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[发明专利]针织品缝制模版智能调用方法及设备-CN202310914524.0有效
发明人：李洪勇;刘辉;孙岩 -专利权人：天津天石休闲用品有限公司
申请日： 2023-07-25 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： G06F40/186 文献下载
摘要：本发明提供了一种针织品缝制模版智能调用方法及设备，包括：确定需要使用的目标模版，并提取与目标模版对应的目标模版编码；将目标模版编码输入模版提取装置，模版提取装置根据目标模版编码中的区位编码数值确定目标模版所在的分区；确定分区出口处的当前模版的位置编码，根据目标模版编码中的区内位置编码与当前模版的位置编码的差值，确定分区内全部模版所需转动的步长；根据步长转动分区内的全部模版后，在分区出口处弹出目标模版的实体；其中，每个分区中的全部模版以闭环方式进行排列。本发明可以在明确模版需求后自动得到模版实体，避免了人工挑选模版费时费力的问题，提高了模版的提取精度和提取效率。
针织品缝制模版智能调用方法设备

[发明专利]网络信息发布系统及其发布方法-CN03100179.3无效
发明人：武靖 -专利权人：联想（北京）有限公司
申请日： 2003-01-09 - 公布日： 2004-07-28 - 主分类号： G06F17/00 文献下载
摘要：一种网络信息发布系统及其发布方法，该发布系统包括：基模版，为具有网络信息发布所需要的共性模版要素的HTML模版；大模版，从上述基模版中选定共性模版要素并进行实例化而成，每种选定的模版要素根据所要建立具体网页的需要而具有相应的数量；及小模版，由大模版中每种模版要素中每个模版要素细化而成，每个模版要素根据具体页面所需要的表现形式而具有相应的属性。相应地，该发布方法包括如下步骤：制作大模版，对基模版中每种共性模版要素进行实例化，根据所要建立具体网页的需要，指定每种共性模版要素相应数量；制作小模版，细化大模版中每种共性模版要素中每个模版要素，根据具体页面所需要的表现形式而指定每个模版要素的相应属性
网络信息发布系统及其方法

[发明专利]页面资源加载方法、装置和系统-CN201610378338.X在审
发明人：姚蕾 -专利权人：乐视控股（北京）有限公司;乐视网信息技术（北京）股份有限公司
申请日： 2016-05-31 - 公布日： 2016-10-26 - 主分类号： G06F17/30 文献下载
摘要：本发明实施例公开一种页面资源加载方法、装置和系统，其中，所述方法包括：获取至少两个广告模版文件信息；拼接所述至少两个广告模版文件信息形成组合模版文件信息，发送广告模版请求，广告模版请求包括组合模版文件信息；接收组合模版文件，组合模版文件中包括与所述至少两个广告模版文件信息对应的至少两个广告模版文件；将组合模版文件拆解为所述至少两个广告模版文件，根据所述至少两个广告模版文件，加载广告。本发明实施例只需发送一次包括有组合模版文件信息的广告模版请求，即可获得组合模版文件，对组合模版文件拆解后即可加载广告。整个处理过程环节少，仅需发送一次广告模版请求，有效减少占用的网络带宽资源，提高页面资源加载速度。
页面资源加载方法装置系统

[发明专利]一种书本印刷用模版及其制版工艺-CN202310881621.4在审
发明人：王浩宇;亓聪;狄会祥;吕小伟 -专利权人：山东华立印务有限公司
申请日： 2023-07-18 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： B41C1/00 文献下载
摘要：本发明提供一种书本印刷用模版及其制版工艺，包括模版，所述模版表面通过激光雕刻有书本印刷所需的图案；所述模版的制版工艺包括以下步骤：获取废弃CTP模版，收集旧的具有图案的模版；去除CTP模版表面的图案，获得CTP模版坯料，为旧模版再生提供准备材料；对CTP模版坯料表面进行整平处理，使得CTP模版坯料表面便于涂覆感光材料。该书本印刷用模版的制版工艺，通过将废弃的CTP模版作为原材料，然后通过打磨和抛光的方式去除CTP模版表面原本存在的图案，接着再对CTP模版表面重新涂覆感光材料，实现CTP模版的重生，再经过激光刻版、显影机显影和清洗获得全新的CTP模版，最后通过CCD摄像头对CTP模版表面的图案进行检验，避免图案尺寸和位置出现偏差。
一种书本印刷模版及其制版工艺

