专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]合用晶圆、结构以及方法-CN202111581105.7在审
  • 曹语盟;陈凡;袁琨;卢基存;周华 - 光华临港工程应用技术研发(上海)有限公司
  • 2021-12-22 - 2022-04-05 - H01L23/544
  • 本发明提供一种合用晶圆、结构以及方法。所述方法包括如下步骤:提供合用的第一晶圆和第二晶圆;在第一晶圆和第二晶圆上形成对准标记,对准标记包括晶圆表面图形或者晶圆通孔。至少有一个晶圆具有通孔,透过该晶圆通孔可以观察到另外一个晶圆的对准标记;以第一晶圆和第二晶圆上的对准标记为基准,将第一晶圆和第二晶圆。本发明由于采用晶圆通孔实现可见光同时观察两个晶圆对准标记的直接对准,不需要透过硅晶圆的红外辅助装置或者对两个晶圆分别预先定位的机械对准过程,并且对晶圆的透光性无特别要求。
  • 合用结构以及方法
  • [发明专利]装置、装置的形成方法及方法-CN202310693688.5在审
  • 骆中伟;蓝天;华文宇 - 芯盟科技有限公司
  • 2023-06-12 - 2023-09-15 - H01L21/67
  • 一种装置、装置的形成方法及方法,其中键装置用于芯片和第一晶圆,所述第一晶圆包括若干芯片区,且各芯片区内具有待区,所述装置包括:衬底晶圆,所述衬底晶圆包括若干单元格区,当所述第一晶圆与所述衬底晶圆表面相贴合时各所述单元格区与各所述芯片区重合;位于所述衬底晶圆表面的辅助层,各单元格区上的所述辅助层内具有凹槽,所述凹槽底部暴露出所述衬底晶圆表面,所述凹槽用于容纳所述芯片,所述凹槽相对其所在的单元格区的位置与所述待区相对所述芯片区的位置一致,降低了若干所述芯片与第一晶圆之间的对准难度,有利于提高对准精度,提高获取的结构性能。
  • 装置形成方法
  • [发明专利]一种组合图像传感器芯片的形成方法和芯片分离方法-CN201911348397.2有效
  • 石虎 - 中芯集成电路(宁波)有限公司
  • 2019-12-24 - 2023-04-28 - H01L27/146
  • 本发明公开了一种组合图像传感器芯片的形成方法和芯片分离方法,其中,组合图像传感器芯片的形成方法包括:提供承载基底;在承载基底上通过热膜临时多个滤光片、在滤光片上形成围堰、在围堰上图像传感器芯片滤光片、和图像传感器芯片围成空腔,图像传感器芯片所在的一面为第一表面滤光片所在的一面为第二表面;提供环形边框以及切割膜、粘合膜,切割膜和粘合膜粘合在一起,且周边粘贴于环形边框,粘合膜所能承受的温度大于热膜失效的温度;将切割膜粘合在第一表面上;加热使热膜失效,以去除承载基底;利用拾片设备,将滤光片和图像传感器芯片构成的整体从切割膜上取下。
  • 一种组合图像传感器芯片形成方法分离
  • [发明专利]一种背面玻璃载板的IGBT晶圆加工工艺-CN202111341009.5在审
  • 严立巍;符德荣;陈政勋 - 绍兴同芯成集成电路有限公司
  • 2021-11-12 - 2022-02-25 - H01L21/78
  • 本发明公开一种背面玻璃载板的IGBT晶圆加工工艺,包括以下步骤:S1、完成晶圆正面金属制程前的工艺;S2、蚀刻晶圆背面形成缓坡;S3、完成晶圆背面制程;S4、背面涂布聚酰亚胺,玻璃载板;S5、制作正面金属制程;S6、正面涂布聚酰亚胺,通过显影、固化、蚀刻后裸露出切割道;S7、通过蚀刻、激光完成切割,除去正面的聚酰亚胺;S8、贴附在切割模框上,解除玻璃载板,去除粘着剂;S9、除去背面聚酰亚胺,使晶粒分离本发明在晶圆背面做缓坡状处理可以在边缘提供应力支撑,克服了背面回火温度的限制,同时本发明晶圆背面涂布聚酰亚胺并与玻璃载板,可以缓冲金属厚膜应力,确保薄晶圆在厚金属镀膜后不至翘曲破损。
  • 一种背面玻璃igbt加工工艺

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