[发明专利]一种低空洞率LED芯片的制作方法在审

专利信息
申请号: 202211283776.X 申请日: 2022-10-19
公开(公告)号: CN115602774A 公开(公告)日: 2023-01-13
发明(设计)人: 范凯平;唐恝;邓梓阳;姚晓薇;于倩倩 申请(专利权)人: 佛山市国星半导体技术有限公司
主分类号: H01L33/44 分类号: H01L33/44;H01L33/00;C23C14/24;C23C14/14
代理公司: 广东广盈专利商标事务所(普通合伙) 44339 代理人: 李俊
地址: 528226 广东省佛山市南海区狮*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种低空洞率LED芯片的制作方法,涉及发光二极管技术领域,包括以下步骤:在外延片上按照LED芯片工艺流程制作绝缘膜层和金属膜层;在每一层绝缘膜层成型之后,将所对应的绝缘膜层连同外延片浸入绝缘体纳米粒子流体中进行加热及超声震荡处理;然后将其取出进行清洗,并置于N2气氛中进行高温退火处理;在制作每一层金属膜层时,采用单个合金材料锭作为单个材料源进行蒸镀,或采用多个金属单质材料锭作为多个材料源同时进行蒸镀形成所述每一层金属膜层。本发明的方法通过将绝缘膜层浸入纳米粒子流体中加热、超声震荡并高温退火处理,降低了膜层空洞率;通过特殊的PVD工艺制成金属膜层,降低了膜层空洞率。
搜索关键词: 一种 空洞 led 芯片 制作方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佛山市国星半导体技术有限公司,未经佛山市国星半导体技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202211283776.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 一种LED芯片及其制备方法-202310906528.4
  • 张雪;李美玲;张星星;林潇雄;胡加辉;金从龙 - 江西兆驰半导体有限公司
  • 2023-07-21 - 2023-10-27 - H01L33/44
  • 本发明提供一种LED芯片及其制备方法,LED芯片包括外延片以及设置在外延片上的P型电极和N型电极,外延片还包括绝缘阻挡层、以及沉积在P型电极和N型电极的表面上的钝化层、以及沉积在钝化层上的超疏水膜层;P型电极和N型电极与外延片之间均设有绝缘阻挡层;绝缘阻挡层在P型电极所在位置设有第一通孔,P型电极通过第一通孔与外延片电连接,绝缘阻挡层在N型电极所在位置设有第二通孔,N型电极通过第二通孔与外延片电连接。本发明主要通过在不改变封装打线面积的前提下拉大PN电极间距、以及表面膜层设计来减少水汽残留等手段,来解决水汽引发的短路及金属移异常的问题。
  • 一种微型发光芯片及其制作方法-202210376529.8
  • 王涛;柴圆圆;朱小松;张偲;谷鹏军 - 重庆康佳光电技术研究院有限公司
  • 2022-04-11 - 2023-10-24 - H01L33/44
  • 本发明涉及一种微型发光芯片及其制作方法,包括:外延层,外延层包括第一半导体层,第二半导体层以及位于第一半导体层和第二半导体层之间的有源层;还包括分别设于第一半导体层和第二半导体上第一欧姆接触层和第二欧姆接触层;分别设于第一欧姆接触层和第二欧姆接触层的第一金属蚀刻阻挡层和第二金属蚀刻阻挡层,第一金属蚀刻阻挡层和第二金属蚀刻阻挡层具有抗蚀刻特性;以及分别设于第一金属蚀刻阻挡层和第二金属蚀刻阻挡层之上的第一电极和第二电极。通过金属蚀刻阻挡层的阻挡作用,使得欧姆接触层及金属蚀刻阻挡层不会被蚀刻,金属与半导体层之间的欧姆接触良好,提高了芯片的发光效率。
  • 一种倒装发光二极管芯片及其制备方法-202311206423.4
  • 李文涛;鲁洋;林潇雄;胡加辉;金从龙 - 江西兆驰半导体有限公司