[发明专利]一种通用掩模版盒-CN201811041483.4在审
发明人：朱希进;尤春;刘维维;季书凤;杨长华;薛文卿;张月圆;刘浩;陈青;刘孝君 -专利权人：无锡中微掩模电子有限公司
申请日： 2018-09-07 - 公布日： 2019-01-01 - 主分类号： G03F1/66 文献下载
摘要：本发明公开了一种通用掩模版盒，包括掩模版盒上合盖，掩模版盒上合盖一侧设有掩模版存放盒，掩模版盒上合盖和掩模版存放盒之间通过两个软铰链连接，掩模版盒上合盖和掩模版存放盒上均设有5009掩模版限板，5009掩模版限板分别设置于掩模版盒上合盖和掩模版存放盒的四边中心位置，每个设有两个限位杆，上的限位板之间设有5009掩模版限位槽，掩模版盒上合盖和掩模版存放盒四周均设有6025掩模版限位板，5009掩模版限板内侧设有互为直角的倾斜面
掩模版掩模版盒合盖存放盒限板通用掩模版限位板四边中心位置绿色环保防尘防水雾倾斜面软铰链限位槽限位杆加工

[实用新型]一种通用掩模版盒-CN201821461009.2有效
发明人：朱希进;尤春;刘维维;季书凤;杨长华;薛文卿;张月圆;刘浩;陈青;刘孝君 -专利权人：无锡中微掩模电子有限公司
申请日： 2018-09-07 - 公布日： 2019-04-26 - 主分类号： G03F1/66 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种通用掩模版盒，包括掩模版盒上合盖，掩模版盒上合盖一侧设有掩模版存放盒，掩模版盒上合盖和掩模版存放盒之间通过两个软铰链连接，掩模版盒上合盖和掩模版存放盒上均设有5009掩模版限板，5009掩模版限板分别设置于掩模版盒上合盖和掩模版存放盒的四边中心位置，每个设有两个限位杆，上的限位板之间设有5009掩模版限位槽，掩模版盒上合盖和掩模版存放盒四周均设有6025掩模版限位板，5009掩模版限板内侧设有互为直角的倾斜面
掩模版掩模版盒合盖存放盒本实用新型限板通用掩模版限位板四边中心位置绿色环保防尘防水雾倾斜面软铰链限位槽限位杆加工

[发明专利]光掩模版及其制作方法、图形化的方法-CN200710094458.8无效
发明人：肖德元;隋建国;刘永 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-12-13 - 公布日： 2009-06-17 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种光掩模版制作方法，包括：将布局对准标记图案写入光掩模版上，形成掩模版对准标记图案；将布局半导体器件图案写入所述光掩模版上，形成与所述掩模版对准标记图案相邻的掩模版半导体器件图案。本发明还提供一种光掩模版和图形化的方法。本发明将掩模版半导体器件图案和掩模版对准标记图案做在同一光掩模版上，在晶圆半导体器件区域将光掩模版上掩模版半导体器件图案与之对准并曝光，在晶圆对准标记区域将光掩模版上的掩模版对准标记图案与之对准并曝光。简化了光刻步骤，节省了工艺时间及光掩模版材料。
模版及其制作方法图形方法

[发明专利]一种纳米压印用拼版模版的制备方法-CN202310114480.3在审
发明人：胡庆文;史瑞;史瑞城;李晓军 -专利权人：广纳四维（广东）光电科技有限公司
申请日： 2023-02-13 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种纳米压印用拼版模版的制备方法，包括：提供模版框架和至少两个单元模版，所述模版框架中包含至少两个子框架；所述单元模版上设有预置图案；将所述单元模版填充进所述子框架中，得到整版模版；将所述整版模版压印在待压印模版上，得到拼版模版。采用上述技术方案，能够实现制备大面积的纳米压印用拼版模版，能够提高制备效率，节约生产成本。
一种纳米压印拼版模版制备方法

