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- [发明专利]一种曝光设备-CN202010843168.4在审
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吴景舟;陈国军;马骏;马迪
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江苏迪盛智能科技有限公司
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2020-08-20
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2020-12-08
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G03F7/20
- 本发明提供了一种曝光设备，包括用于放置被曝光物体的曝光平台和可相对曝光平台运动的曝光器，曝光器相对曝光平台的运动方向包括曝光方向和步进方向；曝光器沿曝光方向运动时，对被曝光物体进行曝光，曝光器沿步进方向运动时，改变被曝光物体上的曝光区域；曝光器包括至少一组曝光头组，曝光头组包括至少两个沿步进方向同中心布置的曝光头，曝光头包括用于发射光线的光源和用于聚焦光线的镜头。区别于现有技术，在沿曝光器的步进方向上布置至少两个曝光头，使得曝光器在沿曝光方向运动时可以有至少两个曝光头同时进行曝光，提高了曝光的效率。
- 一种曝光设备
- [实用新型]一种曝光设备-CN202021755590.6有效
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吴景舟;陈国军;马骏;马迪
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江苏迪盛智能科技有限公司
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2020-08-20
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2021-03-02
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G03F7/20
- 本实用新型提供了一种曝光设备，包括用于放置被曝光物体的曝光平台和可相对曝光平台运动的曝光器，曝光器相对曝光平台的运动方向包括曝光方向和步进方向；曝光器沿曝光方向运动时，对被曝光物体进行曝光，曝光器沿步进方向运动时，改变被曝光物体上的曝光区域；曝光器包括至少一组曝光头组，曝光头组包括至少两个沿步进方向同中心布置的曝光头，曝光头包括用于发射光线的光源和用于聚焦光线的镜头。区别于现有技术，在沿曝光器的步进方向上布置至少两个曝光头，使得曝光器在沿曝光方向运动时可以有至少两个曝光头同时进行曝光，提高了曝光的效率。
- 一种曝光设备
- [发明专利]一种曝光参数快速整定方法、系统及数字曝光机-CN202211516147.7在审
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周朝阳
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深圳光迪科技有限公司
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2022-11-30
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2023-03-14
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G03F7/20
- 本发明公开了一种曝光参数快速整定方法、系统及数字曝光机，方法包括：控制数字曝光机的曝光头投射图案处于静态全投射状态；以给定的初始曝光头光功率、初始曝光静态扫描速度对曝光头投射图案进行曝光尺标定曝光；根据曝光尺的标定曝光结果调节曝光静态扫描速度以获取满足曝光尺标定要求的曝光头光功率、曝光静态扫描速度；根据曝光头光功率、曝光静态扫描速度，计算动态曝光下曝光头光功率对应的曝光持续时间以及曝光静态扫描速度，以及计算曝光头动态曝光下曝光静态扫描速度对应的曝光持续时间以及曝光头光功率。本方案通过获取静态全投射状态下满足曝光尺标定要求的曝光头光功率、曝光静态扫描速度，可以在感光膜曝光能量或曝光机激光器功率存在偏差的情况下使曝光头光功率、曝光持续时间、最大扫描速度得到快速准确整定。
- 一种曝光参数快速方法系统数字
- [实用新型]X线曝光控制设备及X线曝光系统-CN201120184512.X有效
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赵建国
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赵建国
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2011-06-02
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2012-02-08
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H05G1/30
- 提供了一种X线曝光系统及用于该X线曝光系统的X线曝光控制设备。该X线曝光控制设备包括：预曝光参数确定装置，用于确定对被拍摄对象进行预曝光的预曝光参数；预曝光图像接收装置，用于接收通过预曝光产生的预曝光图像；曝光参数确定装置，用于根据所述预曝光图像来计算对所述被拍摄对象进行曝光所需的曝光参数，所述曝光参数包括曝光管电压、曝光管电流以及曝光时间，所述曝光管电流和曝光时间的乘积为曝光剂量，其中所述曝光管电压等于或不等于所述预曝光管电压，所述曝光管电流等于或不等于所述预曝光管电流；以及曝光指示装置，用于按照曝光参数对X线光源的曝光作出指示。该X线曝光系统可以在无需利用电离室的情况下自动地控制X线曝光。
- 曝光控制设备系统
- [发明专利]曝光装置及曝光方法-CN202010854084.0有效
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朱天宇;杜卫冲
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中山新诺科技股份有限公司
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2020-08-24
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2023-06-06
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G03F7/20
- 本发明公开了一种曝光装置及曝光方法，曝光装置包括机架、第一曝光组件、第二曝光组件、监测组件和控制器，第一曝光组件和第二曝光组件均设在机架上，第一曝光组件和第二曝光组件之间形成曝光区；监测组件设在机架上，监测组件用于监测基板的位置；控制器与第一曝光组件、第二曝光组件和监测组件电性连接。曝光方法能够应用于前述的曝光装置。该曝光装置，基板通过曝光区时，第一曝光组件和第二曝光组件分别对基板的相对两侧进行曝光，实现双面曝光，曝光效率高；同时，监测组件实时监测基板的位置，控制器根据基板的实时位置及时调整第一曝光组件和第二曝光组件的曝光路径，以提高曝光精度。