  • 2023-09-19 - 2023-10-24 - H01L33/44
  • 本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种倒装发光二极管芯片及其制备方法;包括以下步骤:提供一衬底,在衬底上沉积隔离层,对隔离层进行刻蚀形成第一容纳槽;在第一容纳槽内沉积外延层;在隔离层上沉积Ag环层;在Ag环层上沉积Ag环保护层,在外延层上沉积电流阻挡层;对部分外延层进行刻蚀形成N型导电台阶;在电流阻挡层上沉积电流扩展层;在N型导电台阶上沉积N型电极,在电流扩展层上沉积P型电极;在电流扩展层上沉积布拉格反射层;对衬底底部进行刻蚀形成第一斜坡及第二斜坡。本发明利用隔离层隔离外延层,无需制备隔离槽隔离外延层,有效避免了因外延层非辐射复合的增加,从而导致外延层材料内量子效率降低的问题。
  • 一种显示器件制备方法、显示器件及显示设备-202310933704.3
  • 毛学;张珂 - 深圳市思坦科技有限公司
  • 2023-07-27 - 2023-10-20 - H01L33/44
  • 本申请公开了一种显示器件制备方法、显示器件及显示设备,涉及半导体技术领域。显示器件制备包括:提供一初始架构,所述初始架构包括衬底及位于所述衬底一侧的多个功能台阶,所述多个功能台阶彼此相间隔;在所述初始架构靠近所述功能台阶的一侧制作钝化层,使相邻两所述功能台阶之间的间隙由所述钝化层填充;在所述钝化层上开设通孔,以暴露所述功能台阶远离所述衬底一侧的至少部分表面;在所述通孔位置连接接触电极。本申请制得的显示器件,可减少漏电问题的发生。
  • GaN基光电器件的中间结构及制备方法-202310948096.3
  • 庄喆;李晨雪;刘斌;陶涛 - 南京大学
  • 2023-07-31 - 2023-10-20 - H01L33/44
  • 本发明公开了一种GaN基光电器件的中间结构及制备方法,所述方法包括制备衬底;在所述衬底的一侧沉积介质牺牲层;在所述介质牺牲层的一侧制作光电器件结构;采用湿法刻蚀工艺刻蚀所述介质牺牲层;对光电器件进行剥离和转移。本发明至少有利于无损伤剥离柔性GaN基Micro‑LED或HEMT的光电器件结构。
  • 氮化镓发光二极管外延片及其生长工艺-202310826990.3
  • 郑文杰;程龙;高虹;刘春杨;胡加辉;金从龙 - 江西兆驰半导体有限公司
  • 2023-07-07 - 2023-10-20 - H01L33/44
  • 本发明涉及半导体技术领域,具体公开一种氮化镓发光二极管外延片及其生长工艺,该生长工艺包括:提供衬底;在衬底上依次沉积缓冲层、N型层、多量子阱层、电子阻挡层及P型层;其中,P型层包括沿外延方向依次层叠的第一复合层及第二复合层,第一复合层包括第一P型GaN层及第一阶梯保护层,第二复合层包括第二P型GaN层及第二阶梯保护层;第一阶梯保护层包括沿外延方向依次层叠的第一AlN子层、Ga2O3子层及BN子层;第二阶梯保护层包括沿外延方向依次层叠的第二AlN子层、SiO2子层及Si3N4子层。有效确保对GaN材料进行高浓度Mg掺杂及高温退火后仍然能够形成高质量晶体,提升发光效率。
  • 紫外发光二极管芯片及其制备方法-202111552853.2
  • 徐盛海;刘源;张威;林凡 - 华灿光电(浙江)有限公司
  • 2021-12-17 - 2023-10-13 - H01L33/44
  • 本公开提供了一种紫外发光二极管芯片及其制备方法,包括:衬底、第一半导体层、多量子阱层、第二半导体层、反射镜层、第一电极和第二电极;第一半导体层、多量子阱层和第二半导体层依次层叠于衬底的表面,第二半导体层的表面具有露出第一半导体层的凹槽,第一电极位于凹槽内且与第一半导体层接触,第二电极位于第二半导体层的表面;反射镜层包括依次层叠在第二半导体层的表面上的第一绝缘层、金属反射层和第二绝缘层,第一绝缘层、金属反射层和第二绝缘层均延伸至凹槽内,第一绝缘层部分位于第一电极和第二电极表面。本公开能提升紫外发光二极管芯片的发光效果,且有效防止封装后锡扩散而导致漏电的问题,提高芯片的可靠性。
