专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种大开关比场效应晶体管的制备方法-CN201610012849.X在审
  • 郑蓓蓉;薛伟;王权;白冰;张淼;周晨 - 温州大学
  • 2016-01-08 - 2016-03-30 - H01L21/335
  • 本发明公开了一种大开关比场效应晶体管的制备方法,其特征在于,按下述步骤进行:①采用机械剥离法制备石墨烯薄片和硫化薄片,选取带有氧化层的单晶硅片作为衬底,将石墨烯薄片、硫化薄片、石墨烯薄片依次转移到衬底上,形成石墨烯异质;②在石墨烯异质结上均匀旋涂光刻胶,再将掩膜版上图形通过曝光转移到光刻胶上,并采用电子束蒸镀沉积Ti/Au金属得到Ti/Au电极,制得基于石墨烯异质的隧穿场效应晶体管。本发明结合了石墨烯的高载流子迁移率和过渡金属硫化物的带隙,以石墨烯和硫化组成的异质结构作为沟道材料,获得高响应速度和大开关比的场效应晶体管。
  • 一种开关场效应晶体管制备方法
  • [发明专利]一种硫化自构同质及其制备方法和应用-CN202010871962.X有效
  • 周瑜琛;郑照强 - 广东工业大学
  • 2020-08-26 - 2023-01-20 - C01G41/00
  • 本发明属于维材料异质光探测技术领域,具体地涉及一种硫化自构同质及其制备方法和应用。本发明通过物理气相沉积法先将硫化钨粉末置于管式炉的中间,将表面有氧化硅的硅片放置于管式炉下游;在氮气气氛下,升温至1100~1150℃并保温,在达到保温温度前进行反向通气,得到长有硫化的硅片,然后将其进行光刻胶旋涂、加热、光刻,通过控制光刻板的沟道宽度控制,可以使得维硫化进行折叠,再显影后,可成功在同质两端搭建电极,得到硫化自构同质,该硫化自构同质具有良好的光探测应用前景
  • 一种二维硫化同质及其制备方法应用

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