专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]准直超透镜及设计方法、基于准直超透镜的准直系统-CN202310881304.2在审
  • 刘爽;胡敬佩;杨增辉;曾爱军;黄惠杰 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-07-18 - 2023-10-10 - G02B1/00
  • 准直超透镜及设计方法、基于准直超透镜的准直系统,其中,基于准直超透镜的准直系统,包括:VCSEL阵列和准直超透镜阵列;VCSEL阵列包括若干个VCSEL单元;准直超透镜阵列包括若干个准直超透镜,若干个准直超透镜与若干个VCSEL单元一一对应设置,对VCSEL单元的发射光束进行准直;准直超透镜由不同半径的非晶硅圆柱排布组成,其中,各非晶硅圆柱的半径根据准直超透镜各位置的位置相位来确定,以使不同半径的非晶硅圆柱根据准直超透镜的位置相位分布来排布。通过采用特定相位分布的准直超透镜设计方法来突破传统曲率半径加工的限制,通过特定半径尺寸非晶硅圆柱的排布代替传统光学凸透镜的曲面分布,基于高精度的微纳加工工艺,提高准直性能。
  • 准直超透镜设计方法基于系统
  • [发明专利]一种超表面圆偏振器件-CN202111458384.8有效
  • 张冲;胡敬佩;董延更;曾爱军;黄惠杰 - 中国科学院上海光学精密机械研究所
  • 2021-12-02 - 2023-10-10 - G02B5/30
  • 本发明提供了一种新型超表面圆偏振器件,可用于近红外宽波段范围内圆偏振光的检测。该器件结构基于透光基底和基底上层的介质层,其中介质层刻有阵列式镂空的二维手性结构单元。所述手性结构由两个相同的直角五边形结构和矩形结构构成,其中两个直角五边形结构分别位于矩形结构左右两侧,且紧靠矩形结构,此外两个直角五边形结构的顶角相对,底边则分别与矩形结构上边线和下边线的延长线重合。该器件在1.58μm‑1.73μm和1.91μm‑1.93μm两个波段范围内具有良好的圆偏振性能。其中1.92μm波长处对应的右旋圆偏振光透过率高达96%,圆二色性可达90%。同时该二维结构简单,性能优异,易于制作,在光学传感、生物医学诊断和光学成像等领域具有很大的应用价值。
  • 一种表面偏振器件
  • [发明专利]一种光瞳监测系统-CN202310055356.4在审
  • 胡敬佩;黄惠杰 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-01-16 - 2023-05-05 - G03F7/20
  • 一种光瞳监测系统,包括:平行光光源、第一微镜阵列、第二微镜阵列、光斑位置监测装置和光束吸收装置;第一微镜阵列将平行光光源照射的光束整体反射至第二微镜阵列;根据第二微镜阵列中的待调节微镜,控制第一微镜阵列中与第二微镜阵列中待调节微镜对应的微镜处于第一状态,控制第一微镜阵列中的其他微镜处于第二状态,使第一微镜阵列中处于第一状态的微镜将平行光光源照射的光束反射至第二微镜阵列中的待调节微镜上,及第一微镜阵列中处于第二状态的微镜将平行光光源照射的光束反射至光束吸收装置,以使光斑位置监测装置监测第二微镜阵列中的待调节微镜反射光束的光斑位置。采用MMA和平行光光源作为光瞳监测光源,极大地降低成本和制作工艺难度。
  • 一种监测系统
  • [实用新型]一种适用于微反射镜阵列镀膜的硅晶圆掩膜板-CN202320124686.X有效
  • 胡敬佩;黄惠杰 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-01-18 - 2023-05-02 - G03F1/52
  • 一种适用于微反射镜阵列镀膜的硅晶圆掩膜板,包括第一层硅晶圆、绝缘层和第二层硅晶圆;绝缘层位于第一层硅晶圆和第二层硅晶圆之间,第一层硅晶圆的厚度大于第二层硅晶圆的厚度;第二层硅晶圆用于与微反射镜阵列贴合;硅晶圆掩膜板配合微反射镜阵列设置有微反射镜阵列区域和非微反射镜阵列区域,微反射镜阵列区域中的第一层硅晶圆和绝缘层被刻蚀,微反射镜阵列区域中的第二层硅晶圆对应微反射镜阵列刻蚀有通孔阵列。通过半导体光刻工艺和刻蚀工艺将硅晶圆掩膜板开孔大小做的更加精准,对准图形更加精细,硅晶圆的硬度在足够薄的情况下相对于金属更不容易产生形变,且通过半导体加工工艺后,硅晶圆掩膜板表面光滑度更能满足其与微反射镜的贴合度。
  • 一种适用于反射阵列镀膜硅晶圆掩膜板
  • [发明专利]一种光开关及光开关阵列-CN202310055419.6在审
  • 胡敬佩;黄惠杰 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2023-01-16 - 2023-04-18 - G02B6/35
  • 一种光开关及光开关阵列,包括:绝缘层、支撑部、微镜、第一驱动电极、第二驱动电极和第三驱动电极;微镜通过支撑部支撑于绝缘层上方,用于反射光束;第一驱动电极设置于绝缘层上,并位于微镜一侧;第二驱动电极设置于微镜上,第三驱动电极设置于支撑部上;第一驱动电极、第二驱动电极、第三驱动电极配合驱动微镜处于偏转状态;第一驱动电极断电及第二驱动电极和第三驱动电极通电的状态下,第二驱动电极和第三驱动电极之间形成水平制衡的静电力,以使微镜处于水平状态;基于微镜的偏转状态或水平状态控制光开关的开或关。该光开关需限位结构进行限制,不受微结构磨损等影响依然保证其长期的稳定性,不单独采用限位结构会明显降低制作难度与成本。