  • 显示设备-202320763263.2
  • 玄珍浩;成宇鏞 - 三星显示有限公司
  • 2023-04-07 - 2023-10-13 - H01L33/44
  • 本申请涉及显示设备。显示设备包括:发光元件,设置在衬底的第一表面上;连接电极,设置在衬底的第二表面上;第一保护层,设置在连接电极上;以及第二保护层,设置在第一保护层上。第二保护层的表面粗糙度大于第一保护层的表面粗糙度。
  • 一种显示面板及其制备方法、显示装置-202310891300.2
  • 赵旭;王仙翅;李玉琴 - 武汉天马微电子有限公司
  • 2023-07-19 - 2023-10-10 - H01L33/44
  • 本发明公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置,该显示面板的第一区域包括像素区;显示面板还包括:第一有机膜层,包括位于像素区的第一有机分部;连接电极,位于第一有机分部的一侧;黑色素定义层,黑色素定义层包括位于像素区的第一定义分部,第一定义分部包括露出连接电极的第一开口;第二有机膜层,第二有机膜层包括位于像素区的第二有机分部,第二有机分部覆盖黑色素定义层的侧壁以及黑色素定义层远离第一有机膜层一侧的表面;第一键合结构,位于第一开口内且与连接电极接触电连接;无机结构,位于第二有机膜层远离黑色像素定义层的一侧,无机结构存在位于第一区域的第一无机分部,通过本发明可有效保证显示面板的结构稳定及其显示效果。
  • 一种LED芯片及其制作方法-202311051332.8
  • 陈帅城;杨德佑;张佳宏;叶玲娜;黄俊杰 - 厦门乾照光电股份有限公司
  • 2023-08-21 - 2023-10-10 - H01L33/44
  • 本发明提供了一种LED芯片及其制作方法,通过设置所述第二电极(金属反射)、钝化层(介质层)、第二接触孔、电流阻挡层(介质层)以及透明导电层(导电层)的相互结构关系形成ODR结构,光线在所述复合区域可形成全反射,从而使第二电极对应复合区域的光线被反射后从LED芯片的上表面取出,藉以有效地提升光提取效率;同时,在所述第二电极的正下方设有所述电流阻挡层,可很好地防止LED芯片从第二电极(P型电极)注入的电流集中在电极正下方而造成的电流拥挤现象。
  • 显示装置及其制造方法-202111367982.4
  • 郑玄宗;施景耀;王铮亮 - 友达光电股份有限公司
  • 2021-11-18 - 2023-10-03 - H01L33/44
  • 本发明公开了一种显示装置,包括:电路基板、二氧化硅图案以及多个发光元件。二氧化硅图案位于电路基板上,且具有多个开口。多个发光元件位于电路基板上,且电性连接电路基板,其中多个发光元件分别位于多个开口中,且邻接二氧化硅图案。此外,还提出一种显示装置的制造方法。
  • 一种具有高强度钝化层的LED芯片-202321196087.5
  • 周志兵;张星星;林潇雄;胡加辉;金从龙 - 江西兆驰半导体有限公司
  • 2023-05-17 - 2023-10-03 - H01L33/44
  • 本实用新型涉及半导体器件技术领域,尤其涉及一种具有高强度钝化层的LED芯片,所述LED芯片包括对称设置的芯片单元及切割道,所述切割道位于所述芯片单元之间,所述芯片单元的上端覆盖有钝化层,所述钝化层延伸至所述切割道上,并与另一所述芯片单元位于所述切割道上的所述钝化层之间留有间隙形成第一凹槽,所述第一凹槽内设有等离子喷涂‑激光重熔层,所述等离子喷涂‑激光重熔层从所述第一凹槽的两侧延伸至所述钝化层的上端。在本实用新型中,通过在第一凹槽设置等离子喷涂‑激光重熔层,并将切割道内的钝化层的覆盖保护起来,使得芯片在沿第一凹槽切割分选测试封装时不易使钝化层开裂,保证了LED芯片的发光稳定性。