[发明专利]一种5块掩模版IGBT芯片及其制造方法-CN201210305957.8有效
发明人：刘江;赵哿;高明超;金锐 -专利权人：中国电力科学研究院;国家电网公司
申请日： 2012-08-24 - 公布日： 2012-12-26 - 主分类号： H01L29/739 文献下载
摘要：本发明涉及一种5块掩模版IGBT芯片，由所述5块掩模版制造形成IGBT芯片；所述5块掩模版分别是孔掩模版、金属掩模版、钝化掩模版、有源区掩模版和多晶掩模版；所述孔掩模版、金属掩模版和钝化掩模版位于IGBT芯片互连及保护模块中；所述有源区掩模版和多晶掩模版位于与IGBT芯片互连及保护模块相反方向的模块中。本发明还涉及一种5块掩模版IGBT芯片的制造方法，本发明的方案极大降低IGBT芯片制造成本，为IGBT芯片制造指出了一条新颖的技术路线。实现容易，可行性强；与传统IGBT芯片制造方法（≥6块掩模版）相比，显著的降低成本。
一种模版 igbt 芯片及其制造方法

[发明专利]光学控制模块、掩模版及包括光控模块和掩模版的方法-CN202010303264.X在审
发明人： L·麦克金;J·科布森;A·H·J·坎普赫尤斯 -专利权人：恩智浦美国有限公司
申请日： 2020-04-17 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开涉及光学控制模块、掩模版及包括光控模块和掩模版的方法。用于集成电路装置图案化的光学控制模块、掩模版及包括光学控制模块和掩模版的方法。方法包括经由掩模版在半导体衬底的表面上曝光初始掩模版曝光场和后续掩模版曝光场。初始掩模版曝光场和后续掩模版曝光场在半导体衬底上图案化相应的阵列区域和边缘区域。初始掩模版曝光场与所述后续掩模版曝光场部分重叠，使得在初始掩模版曝光场的曝光期间图案化的初始光学控制模块(OCM)和在后续掩模版曝光场的曝光期间图案化的后续OCM都定位在单个控制模块管芯内。掩模版包括可以在方法期间使用或可以形成所述集成电路装置的掩模版。集成电路装置包括使用方法或掩模版形成的集成电路装置。
光学控制模块模版包括光控方法

[发明专利]曝光方法和曝光装置-CN02154533.2无效
发明人：平柳德行 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2002-12-06 - 公布日： 2003-06-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在真空初缩掩模版库64上设有用于承载放置被搬运的初缩掩模版的多级初缩掩模版台68。在该初缩掩模版台68内形成液道68a。通过使温度调节用的水流过初缩掩模版台68的液道68a，可以对初缩掩模版台上的初缩掩模版进行温度调节。另一方面，在大气初缩掩模版库66上设有多级初缩掩模版台69。初缩掩模版容器67分别放置在各初缩掩模版台69上。在初缩掩模版容器67和各初缩掩模版上贴有条形码70。当搬运初缩掩模版时，通过读取贴在初缩掩模版上的条形码70，可以对所搬运的初缩掩模版进行确认。
曝光方法装置

