[发明专利]包括半导体结构的半导体器件及该半导体器件的制造方法有效

专利信息
申请号: 201610329522.5 申请日: 2016-05-18
公开(公告)号: CN106206753B 公开(公告)日: 2019-05-10
发明(设计)人: C·J·阿特金森;A·阿米瑞瓦尼;N·C·斯卡格斯 申请(专利权)人: 通用汽车环球科技运作有限责任公司
主分类号: H01L29/868 分类号: H01L29/868;H01L21/329;H01L29/06;H01L23/31
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 邓雪萌;胡斌
地址: 美国密*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供半导体器件以及用于制造半导体器件的方法。在一个示例中,半导体器件包括半导体结构。半电绝缘钝化层覆盖在半导体结构上。基本上完全电绝缘的钝化层覆盖在半电绝缘钝化层上。
搜索关键词: 包括 半导体 结构 半导体器件 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体器件,其包括:半导体结构;半电绝缘钝化层,其覆盖在所述半导体结构上,所述半电绝缘钝化层为氮化硅材料,其具有在0.3至0.38之间的氮与硅摩尔比;以及基本上完全电绝缘的钝化层,其覆盖在所述半电绝缘钝化层上,所述基本上完全电绝缘的钝化层为氮化硅材料,其具有在0.9至1.1之间的氮与硅摩尔比。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于通用汽车环球科技运作有限责任公司,未经通用汽车环球科技运作有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610329522.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top