  • 微型发光二极管及显示面板-202110126252.9
  • 林子旸;曾彦钧;周芸瑄;陈飞宏;蔡百扬;陈建智 - 錼创显示科技股份有限公司
  • 2021-01-29 - 2023-09-26 - H01L33/44
  • 本发明提供一种微型发光二极管及显示面板,微型发光二极管包括外延层、第一接垫、第二接垫、第一欧姆接触金属、第二欧姆接触金属以及至少一蚀刻保护导电层。第一接垫及第二接垫分别电性连接外延层的第一型半导体层及第二型半导体层。第一欧姆接触金属设置于第一型半导体层以及第一接垫之间。第二欧姆接触金属设置于第二型半导体层以及第二接垫之间。至少一蚀刻保护导电层设置于第一欧姆接触金属以及第一接垫之间和/或第二欧姆接触金属以及第二接垫之间。
  • 发光装置、投影仪、显示器和头戴式显示器-202310267779.2
  • 高栁贤太郎 - 精工爱普生株式会社
  • 2023-03-20 - 2023-09-22 - H01L33/44
  • 本发明提供发光装置、投影仪、显示器和头戴式显示器,能够实现小型化。发光装置具有:第1半导体层,其具有第1导电型;第2半导体层,其设置在第1半导体层与第2电极之间,具有与第1导电型不同的第2导电型;发光层,其设置在第1半导体层与第2半导体层之间;绝缘层,其沿着第1半导体层的侧面设置;以及金属层,其与绝缘层接触,沿着第1半导体层的侧面设置,反射由发光层产生的光,由发光层产生的光从第1电极侧射出,金属层具有从发光层朝向第1半导体层的第1方向上的第1端,第1半导体层具有第1方向上的第2端,在第1方向上,第1端的位置与第2端的位置相同,或者,第1端的位置比第2端的位置靠第1方向侧。
  • 显示装置-202310280733.4
  • 裵城槿;朴章淳;李炫旭;郑多率;崔秀珉;许元亨 - 三星显示有限公司
  • 2023-03-20 - 2023-09-19 - H01L33/44
  • 提供了一种显示装置。显示装置包括:第一电极和第二电极,第二电极在第二方向上与第一电极间隔开;发光元件,设置在第一电极和第二电极上;第一绝缘层,设置在发光元件上;第一连接电极,设置在第一电极上并且与发光元件中的每个电接触;以及第二连接电极,设置在第二电极上并且与发光元件中的每个电接触,并且第一绝缘层包括第一部分和第二部分,第二部分的厚度大于第一绝缘层的第一部分的厚度。
  • 一种LED芯片-202321202591.1
  • 王雪峰;张星星;林潇雄;胡加辉;金从龙 - 江西兆驰半导体有限公司
  • 2023-05-18 - 2023-09-19 - H01L33/44
  • 本实用新型提供了一种LED芯片,包括芯片主体设于所述芯片主体上的切割道,还包括设于所述芯片主体上的防护结构和钝化层,所述防护结构沿所述切割道的边缘延伸成型,所述钝化层覆盖于所述防护结构的表面,且所述防护结构与所述钝化层粘接。通过本申请,加强钝化层的黏附效果,能够改善LED芯片在切割时造成的钝化层破裂、翘起的现象,从而提高了的芯片的抗湿性能,提升了的LED芯片的可靠性以及提升LED芯片的使用寿命。
  • 一种集成封装LED显示模组及制备方法-202311026895.1
  • 马新峰;段健楠;郑喜凤 - 长春希龙显示技术有限公司
  • 2023-08-16 - 2023-09-12 - H01L33/44
  • 一种集成封装LED显示模组及制备方法,涉及LED显示领域。解决了显示模组制备过程中显示屏颜色不一致的问题。所述制备方法包括:将LED显示模组放置于加热平台上,表面处理结构薄膜覆盖在所述LED显示模组的表面环氧层;加热辊轮预热;通过固定速度匀速压合表面处理薄膜,使其加热至半固化状态并与LED显示模组的表面环氧层粘合;粘合完成后,将表面处理结构薄膜表面的PET薄膜剥离,使表面处理结构薄膜的胶层、碳层和哑光层粘合在显示模组的环氧层表面;将所述剥离PET薄膜后的显示模组取下,进行光照固胶,完成封装。本发明应用于显示屏大尺寸拼接领域。
