[发明专利]无掩模直写光刻系统在审

专利信息
申请号: 201910597946.3 申请日: 2019-07-04
公开(公告)号: CN110441991A 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 胡敬佩;张冲;朱玲琳;曾爱军;黄惠杰 申请(专利权)人: 中国科学院上海光学精密机械研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 张宁展
地址: 201800 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种无掩模直写光刻系统,包括直写光源、能量控制单元、激光分束控制与扫描单元、聚焦伺服单元、红光检测单元、多轴工件平台和控制单元。在控制单元的总体控制下,所述的直写光源发出的光经过能量控制单元的控制、照射到激光分束控制与扫描单元上,经激光分束控制与扫描单元调控后,再经过聚焦伺服单元聚焦和红光检测单元的检测,最终将多路光束平行地聚焦在光刻胶上进行直写。本发明能够实现多光束的独立控制、并行直写和二维振镜扫描,比单点扫描系统提升了成倍的光刻效率。提升了直写光刻机的扫描速率及扫描自由度。
搜索关键词: 直写 扫描单元 分束 聚焦伺服单元 能量控制单元 激光 光刻系统 扫描 无掩模 红光 光源 检测 聚焦 直写光刻机 独立控制 二维振镜 工件平台 光束平行 扫描系统 总体控制 多光束 光刻胶 单点 多路 多轴 光刻 并行 照射 调控
【主权项】:
1.一种无掩模直写光刻系统,其特征在于,包括直写光源(1)、能量控制单元(2)、激光分束控制与扫描单元(3)、聚焦伺服单元(4)、红光检测单元(5)、多轴工件平台(6)和控制单元(7),沿所述的直写光源(1)的输出光的方向依次是所述的能量控制单元(2)、激光分束控制与扫描单元(3)、聚焦伺服单元(4)、红光检测单元(5)和多轴工件平台(6),所述的控制单元(7)分别与所述的能量控制单元(2)、激光分束控制与扫描单元(3)、聚焦伺服单元(4)、红光检测单元(5)、多轴工件平台(6)的控制端相连;所述激光分束控制与扫描单元(3)包括微透镜阵列(31)、阵列型声光调制器(32)、反射镜(33)和二维MEMS扫描振镜(34),所述的微透镜阵列(31)实现单光束到多光束的分光,每束光经过相应的声光调制器(32)的独立调控后,再经反射镜(33)的反射,最后聚焦到二维MEMS扫描振镜(34)的反射面上,通过MEMS振镜(34)的二维旋转,实现多光束的二维振镜扫描;所述二维MEMS扫描振镜(34),外部结构包括镜面(341)、扭转梁(342)、镜框(343),所述的镜面(341)通过扭转梁(342)与所述的镜框(343)相连;内部结构包括驱动器、电极、引线和支撑基板,所述的电极位于镜面(341)和镜框(343)背面以及支撑基板的上表面,其中镜面(341)和镜框(343)背部的电极与支撑基板表面电极的位置和个数相对应,并构成平板电容器,支撑基板的电极通过导线与其背部的驱动器相连,驱动器通过控制电极的电压来控制由镜面、支撑基板和镜框、支撑基板构成的平板电容器,从而改变光束的出射角度。
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  • 崔娟 - 湖北工程职业学院
  • 2019-04-12 - 2019-11-01 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种稳压晒版机,包括机体,机体的顶部安装有盖板,盖板与机体的两侧均设置有伸缩杆,机体的前端面设置有操作台,操作台的顶部设置有控制面板,盖板的一端设置有把手,且把手位于操作台的顶部,机体的一侧设置有真空泵,机体的后端面设置有连接块。本实用新型通过在机体的内部两侧灯管与电源的连接处设置稳压二极管,使晒晒版机在一定程度上具有自动稳压的性能,避免由于电压过大造成机器损伤,影响工作效率,加强了安全性,由于灯管容易受到强光的腐蚀影响灯管的发光效率和使用寿命,在盖板的顶部涂覆有抗紫外线涂料,充分的保护了灯管的抗辐射性,同时也起到了防尘的作用,还具有消音的功效。
  • 一种LED与复眼透镜结合的照明组件-201920081950.X
  • 霍锦充;江晟 - 东莞王氏港建机械有限公司
  • 2019-01-17 - 2019-10-29 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种LED与复眼透镜结合的照明组件,包括LED灯层和复眼透镜层,LED灯层包括散热面和光源面,复眼透镜层位于光源面的前端;复眼透镜层包括第一复眼透镜层和第二复眼透镜层;LED灯层还包括冷却装置,冷却装置与散热面相接触;冷却装置包括外壳、若干个冷却水进水接口和若干个冷却水出水接口;散热面安装在外壳内,光源面露出外壳,若干个冷却水进水接口和若干个冷却水出水接口均设置在外壳上。通过LED灯层与两层复眼透镜层结合组成均匀照明曝光的光学元件,以保证曝光机的均匀性,当其中一颗LED灯珠、多颗灯珠或者一组灯珠损坏时,都不会影响其均匀性,可以保持均匀性,使设备提高产品的质量和降低客户报废产品的风险。
  • 印花机的曝光装置-201920321387.9
  • 王科 - 杭州易染数码科技有限公司
  • 2019-03-14 - 2019-10-29 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种印花机的曝光装置,包括机架,所述机架的两侧对称设有支架,支架之间设有滑轨,滑轨上设有滑块;所述曝光机构包括固定在滑块顶部的曝光组件所述滑块上方设有顶盖,顶盖上嵌设有与镜筒支座对应的透镜,顶盖在位于透镜的外围设有环形定位块,环形定位块内设有风腔,所述环形定位块的内侧壁上设有沿透镜周边分布的且与风腔连通的出风嘴,所述顶盖的上部设有安装腔,安装腔内设有气泵,空气制冷组件以及灰尘过滤筒。本实用新型通过出风嘴在透镜前形成风墙,来对曝光过程中产生的挥发性气体进行隔离,有效避免了挥发性气体在光学透镜上形成雾化,确保了能够长时间进行曝光工作,提高了曝光装置的使用寿命。
  • 一种无掩光刻镜头对焦系统-201920325754.2
  • 徐占辉;张晓辉;刘涛;刘景华;尹建刚;高云峰 - 大族激光科技产业集团股份有限公司
  • 2019-03-14 - 2019-10-29 - G03F7/20
  • 本实用新型提供了一种无掩光刻镜头对焦系统,包括光源、分光镜、反射型光调制器、光刻镜头以及光强测试模块;分光镜用于将光源出射的输出光线透射到反射型光调制器上,以及用于将反射型光调制器反射的测试光线反射向光强测试模块;反射型光调制器设置在光刻镜头的一焦平面上;反射型光调制器用于将分光镜透射的输出光线反射到光刻镜头中,以及用于将光刻镜头聚焦的测试光线反射向分光镜;光刻镜头用于将反射型光调制器反射的输出光线聚焦到感光基板上,以及用于将感光基板反射的测试光线聚焦至反射型光调制器;光强测试模块用于测试光强,实现对无掩光刻镜头进行快速对焦,提高无掩光刻镜头对焦精度以及减少显影耗材消耗。
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