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[发明专利]光掩模基板以及光掩模制作方法-CN201110383933.X有效
发明人：吉川博树;稻月判臣;冈崎智;原口崇;佐贺匡;小岛洋介;千叶和明;福岛佑一 -专利权人：信越化学工业株式会社;凸版印刷株式会社
申请日： 2007-03-09 - 公布日： 2012-03-21 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：一种光掩模基板以及光掩模制作方法。该光掩模基板包括透明衬底、沉积在衬底上并包含易于氟干法蚀刻的金属或金属化合物的光屏蔽膜、以及沉积在该光屏蔽膜上并包含耐氟干法蚀刻的另一金属或金属化合物的蚀刻掩模膜。当对光屏蔽膜进行干法蚀刻以形成图案时，由图案密度的依赖性所引起的图案尺寸的变化减少了，从而以高精确度制造出光掩模。
光掩模基板以及光掩模制作方法

[发明专利]形成具有精确特性的集成电路部件的系统和方法-CN200580025639.4无效
发明人： C·A·韦斯特 -专利权人：凸版光掩膜公司
申请日： 2005-07-25 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：提供了一种包括第一掩模特征的光掩模，该第一掩模特征包括具有对应于第一类型的集成电路(IC)部件的掩模特征几何形状。执行第一光刻工艺，以将第一掩模特征几何形状转移到半导体晶片，以在半导体晶片上形成第一IC部件。测量半导体晶片上的第一IC部件的至少一个电特性。至少基于第一IC部件的该至少一个电特性的测量结果物理地修改第一掩模特征几何图形。
形成具有精确特性集成电路部件系统方法

[发明专利]布局图形的检查方法-CN201310398625.3有效
发明人：王辉;李天慧 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2013-09-04 - 公布日： 2018-07-10 - 主分类号： G03F1/36 文献下载
摘要：一种布局图形的检查方法，包括：提供目标图形和光学透镜系统，以及根据目标图形和光学透镜系统设计的原始光掩模图形；获取所述原始光掩模图形和光学透镜参数，根据光学透镜系统参数对所述原始光掩模图形进行第一模型化，获得与所述原始光掩模图形上的各点相对应的空间光强；获取光刻参数，根据光刻参数对所述空间光强进行第二模型化，获得与所述原始光掩模图形上的各点相对应的光刻光强；逐一比较所述原始光掩模图形上的各点的空间光强和光刻光强，获取两者的区别值，当所述区别值大于第一预定值时，则对所述原始光掩模图形上的该点进行标记。提高了找到的潜在的缺陷点的准确率，因此，可得到较为准确的初步符合要求的设计光掩模图形。
掩模图形原始光光刻光学透镜系统光强布局图形目标图形空间光模型化光学透镜参数光掩模图形所述空间预定值时潜在的缺陷点准确率检查

[发明专利]固持器、清洁光掩模的方法以及开关固持器的装置-CN201780081883.5有效
发明人：杰士·克鲁伯格;亚当·贝沙;伍威·戴兹 -专利权人：休斯微科光罩仪器股份有限公司
申请日： 2017-11-16 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种固持或保护光掩模或是具有防尘薄膜的光掩模的侧边免受清洁媒介影响的固持器、清洁此类光掩模的方法以及开关固持器的装置。固持器具有：基座，具有至少三个支撑组件，设置在距离基座的底部一距离处，以固持及保持所述光掩模或具有防尘薄膜的光掩模，且具有具上部侧与下部侧的密封框，其中下部侧可安放于基座上，且其中密封框具有中心开口，其经设定大小使得中心开口可以间隔的方式容纳光掩模周围弹性密封组件设置于密封框上，以与密封框的上部侧呈角度从中心开口的内周围延伸至中心开口，其中，在空载状态下，密封组件具有小于光掩模的外周围的内周围，且在负载状态下，密封组件周向性地在侧边缘处接触容纳于中心开口中的光掩模
固持器清洁光掩模方法以及开关装置

