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- [发明专利]微晶图制作过程-CN03122478.4有效
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陈孟伟;杨大弘;张庆裕
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旺宏电子股份有限公司
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2003-04-28
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2004-11-03
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H01L21/027
- 一种微晶图制作过程，其首先在一基底的上方形成一光阻层。之后，在光阻层的上方设置第一光掩模，该第一光掩模上具有一高密度图案。之后，进行第一曝光步骤，以将该第一光掩模上的高密度图案转移至光阻层，其中第一曝光步骤的曝光能量为E1。之后，再于光阻层的上方设置第二光掩模，该第二光掩模上具有一低密度图案。随后，进行第二曝光步骤，以将该第二光掩模上的低密度图案转移至光阻层，其中第二曝光步骤的曝光能量为E2，且E2大于E1。最后，进行显影步骤，以图案化光阻层。
- 微晶图制作过程
- [发明专利]光掩模检查装置-CN202310205204.8在审
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岸本良
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株式会社斯库林集团
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2023-03-06
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2023-09-22
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G03F1/84
- 本发明提供一种能够以更高的检测精度对光掩模进行检测的可靠性高的光掩模检查装置。光掩模检查装置包括：保持部、第一光源、第二光源、混合部、照明光学系统、成像光学系统、图像传感器、以及运算处理部。保持部保持光掩模。第一光源包括射出第一光的单一的第一半导体发光元件。第二光源包括射出第二光的单一的第二半导体发光元件。混合部将第一光及第二光混合。照明光学系统将光引导到光掩模。图像传感器接收通过成像光学系统而入射的光，并生成拍摄图像。运算处理部基于拍摄图像来进行光掩模的检查。
- 光掩模检查装置
- [发明专利]清洁光掩模板的装置及方法-CN201310625617.8在审
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毛智彪
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上海华力微电子有限公司
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2013-11-28
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2014-03-19
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G03F1/82
- 本发明涉及半导体制造装备技术领域，尤其是一种清洁光掩模板的装置以及清洁方法。该装置包括具有排气口的腔体；位于所述腔体内的用于固定待清洁光掩模板的平台；能够平行于光掩模板表面移动的喷管，所述喷管具有沿着其长度延伸方向平行布置的第一组喷嘴与第二组喷嘴，所述第一组喷嘴与气溶剂的产生装置连接本发明在有效去除光掩模板表面的微尘和沾污的同时，高效地去除了光掩模板表面的静电，避免了静电释放对光掩模板的损伤，提高了去除光掩模板表面微尘和沾污的效率，可以有效地延长光掩模在生产中的使用寿命。
- 清洁模板装置方法
- [发明专利]一种4K光刻的方法-CN202110571029.5在审
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严振中;吴阳
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赫智科技(苏州)有限公司
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2021-05-25
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2022-11-25
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G03F7/20
- 本发明涉及一种4K光刻的方法，包括以下步骤：步骤1：将紫外光和指引光进行准直处理；步骤2：通过二向色镜后进行合束；步骤3：通过匀光透镜组出来的光是均匀的发散光；步骤4：通过第一分光片；步骤5：在步骤4基础上，通过第一光掩模板反射回来的光将带着第一光掩模板上面的信息，接着再通过第一分光片和第二分光片反射到第二光掩模板上，使第一光掩模板的信息与第二光掩模板的信息形成错位重合；步骤6：将重合的第二光掩模板与第一光掩模板所携带的信息，经透射通过第二分光片、第三分光片与照明光实现合束后通过第四分光片实现了图形的转移，最后，由相机成像观测。
- 一种光刻方法
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