  • 一种改善LED芯片切割污染的方法-202310634432.7
  • 郑军;邢建国 - 山东浪潮华光光电子股份有限公司
  • 2023-05-31 - 2023-09-08 - H01L33/44
  • 本发明涉及一种改善LED芯片切割污染的方法,属于LED芯片切割领域,包括:将掩膜版覆盖在待切割的LED芯片上,掩膜版覆盖在芯片上后单个晶粒漏出,晶粒之间的切割道被覆盖;将覆盖掩膜版的LED芯片表面再涂覆一层保护液,然后去掉掩膜版;将涂覆保护液的芯片正面电极向下,背面电极向上放置在贴膜机台面上进行贴膜,芯片贴附在蓝膜上;将贴膜后的芯片放置在锯片机工作盘上,进行全切透作业;对切割后的芯片进行清洗、扩膜;检验。本发明在芯片切割前涂覆一层水溶性的保护液,通过给芯片增加一层保护膜来改变切割过程中芯片表面的残留碎屑污染的问题,有效保证了切割后芯片表面的外观洁净度,提高了产品后续焊线的牢固度,提升产品良率。
  • 一种能提高亮度的倒装LED芯片结构-202320370279.7
  • 黄章挺;郑高林;张帆 - 福建兆元光电有限公司
  • 2023-03-02 - 2023-09-08 - H01L33/44
  • 本实用新型涉及LED芯片技术领域,具体涉及一种能提高亮度的倒装LED芯片结构,所述二氧化硅层覆盖ITO层,所述ITO层上方的二氧化硅层上均匀设有多个通孔;所述银镜反射层包括本体、第一连接体和第二连接体;所述本体设置在二氧化硅层上方,所述第一连接体填充通孔,所述本体通过第一连接体连接ITO层,所述本体通过二氧化硅层的侧方的第二连接体连接P层。本实用新型的有益效果在于:二氧化硅层配合ITO层也起到扩散电流的作用;光线在银镜反射层与二氧化硅层上发生反射,更多的光线被更有效地往正确的方向反射,以此提高了使用所述能提高亮度的倒装LED芯片结构形成的完整的倒装LED芯片的发光量。
  • 一种LED芯片及其制备方法-202310774872.2
  • 汪恒青;张星星;林潇雄;胡加辉;金从龙 - 江西兆驰半导体有限公司
  • 2023-06-28 - 2023-09-05 - H01L33/44
  • 本发明公开了一种LED芯片及其制备方法,涉及半导体技术领域,该LED芯片的制备方法包括提供一衬底,并在衬底上生长外延层;刻蚀外延层,在外延层上形成P型电极区、N型电极区、隔离槽区;通入预设反应源,以第一预设温度、第一预设压力沉积预设厚度的Al2O3层;在预设功率、预设波长的光照条件下,以第二预设温度进行退火处理预设时间;通过刻蚀液对P型电极区以及N型电极区上的Al2O3层分别进行刻蚀,形成P型电极凹槽和N型电极凹槽;在P型电极凹槽内沉积P型电极,在N型电极凹槽内沉积N型电极,本发明能够解决现有技术中干法刻蚀工艺微型化LED芯片的侧壁,易造成侧壁缺陷,影响器件的性能的技术问题。
  • 发光元件和制造发光元件的方法-202310194141.0
  • 宋荣振;金鎭完;金相助;李承根 - 三星显示有限公司
  • 2023-03-02 - 2023-09-05 - H01L33/44
  • 提供了一种发光元件和制造发光元件的方法。所述发光元件能够提高发光效率。所述发光元件包括:第一半导体层,包括凹槽和设置在凹槽周围的突起;发光层,设置在第一半导体层的凹槽上,并且具有与凹槽对应的形状;第二半导体层,设置在发光层上;以及绝缘图案层,设置在第一半导体层的突起上,并且围绕第二半导体层。
  • 一种发光二极管及其制备方法-202310440161.1
  • 蔡家豪;晏维云;汪琴;方斌;林兓兓 - 安徽三安光电有限公司
  • 2023-04-23 - 2023-09-05 - H01L33/44
