人：梁城江;李阳;涂奎元 -专利权人：广东普加福光电科技有限公司
申请日： 2022-04-08 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及一种量子点光刻胶以及量子点色转换层的制备方法。所述量子点光刻胶包括光刻胶母液以及分散溶解于所述光刻胶母液的量子点、液态散射粒子前体，所述液态散射粒子前体可在所述量子点光刻胶的光刻固化过程中水解缩聚形成若干均匀分布的散射粒子。利用提前融合分散于体系中的液态散射粒子前体在量子点光刻胶的光刻固化过程中水解缩聚形成所需散射粒子，以提升蓝光在色转换层中的散射折射次数，增加蓝光的光程从而多次激发量子点材料，来提高对蓝光的吸光率和整体的光转换效率，同时液态散射粒子前体以液体形式存在于量子点光刻胶体系中可以稳定地存在而不会出现析出或者沉淀的问题，可实现长期稳定保存。
一种量子光刻以及转换制备方法

[发明专利]紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法-CN202211197513.7在审
发明人：林刘恭 -专利权人：湖南和锐镭射科技有限公司;光群雷射科技股份有限公司
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法。所述转印滚轮的制造方法包含：于一金属滚筒的外表面涂布有一光阻层；以具有一预设曝光波长的一曝光紫外线通过光罩或干涉而形成一预定光形，进而照射在所述光阻层，以使所述光阻层构成一图案转印内层；以及于所述图案转印内层的外表面上形成有一图案转印外层，其由氟化合物所构成；其中，所述图案转印外层、所述图案转印内层、及所述金属滚筒共同构成所述转印滚轮。据此，通过形成有由所述氟化合物而构成的所述图案转印外层，以使得所述图案转印内层可采用紫外线曝光材质，并且所述转印滚轮所滚压的光学膜可以采用紫外线固化材质。
紫外线光学印制方法滚轮制造

[发明专利]紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法-CN202211197514.1在审
发明人：林刘恭 -专利权人：湖南和锐镭射科技有限公司;光群雷射科技股份有限公司
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种紫外线光学膜的转印制造方法及转印滚轮的制造方法。所述转印制造方法包含：于一金属滚筒的外表面涂布有一光阻层；以具有一预设曝光波长的一深紫外线通过光罩或干涉而形成一预定光形，进而照射在所述光阻层，以使所述光阻层构成一图案转印层；以所述图案转印层不间断地滚压于一紫外线光学膜上；以波长落在一预设光固化波段之内的一固化紫外线来照射并固化被滚压后的所述紫外线光学膜。所述预设曝光波长相较于所述预设光固化波段至少小于100纳米。据此，所述图案转印层可采用紫外线曝光材质，所述转印滚轮所滚压的光学膜可以采用紫外线固化材质，并且所述图案转印层较不会受到所述固化紫外线的影响而受损，以维持滚压成形精度。
紫外线光学印制方法滚轮制造

[发明专利]彩色滤光片用红色着色组合物、红色着色抗蚀剂组合物、彩色滤光片及显示装置-CN202310053694.4在审
发明人：林明;杉江俊辅;内原岬哉 -专利权人：阪田油墨株式会社
申请日： 2023-02-03 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种分散稳定性优异且在制造彩色滤光片时能够抑制水斑现象的发生的彩色滤光片用红色着色组合物。所述彩色滤光片用红色着色组合物包含着色颜料、颜料分散剂、颜料分散助剂、树脂以及有机溶剂，所述着色颜料包含C.I.颜料红179，所述颜料分散剂具有季铵盐结构，所述树脂包含具有双键的丙烯酸系树脂。
彩色滤光红色着色组合抗蚀剂显示装置

[发明专利]一种铌酸锂薄膜脊型波导调制器及其制备方法-CN202311196005.1在审
发明人：杨志远;汪斌;李鑫;陶艺;刘磊;郑名扬;刘洋;谢秀平 -专利权人：济南量子技术研究院
申请日： 2023-09-18 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种铌酸锂薄膜脊型波导调制器及其制备方法，该方法包括：提供一铌酸锂薄膜晶圆；在薄膜上涂覆光刻胶和导电胶；进行电子束曝光处理，在所述光刻胶中形成金属标记凹槽、第一波导凹槽和第二波导凹槽；显影处理；金属电镀处理，在相应凹槽中生成金属标记和波导结构硬掩膜；利用掩膜对薄膜进行刻蚀得到第一、第二波导；去除波导结构硬掩膜，然后涂覆导电胶，以金属标记为套刻标记进行曝光、显影处理，电镀处理分别形成三个金属电极，得到脊型波导；沉积保护层以及在脊型波导上耦合光纤，得到铌酸锂薄膜脊型波导调制器。本发明只需一步套刻法，就能制备出调制器，支持使用成本相对低很多的普通曝光胶，大大降低工艺复杂度和成本、更节能。
一种铌酸锂薄膜波导调制器及其制备方法

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