  • 一种开关阵列
  • [发明专利]一种多光斑生成装置及光束整形系统-CN202211242656.5在审
  • 胡敬佩;曾爱军;黄惠杰 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2022-10-11 - 2023-01-31 - G02B27/09
  • 一种多光斑生成装置及光束整形系统,其中,多光斑生成装置包括:光阑和DOE,光阑设置于DOE的入射光一侧,光阑和DOE配置有一一对应的划分区域;DOE的各划分区域的微结构图形基于随机初始相位生成,光阑的各划分区域可调,通过光阑的可调的划分区域与DOE的各划分区域匹配产生各划分区域所对应的独立可控的光斑图形。DOE各划分区域采用随机初始相位设计,突破了传统几何初始相位的限制,并配合视场光阑进行分区独立设计和控制,可实现单片DOE产生多种光斑图形且每种光斑之间独立可控的功能;此外,DOE的各划分区域的微结构图形基于随机初始相位生成,以使DOE的划分区域在被光阑部分遮挡时,DOE的划分区域所产生的光斑图形形貌保持不变而光斑强度随之变化。
  • 一种光斑生成装置光束整形系统
  • [发明专利]一种透反射双面衍射光学元件及制作方法-CN202211415142.5在审
  • 胡敬佩;曾爱军;黄惠杰 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2022-11-11 - 2023-01-31 - G02B5/18
  • 一种透反射双面衍射光学元件及制作方法,包括:基底,基底的入射面为具有浮雕结构的第一衍射面,基底的出射面为具有浮雕结构的第二衍射面,第一衍射面的浮雕结构上镀制半透半反膜;第一衍射面通过半透半反膜反射的衍射光形成第一衍射图像;第一衍射面通过半透半反膜透过的光通过所述第二衍射面衍射形成第二衍射图像;第一衍射图像和第二衍射图像不同。由于通过在基底的入射面和出射面分别制作不同的浮雕结构,并结合半透半反膜,实现在衍射光学元件的反射屏和透射屏分别生成不同衍射图案的效果;在防伪和显示等领域具有很大的应用价值。
  • 一种反射双面衍射光学元件制作方法
  • [发明专利]一种可变尺寸线形光束整形装置及整形方法-CN202211250894.0在审
  • 胡敬佩;曾爱军;黄惠杰 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2022-10-12 - 2023-01-24 - G02B27/09
  • 一种可变尺寸线形光束整形装置及整形方法,其中,整形装置包括控制器、图像采集器、激光器、准直镜、光斑缩放透镜组、分光镜、鲍威尔透镜、柱面凹透镜、柱面凸透镜;柱面凹透镜和柱面凸透镜分别为可移动设置;分光镜用于将线形光束分为两束高斯光束,一束高斯光束传输至鲍威尔透镜进行光束整形,另一束高斯光束传输至图像采集器;图像采集器与控制器信号连接,控制器根据图像采集器采集的光束直径控制柱面凹透镜和柱面凸透镜移动至目标位置,通过调整柱面凹透镜和柱面凸透镜之间的距离改变线形光束的长轴尺寸和短轴尺寸,以获得符合要求的线形光斑尺寸。通过改变柱面凹透镜和柱面凸透镜之间的焦距来获得符合要求的光斑尺寸,具有更好的适应性。
  • 一种可变尺寸线形光束整形装置方法
  • [发明专利]一种球面镜本征双折射检测装置及其检测方法-CN202211228083.0在审
  • 胡敬佩;曾爱军;黄惠杰 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2022-10-09 - 2023-01-17 - G01M11/02
  • 本申请提供一种球面镜本征双折射检测装置及其检测方法;检测装置包括:菲索干涉仪、偏振片、第一旋转装置、第二旋转装置、球面标准镜和控制器;利用菲索干涉仪采集出射光在某一偏振方向的第一幅干涉图,然后旋转偏振片90°采集另一幅干涉图,将两幅干涉图作差,获得第一干涉图;旋转待测球面镜180°,并继续旋转偏振片90°采集第三幅干涉图,继续旋转偏振片90°采集第四幅干涉图,将两幅干涉图作差得到第二干涉图;最后将第二干涉图旋转180°与第一干涉图叠加可获得更准确的球面镜的本征双折射。本发明能够有效地减弱待测球面镜应力双折射对检测结果的影响同时可以消除系统误差,极大地提升了检测精度,整体检测过程简单,具有很高的商用价值。
  • 一种球面镜双折射检测装置及其方法
  • [发明专利]一种应力双折射计算方法-CN202211229888.7在审
  • 朱玲琳;曾爱军;胡敬佩;黄惠杰 - 上海镭望光学科技有限公司
  • 2022-10-08 - 2022-12-30 - G06F30/23
  • 一种应力双折射计算方法,包括步骤:确定样品的比例极限及临界载荷;建立样品的有限元仿真并提取节点的空间应力数据;确定光传输方向,并进行坐标系转化;提取垂直于光传播方向的正应力及切应力,计算垂直于光传输平面的主应力和次主应力;计算样品的双折射数值并判定快轴角。通过样品的比例极限及临界载荷来确定是否适用光弹性方程计算样品的双折射数值,进一步给出主应力和次主应力的具体计算公式,并给出快轴角的计算公式,及快轴角的判定方法,解决了现有应力双折射计算方法定义不清晰,计算不详细的问题。
  • 一种应力双折射计算方法

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