专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种冷源结构和冷源结构金属氧化物半导体场效应晶体管-CN202210565204.4在审
  • 刘飞;张力公 - 北京大学
  • 2022-05-23 - 2022-09-20 - H01L29/78
  • 本申请公开了一种冷源结构和冷源结构金属氧化物半导体场效应晶体管,包括:常规金属、冷金属、第一绝缘掩蔽层和源端;常规金属通过冷金属与源端相连,用于连接外加电压,引入电流;冷金属为附着在第一绝缘掩蔽层和源端上的一薄层,用于过滤常规金属引入的电流中的高能量载流子;第一绝缘掩蔽层在常规金属和源端之间,用于隔开常规金属与源端,防止电流中的电子穿至源端。通过将常规金属与源端通过第一绝缘掩蔽层分隔,使用冷金属连接被分隔的常规金属和源端,能够过滤亚阈值区域的高能载流子,同时防止电子从常规金属穿至源端,使冷源结构失效,冷源结构可使亚阈值电流在亚阈值区的斜率变陡
  • 一种结构金属氧化物半导体场效应晶体管
  • [发明专利]穿场效应晶体管及其制造方法-CN201510564000.9有效
  • 许高博;殷华湘;徐秋霞 - 中国科学院微电子研究所
  • 2015-09-07 - 2020-01-10 - H01L21/336
  • 一种穿场效应晶体管及其制造方法,包括:半导体衬底;沟道区,位于半导体衬底上;栅介质层,位于沟道区上,为具有铁电属性的栅介质层;栅电极层,位于栅介质层上,并与栅介质层形成栅堆叠;源/漏区,具有第一掺杂类型的源区和第二掺杂类型的漏区位于沟道区两侧且嵌入半导体衬底中依照本发明的穿FET及其制备方法,通过在袋区形成异质结,从而减小袋区与源区界面处能带间隙,提高载流子穿几率,从而提高晶体管的驱动能力,同时通过采用具有铁电属性的栅介质层,利用铁电栅介质层的表面电势放大作用实现导通电流的进一步提高
  • 场效应晶体管及其制造方法

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