专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果656个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]光刻胶输送系统-CN202011091893.7有效
  • 金在植;张成根;林锺吉;贺晓彬;丁明正;杨涛;李俊峰;王文武 - 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
  • 2020-10-13 - 2023-10-20 - B05C11/10
  • 本发明公开了一种光刻胶输送系统,该光刻胶输送系统包括光刻胶供给瓶、缓冲罐和排液胶泵,其中,缓冲罐的顶部设置有进液口和排液口,进液口与光刻胶供给瓶通过进液管路连通,以使光刻胶流入;缓冲罐的底部设置有光刻胶出口,光刻胶出口用于与光刻胶喷嘴连通,以使光刻胶流入光刻胶喷嘴中;排液胶泵与排液口通过排液管路连通,以抽取缓冲罐中的空气。本发明中排液胶泵通过抽取的方式促使光刻胶进入缓冲罐,降低或避免了光刻胶中产生气泡的可能性;而且排液口设置在缓冲罐的顶部,能够将缓冲罐中的空气以及含有气泡的光刻胶抽取出去,不仅避免了浪费大量光刻胶,而且避免了后续光刻胶涂布时由于气泡造成的晶圆缺陷。
  • 光刻输送系统
  • [发明专利]一种CMP研磨垫及CMP研磨装置-CN202011257722.7有效
  • 金泰源;张月;杨涛;卢一泓;刘青 - 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
  • 2020-11-11 - 2023-09-22 - B24B37/26
  • 本发明提供了一种CMP研磨垫及CMP研磨装置,该CMP研磨垫包括一个圆盘状的研磨垫。还包括设置在研磨表面上的多个圆环形沟槽,多个圆环形沟槽呈同心圆状由研磨垫的中心向研磨垫的边缘依次排布。研磨表面划分为N个研磨区。该N个研磨区包括位于研磨垫中心处且呈圆形第一研磨区,还包括呈同心圆状由研磨垫的中心向边缘依次排布的第二研磨区至第N研磨区。第二研磨区至第N研磨区中的每个研磨区上均穿设有连通该研磨区上任意相邻的两个圆环形沟槽的通孔。通过在第二研磨区至第N研磨区中的每个研磨区上均穿设有通孔,调节不同研磨区中研磨液的量,改善CMP工序中晶圆表面成膜图形的均匀性,提高良率。
  • 一种cmp研磨装置

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top