专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]锗衬底-砷镓/锗异质薄膜复合结构及其制法和应用-CN202110274722.6有效
  • 张建军;黄鼎铭 - 中国科学院物理研究所
  • 2021-03-15 - 2023-07-21 - H01L31/109
  • 本发明提供一种锗衬底‑砷镓/锗异质薄膜复合结构,其包括具有图形结构的锗衬底、位于所述锗衬底上的具有无原子台阶锗表面的锗层,以及位于所述锗层上的砷镓层。本发明还提供一种制备本发明的锗衬底‑砷镓/锗异质薄膜复合结构的方法。本发明还提供本发明的锗衬底‑砷镓/锗异质薄膜复合结构或本发明的方法制得的锗衬底‑砷镓/锗异质薄膜复合结构在锗基III‑V族半导体光电器件中的应用。本发明的锗衬底‑砷镓/锗异质薄膜复合结构能够完全避免砷镓/锗异质结构中反向畤的产生,进而实现无缺陷的异质薄膜。本发明的制备方法简单,且能够实现大规模阵列式可控生长。
  • 衬底砷化镓锗异质结薄膜复合结构及其制法应用
  • [发明专利]多相纳米异质材料及其制备方法与应用-CN202111334639.X有效
  • 郎建平;薛江燕;倪春燕 - 苏州大学
  • 2021-11-11 - 2022-08-30 - C25B11/061
  • 本发明涉及纳米材料技术领域,具体公开了一种多相纳米异质材料的制备方法,包括以下步骤:提供一负载有NiMoO4前驱物的基底;将粉溶于水合肼中,加入水或钼酸钠水溶液,再加入所述负载有NiMoO4前驱物的基底,于180~200℃下进行反应;反应结束后,得到所述多相纳米异质材料。本发明还提供了由所述方法制备得到的四相1T/2H‑MoSe2‑H/R‑NiSe纳米异质材料、三相1T/2H‑MoSe2‑H‑NiSe纳米异质材料以及作为电催化剂在碱性条件下催化氢气析出反应的应用。本发明制备的多相纳米异质材料,具有较大的双层电容值、较大的电化学活性面积和较小的阻抗,大幅提升了电催化产氢的活性和稳定性。
  • 多相纳米异质结材料及其制备方法应用
  • [发明专利]一种异质光探测器的制备方法及光探测器-CN202011538140.6有效
  • 刘应军;王权兵;阳红涛;王任凡 - 武汉敏芯半导体股份有限公司
  • 2020-12-23 - 2021-03-09 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种异质光探测器的制备方法及光探测器,其中,制备方法通过对经图形化处理的第一材料层上设置一层掩膜,并使掩膜覆盖在第一材料层除异质区域之外的表面上,再在衬底设置第材料层,并使第材料层在异质区与第一材料层堆叠,不但使第材料层在衬底上的设置方法更为灵活,避免了现有技术中需要经过有机物辅助剥离及转移来实现两种材料的堆叠,而且还能够在对第材料层进行图形化处理时,掩膜对第一材料层进行保护,因此,本发明提供的异质光探测器的制备方法可实现低维材料异质制备的灵活性和规模的同时,还使得异质制备与CMOS工艺兼容,降低了异质的工业制备的门槛和成本。
  • 一种异质结光探测器制备方法
  • [发明专利]金属结构/氧化还原石墨烯复合结构及其制备方法-CN201910514249.7有效
  • 贺海燕;贺祯;沈清 - 陕西科技大学
  • 2019-06-10 - 2020-12-01 - C01B32/184
  • 本发明涉及金属结构/氧化还原石墨烯复合结构及其制备方法,首先制备WSe2薄膜的先驱体水溶液;在WSe2薄膜的先驱体水溶液中加入单层氧化石墨烯水溶液和柠檬酸base:Sub>/RGO先驱体水溶液;然后在165~180℃的条件下水热处理后,在插入WSe2/RGO先驱体水溶液中的聚乙烯萘酚基片上,得到薄膜状的金属结构/氧化还原石墨烯复合结构,将水热处理后剩余溶液中的沉淀物经过滤和洗涤后,干燥得到粉体状的金属结构/氧化还原石墨烯复合结构。本发明通过水热法,能够通过一步合成工艺实现对金属结构的的制备,不仅工艺简单,而且具有所用原材料和设备成本低、能耗小和效率高等优异的特点。
  • 金属结构二硒化钨氧化还原石墨复合结构及其制备方法

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