[发明专利]光掩模坯料、光掩模坯料的制造方法、光掩模的制造方法及显示装置的制造方法-CN201911179769.3在审
发明人：田边胜;浅川敬司;安森顺一;石原重德;花冈修 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2019-11-27 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明提供在通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而形成转印图案时能够缩短过蚀刻时间、可以形成具有良好的截面形状的转印图案的光掩模坯料。所述光掩模坯料在透明基板上具有图案形成用薄膜，其中，光掩模坯料是用于形成光掩模的原版，所述光掩模通过对图案形成用薄膜进行湿法蚀刻而在透明基板上具有转印图案，图案形成用薄膜含有过渡金属和硅，图案形成用薄膜具有柱状结构
光掩模坯料制造方法显示装置

[发明专利]光掩模修复方法及其系统-CN202210220006.4在审
发明人：张浩铭;庄景智;李效丞 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2022-03-08 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： G03F1/72 文献下载
摘要：本发明实施例涉及一种光掩模修复方法及其系统。一种光掩模修复的方法包含：提供光掩模，其中所述光掩模包含多层堆叠、光吸收层、抗反射涂层和光吸收层。所述方法进一步包含：接收有关光掩模的信息；根据所述信息确定偏压；基于偏压确定电子束写入器系统的扫描配方；电子束写入器系统以扫描配方对抗反射涂层与光吸收层中的至少一者执行修复操作。
光掩模修复方法及其系统

[发明专利]用于检查和判定光掩模坯或其中间体的方法-CN201010158156.4有效
发明人：稻月判臣;金子英雄;吉川博树 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2010-03-31 - 公布日： 2010-10-06 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：公开了一种用于检查和判定光掩模坯或其中间体的方法。通过下述步骤来检查衬底上有膜的光掩模坯：(A)测量具有待检查应力的膜的光掩模坯的表面形貌，(B)从所述光掩模坯去除所述膜以提供经处理的衬底，(C)测量去除所述膜之后经处理的衬底的表面形貌，以及(D)比较光掩模坯或中间体的表面形貌和经处理的衬底的表面形貌
用于检查判定光掩模坯中间体方法

[发明专利]光掩模及光掩模承载平台的维护方法-CN201711069037.X有效
发明人：王宏祺;杨盛华 -专利权人：力晶积成电子制造股份有限公司
申请日： 2017-11-03 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本发明公开一种光掩模及光掩模承载平台的维护方法，该光掩模可置放于曝光装置中的光掩模承载平台上，此光掩模包括一基板以及一反射结构。
光掩模承载平台维护方法

[实用新型]光掩模贴膜工序用的板夹-CN201320411185.6有效
发明人：成立炯;俞子华 -专利权人：上海凸版光掩模有限公司
申请日： 2013-07-10 - 公布日： 2014-02-05 - 主分类号： B25B9/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种光掩模贴膜工序用的板夹。所述光掩模贴膜工序用的板夹至少包括：具有三条边的框体，其两自由端分别设置有夹持光掩模的夹持部件，且在该框体的一边角设置有手持部件。由于夹持部件设置在边角，既可满足目检时的夹持要求，亦可有效防止将光掩模放入贴膜机时所带来的灰尘坠落问题，进而有效提高光掩模产品的成品率。
光掩模贴膜工序

[发明专利]包括遮光层的光掩模及利用其形成图案的方法-CN201811155357.1有效
发明人：郑守镜 -专利权人：爱思开海力士有限公司
申请日： 2018-09-30 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： G03F1/54 文献下载
摘要：本发明提供了一种光掩模和利用所述光掩模形成图案的方法。所述光掩模包括掩模主体，所述掩模主体包括图案区域和外围区域，并且具有第一表面和第二表面。掩模图案设置在与所述掩模主体的第一表面的图案区域重叠的部分上。遮光层设置在所述外围区域中。
包括遮光光掩模利用形成图案方法

[发明专利]混合式光掩模的照相腐蚀制造方法-CN02156383.7有效
发明人：林金隆;杨春晖;洪文田 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2002-12-18 - 公布日： 2004-03-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种使用无铬膜与相转移混合式光掩模的照相腐蚀制造方法，其首先提供一光掩模，其中此光掩模上形成有一栅极图案，且此栅极图案的一关键尺寸处形成有一180度的相转移层。之后，进行一曝光制造过程，以将光掩模上的栅极图案转移至一光致抗蚀剂层。
混合式光掩模照相腐蚀制造方法

