[发明专利]薄膜晶体管的制作方法、阵列基板的制作方法及阵列基板、显示装置有效

专利信息
申请号: 201710526266.3点击下载 申请日: 2017-06-30
公开(公告)号: CN107331708B 公开(公告)日: 2020-06-16
发明(设计)人: 段献学;宫奎 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L21/336;H01L27/12
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 周娟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开一种薄膜晶体管的制作方法、阵列基板的制作方法及阵列基板、显示装置,涉及显示技术领域,以简化薄膜晶体管的制作方法。所述制作方法包括:在衬底基板上形成有源层;在有源层的表面形成金属层;采用一次构图工艺和氧化处理工艺对金属层进行处理,使得金属层形成源漏极和钝化层;源漏极与所述有源层接触,钝化层形成在源漏极远离有源层的一侧。所述阵列基板的制作方法包括上述薄膜晶体管的制作方法。本发明提供的薄膜晶体管的制作方法用于显示装置中。
搜索关键词: 薄膜晶体管 制作方法 阵列 显示装置
【主权项】:
一种薄膜晶体管的制作方法,其特征在于,包括:提供一衬底基板,在所述衬底基板上形成有源层;在所述有源层的表面形成金属层;采用一次构图工艺和氧化处理工艺对所述金属层进行处理,使得所述金属层形成源漏极和钝化层;所述源漏极与所述有源层接触,所述钝化层形成在所述源漏极远离所述有源层的一侧。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710526266.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

tel code back_top