专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种磁存储位元及其制作方法、磁存储器-CN202011496488.3有效
  • 韩谷昌;张恺烨;哀立波;杨晓蕾;刘波 - 浙江驰拓科技有限公司
  • 2020-12-17 - 2023-09-26 - H10N50/80
  • 本申请公开了磁存储位元及其制作方法和磁存储器,磁存储位元包括固定层、参考层、隧道层、自由层,自由层包括多个层叠的结构单元,结构单元包括在远离隧道层方向上层叠的铁磁层和氧化传导层,铁磁层包括在远离隧道层方向上依次层叠的第一磁性层自由层包括多个结构单元,每个结构单元包括铁磁层和氧化传导层,即自由层中有多个氧化传导层与铁磁层的界面,多层界面的各向异性能使自由层维持垂直各向异性,可提升数据保存时间,提高自旋转移矩翻转速度,且降低去磁化场,提高自由层的磁各向异性场,且不影响磁存储位元隧道磁阻;铁磁层又包括第一磁性层、间隔层、第二磁性层,提升自由层的厚度,从而提升数据保存时间。
  • 一种存储位元及其制作方法磁存储器

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