[发明专利]使用双重图案化技术在副轴上形成CMOS栅极的方法-CN201410764481.3有效
发明人：格雷戈里·查尔斯·鲍德温;斯科特·威廉·耶森 -专利权人：德州仪器公司
申请日： 2014-12-11 - 公布日： 2019-07-19 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：通过经由包含核心晶体管栅极及加大的I/O晶体管栅极的栅极图案光掩模暴露栅极蚀刻掩模层堆叠而形成含有核心晶体管及垂直于所述核心晶体管定向的I/O晶体管的集成电路。由所述栅极图案光掩模界定核心晶体管栅极长度。第一栅极硬掩模蚀刻过程移除经暴露区域中的所述栅极硬掩模层。所述过程继续经由栅极修整光掩模暴露栅极修整掩模层堆叠。由所述栅极修整光掩模界定I/O栅极长度。第二栅极硬掩模蚀刻过程移除经暴露区域中的所述栅极硬掩模层。栅极蚀刻操作移除由所述栅极硬掩模层暴露的多晶硅以形成所述核心晶体管及所述I/O晶体管的栅极。所述集成电路还可包含平行于所述核心晶体管定向的具有由所述栅极图案光掩模界定的栅极长度的I/O晶体管。
使用双重图案技术副轴上形成 cmos 栅极方法

[发明专利]光掩模坯、光掩模及半导体器件的制造方法-CN202210433715.0在审
发明人：李乾坤;崔石荣;李亨周;孙晟熏;金星润;郑珉交;申仁均 -专利权人： SKC索密思株式会社
申请日： 2022-04-24 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：实施例涉及光掩模坯、光掩模、半导体器件的制造方法等，提供光掩模坯等，上述光掩模坯包括：透光基板，以及多层的遮光膜，配置于上述透光基板上；上述遮光膜包括：第一遮光层，具有第一硬度，以及第二遮光层，具有第二硬度实施例的光掩模坯、光掩模等具有提高的耐缺陷性能，在半导体器件的制造方法中，通过高的精密度进一步减少缺陷的产生。
光掩模坯光掩模半导体器件制造方法

[发明专利]一种光掩模基板外形尺寸测量系统及方法-CN202211255841.8在审
发明人：刘经纬;欧阳琛;朱继红;顾立新;张欣;李金祥;黄群亮 -专利权人：长飞光纤光缆股份有限公司
申请日： 2022-10-13 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种光掩模基板外形尺寸测量系统及方法，属于半导体和显示面板光掩模基板制造领域，该系统包括：样品转移单元、样品运动单元及光学测量系统；样品转移单元，用于将被测光掩模基板在待检区域和测试区域间进行转移；样品运动单元，用于配合光学测量系统调整被测光掩模基板的俯仰角度、旋转角度和高度；光学测量系统，用于测量被测光掩模基板的外形尺寸。通过本发明提供一种精度高、重复性高、无损伤、性价比高的光掩模基板外形尺寸测量系统及方法。
一种光掩模基板外形尺寸测量系统方法

[发明专利]光掩模的保管箱-CN201911070920.X有效
发明人：李铉万 -专利权人：全球株式会社
申请日： 2019-11-05 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： B65D25/10 文献下载
摘要：本发明涉及光掩模的保管箱，具体地说，涉及光掩模的保管箱，其包括：下框，其内部具有用于放置光掩模的支撑部；上框，其与下框连接；以及，固定部，其设置在下框的内侧边缘且用于固定被放置在下框的支撑部的光掩模；其中，固定部是在本体上利用螺栓部件将旋转罩部件向前后移动，此时压入到旋转罩部件的加压固定部件是在不旋转的状态前进，从而防止光掩模微粒的产生，并且在加压固定部件的前面形成曲面部，从而防止因加压固定部件的表面而在光掩模产生微粒
光掩模保管箱