  • 本发明涉及半导体技术领域,具体涉及一种发光二极管及其制备方法,外延层,所述外延层自下而上依次包括N型半导体层、发光层和P型半导体层;透明导电层,设置于所述P型半导体层上,所述透明导电层具有多个空隙,所述空隙内填充有金属层;P型电极,设置于所述透明导电层上,并与P型半导体层之间形成电连接;N型电极,设置于所述N型半导体层上,并与N型半导体层之间形成电连接。本发明在透明导电层上的空隙内填充有金属层,提高出光效率,促进电流扩散,进而降低电压和提高导电能力。
  • 巨量转移方法-202111160521.X
  • 阳宏 - TCL华星光电技术有限公司
  • 2021-09-30 - 2023-09-01 - H01L33/44
  • 本发明涉及一种巨量转移方法,所述巨量转移方法不受衬底上LED芯片之间的间距限制,利用酚羟基聚合物中羟基的强给氢能力(阴离子聚电解质)与叠氮聚合物中叠氮基团的给电子能力(阳离子聚电解质),使得酚羟基聚合物与叠氮聚合物相互吸引,从而使得具有酚羟基聚合物膜层的LED芯片靶向自组装于叠氮聚合物膜层表面,酚羟基聚合物膜层与叠氮聚合物膜层形成基于氢键的组装膜层,然后通过紫外光照使酚羟基聚合物与叠氮聚合物发生叠氮化反应形成共价键,形成共价联结,从而使得LED芯片可快速准确地转移到基板相应的像素上,提升转移效率和转移精度。
  • LED单面发光实现方法-202310796020.3
  • 孙恒阳;罗官 - 西安赛富乐斯半导体科技有限公司
  • 2023-06-30 - 2023-08-29 - H01L33/44
  • 本发明公开的LED单面发光实现方法,包括提供一LED晶圆,在LED晶圆的非发光面表面附着遮光材料形成目标层,形成目标层后使用光刻工艺图案化目标层,再通过显影工艺将电极暴露外置形成遮光层;或者,形成目标层后直接固化目标层,再直接进行气体等离子体轰击将电极暴露外置形成遮光层。本发明的LED单面发光实现方法,在已完成的LED芯片结构上,将非发光面漏光直接通过吸收或全反射方式进行遮挡,从而实现LED单面发光。适配现有LED正装、倒装、垂直结构,避免复杂的工艺流程,操作性强和批量生产快,以极低的成本实现LED单面发光。
  • 一种LED芯片及其制备方法-202310569099.6
  • 周志兵;张星星;林潇雄;胡加辉;金从龙 - 江西兆驰半导体有限公司
  • 2023-05-19 - 2023-08-29 - H01L33/44
  • 本发明提供了一种LED芯片及其制备方法,该方法包括:在芯片主体的表面生成钝化层,具体为,在芯片主体的表面涂覆第一厚度的第一PHPS胶层,并于第一温度下对第一PHPS胶层的表层进行水解,以生成多孔层;于第二温度下对剩余第一PHPS胶层进行氧化,以在多孔层的正下方生成钝化层;在多孔层的表面涂覆第二厚度的第二PHPS胶层,对第二PHPS胶层进行紫外光照处理,以形成隔离结构。通过本申请,改善了利用第一PHPS胶层转化成钝化层的过程中氧化硅容易出现梯度分布问题,加快了生成钝化层的时间,以便于厂中大面积生产,同时还有利于提升产品的外量子效率,除此之外,利用隔离结构隔离外界水汽进入到产品中,对产品进行保护。
  • 一种UVC LED封装器件及其制备方法-202110925895.X
  • 季韬;白明月;蒋幼泉;单卫平;赵清;袁松;邢婷婷;韩钰祺 - 安徽长飞先进半导体有限公司
  • 2021-08-12 - 2023-08-29 - H01L33/44
  • 一种UVC LED封装器件及其制备方法,属于LED封装结构技术领域,该UVC LED封装器件,包括UVC芯片和封装支架,UVC芯片包括衬底,衬底正面的中部和外周分别设置功能区和隔离区,衬底的背面设置增透层;封装支架与隔离区共融焊接相连,封装支架的中部与功能区压紧接触相连,本发明的有益效果是,本发明采用了全无机封装,整体结构稳定可靠,布置合理,封装成本低,避免了UVC长期照射对器件性能的影响,减少了全反射损失,提高了光线传输效果和封装器件的使用寿命。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top