[实用新型]合成石隔热的压印烫金一体模版-CN202021901836.6有效
发明人：郑少山 -专利权人：汕头和兴隆激光刀模有限公司
申请日： 2020-09-03 - 公布日： 2021-06-29 - 主分类号： B41F19/06 文献下载
摘要：一种合成石隔热的压印烫金一体模版，包括若干相互分离且印制部同向设置的压印模版、烫金模版，压印模版的印制部设置有若干模版浮雕，烫金模版的印制部可选择地设置有若干模版浮雕，其压印模版不贯穿合成石治具地安装于合成石治具的压印模版安装位；所述烫金模版贯穿合成石治具地安装于烫金模版安装位，且烫金模版与烫金模版安装位之间设置有隔热槽。其能够在一次压制过程中同时完成压印、烫金工序，并且有效隔绝烫金区对压印区印刷油墨的热影响；经校正孔和锁定钉的共同校正，能够使压印模版和/或烫金模版的模版浮雕与图案能对应照准，尤其适合如烟盒般承印面积较小
合成隔热压印烫金一体模版

[发明专利]中间掩模版保持器和中间掩模版的组件-CN201110274972.6有效
发明人： G·-J·希伦斯;B·L·W·M·范德文 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2004-10-26 - 公布日： 2012-02-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种中间掩模版和中间掩模版保持器的组件，其中中间掩模版保持器(1)的状态在形状锁合的中间掩模版阻止状态和中间掩模版释放状态之间是可调整的，其中当中间掩模版保持器(1)处于阻止状态中时，中间掩模版保持器(1)用于至少以形状锁合方式沿至少一个方向(X，Y，Z)保持中间掩模版(MA)，当中间掩模版保持器(1)处于释放状态时，该中间掩模版保持器(1)用于释放中间掩模版(MA)。本发明还涉及一种系统，包括中间掩模版(MA)和中间掩模版保持器(201)的组件，以及至少一个检测器(250)，其中中间掩模版(MA)包括一个或多个标记(MRK)，其中中间掩模版保持器(201)和检测器(250)用于相对于彼此在运动学上对准，其中检测器(250)用于检测所述中间掩模版标记(MRK)，用以使中间掩模版(MA)相对于中间掩模版保持器(201)定位。
中间模版保持组件

[发明专利]中间掩模版保持器和中间掩模版的组件-CN200410087986.7有效
发明人： G·－J·希伦斯;B·L·W·M·范德文 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2004-10-26 - 公布日： 2005-09-28 - 主分类号： G03F1/16 文献下载
摘要：中间掩模版和中间掩模版保持器的组件，其中中间掩模版保持器(1)的状态在形状锁合的中间掩模版阻止状态和中间掩模版释放状态之间是可调整的，其中当中间掩模版保持器(1)处于阻止状态中时，中间掩模版保持器(1)用于至少以形状锁合方式沿至少一个方向(X，Y，Z)保持中间掩模版(MA)，当中间掩模版保持器(1)处于释放状态时，该中间掩模版保持器(1)用于释放中间掩模版(MA)。本发明还涉及一种系统，包括中间掩模版(MA)和中间掩模版保持器(201)的组件，以及至少一个检测器(250)，其中中间掩模版(MA)包括一个或多个标记(MRK)，其中中间掩模版保持器(201)和检测器(250)用于相对于彼此在运动学上对准，其中检测器(250)用于检测所述中间掩模版标记(MRK)，用以使中间掩模版(MA)相对于中间掩模版保持器(201)定位。
中间模版保持组件

[发明专利]掩模版厚度检测装置、存储机构、传输机构及光刻系统-CN201810251811.7有效
发明人：牛增欣;郑教增 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-03-26 - 公布日： 2021-03-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩模版厚度检测装置、存储机构、传输机构及光刻系统。其中，掩模版厚度检测装置，包括：厚度检测传感器，包括激光发射与接收端，激光发射与接收端位于掩模版的一侧，沿掩模版的水平方向发射激光照射掩模版，并接收被反射回的激光；驱动部件，用于驱动掩模版或厚度检测传感器运动，以使二者在沿掩模版的厚度方向上相对运动；厚度计算单元，计算掩模版的厚度信息。本发明实施例提供的掩模版厚度检测装置，通过厚度检测传感器检测掩模版的厚度，并根据该厚度信息实时调整掩模版的工位交接距离，避免相邻掩模版之间发生碰撞而损坏掩模版或掩模版传输机构。
模版厚度检测装置存储机构传输光刻系统

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