- 曝光装置方法
- [发明专利]曝光方法以及曝光装置-CN201811109442.4有效
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荻原元德
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株式会社三丰
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2018-09-21
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2023-02-21
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G03F7/20
- 一种曝光方法以及曝光装置。提供一种能够实现比曝光装置的曝光位置的定位精度高的曝光位置精度的曝光方法。曝光方法包括以下步骤：(1)根据曝光掩模和工件的相对的位置关系来计算工件上的曝光位置；(2)将即使曝光位置偏离工件上的目标曝光位置也容许图案的投影的范围设定为曝光位置范围；(3)执行如下的曝光控制：在所述曝光位置进入所述曝光位置范围的情况下向曝光掩模照射曝光光，在所述曝光位置偏离曝光位置范围的情况下使曝光光停止，其中，使用曝光光的所述曝光控制来将曝光掩模上的图案投影到工件上。
- 曝光方法以及装置
- [发明专利]一种半导体曝光方法-CN201110298579.0有效
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李钢;孙贤波
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上海宏力半导体制造有限公司
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2011-09-28
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2012-02-22
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G03F7/20
- 本发明提供了一种半导体曝光方法，包括：根据原始晶圆曝光图对半导体曝光区域进行原始曝光；建立与晶圆曝光图对应的位移移动模块，使所述晶圆曝光图移动至与所述原始晶圆曝光图相交；根据移动后的所述晶圆曝光图对所述半导体曝光区域进行曝光本发明提供的半导体曝光方法，移动后的所述晶圆曝光图对半导体曝光区域进行曝光，所进行的曝光与原始曝光连续，被曝光对象无需移出光刻机曝光平台再进入进行曝光，避免了再次对准操作带来的误差并且节省了对准所需要的时间，保证了多次曝光时最高的对准精度；此外，通过分别设置原始晶圆曝光图和晶圆曝光图的调整参数，使得整个曝光图形的质量更好。
- 一种半导体曝光方法
- [发明专利]图像曝光方法、装置和电子设备-CN202011278728.2在审
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黄春成
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维沃移动通信（杭州）有限公司
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2020-11-16
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2021-02-19
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H04N5/235
- 本申请公开了一种图像曝光方法、装置及电子设备，该方法包括：在对待曝光图像进行曝光的过程中，获取N个闪烁像素点的曝光时间和曝光亮度；根据N个闪烁像素点的曝光时间和曝光亮度，调整待曝光图像在曝光过程中的曝光亮度在对待曝光图像进行曝光的过程中，获取闪烁像素点的曝光时间和曝光亮度，并根据闪烁像素点的曝光时间和曝光亮度，调整所述待曝光图像在曝光过程中的曝光亮度。以此本实施例通过调整待曝光图像在曝光过程中的曝光亮度，即可消除图像的曝光现象。同时，由于并不需要将曝光时间限制为1/100秒的整数倍或1/120秒的整数倍，因此能够避免曝光后的图像引入噪声，进而提高了图像的显示效果。
- 图像曝光方法装置电子设备
- [发明专利]X线曝光控制方法与设备、以及X线曝光系统-CN201110147581.8有效
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赵建国
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赵建国
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2011-06-02
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2012-12-05
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G03B7/00
- 提供了一种X线曝光系统、以及一种用于该X线曝光系统的X线曝光控制设备及X线曝光控制方法。该X线曝光控制方法包括：在给定管电压和给定管电流条件下，对被拍摄对象进行第一时间的预曝光；获得通过预曝光产生的预曝光图像；以及根据所述预曝光图像，计算对所述被拍摄对象进行曝光所需的曝光参数，所述曝光参数包括曝光管电压、曝光管电流以及曝光时间，所述曝光管电流与曝光时间的乘积为曝光剂量，其中，所述曝光管电压等于或不等于所述给定管电压，所述曝光管电流等于或不等于所述给定管电流。该X线曝光系统可以在无需利用电离室的情况下自动地控制X线曝光的曝光参数，以便在尽可能少的X线曝光剂量下获得满意的X线曝光图像。
- 曝光控制方法设备以及系统
- [发明专利]晶圆曝光方法和系统-CN202310185221.X在审
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郁发新;张立星;莫炯炯;开翠红
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浙江大学
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2023-03-01
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2023-05-30
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G03F7/20
- 本申请公开了一种晶圆曝光方法和系统。晶圆曝光方法包括如下步骤：在晶圆表面划分多个曝光单元，包括位于晶圆内部区域的完整曝光单元以及位于晶圆边缘区域的不完整曝光单元；获取待曝光光刻层的焦距能量矩阵表；获取经初始曝光条件曝光后的各完整曝光单元的图形形貌和线宽；根据焦距能量矩阵表修正各完整曝光单元的曝光条件，使其图形形貌和线宽符合规格；根据不完整曝光单元邻近的完整曝光单元修正后的曝光条件修正不完整曝光单元的曝光条件。本申请通过根据完整曝光单元的图形形貌和线宽对其曝光条件进行修正，并通过不完整曝光单元邻近的完整曝光单元的曝光条件修正不完整曝光单元曝光条件，可极大改善晶圆面内图形形貌和线宽均匀性。
- 曝光方法系统
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