专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光刻版及其套刻方法-CN201010216098.6无效
  • 黄玮 - 无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司
  • 2010-07-02 - 2012-01-11 - G03F1/44
  • 本发明提供了一种光刻版,包括一套刻测试图形区域,其特征在于:所述套刻测试图形区域包括一芯片区域、一对设置于所述芯片区域外围的可配合第一倍率光刻进行对版的第一对版标记,以及一对设置于芯片区域外围的可配合第二倍率光刻进行对版的第二对版标记,其中所述第一倍率光刻倍率大于所述第二倍率光刻倍率。与现有技术相比,本发明的有益效果是:1.可以在光刻镜头允许的最大范围内,放置测试标记收集数据,以真实反映光刻镜头边缘畸变,不受实际产品芯片尺寸的影响;2.可以在整个曝光区域放置多个测试标记,可以收集足够多数据,以测试镜头畸变;3.只使用了一块光刻版,减少了光刻版上套刻测试图形放置误差带来的影响。
  • 光刻及其方法
  • [发明专利]一种光刻垂向微动结构和控制方法-CN201610766749.6有效
  • 赵娟;张霖;夏海;陈明 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2016-08-30 - 2019-10-25 - G03F7/20
  • 本发明提供一种光刻垂向微动结构和控制方法,其将光刻曝光台下方设置至少四个传感器,并使用包含能够测量冗余位置的测量转换矩阵的计算分析系统,对四个传感器所发送的位置信号进行分析,以光刻曝光台的期望位置为目标,分析光刻曝光台垂向运动至期望位置时的加速度,由于使用上述计算分析系统能够将冗余位置测量出,因此在计算分析的时候能够将这些无用的冗余数据过滤,精确地分析出光刻曝光台垂向运动至期望位置时所需的驱动力和加速度,因此本发明相对于现有技术能够提高对光刻曝光台垂向微动控制的精度。
  • 一种光刻微动结构控制方法
  • [实用新型]一种光刻的晶舟锁紧装置-CN200720005582.8无效
  • 陈晓琪;胡清强;鲁旭光 - 和舰科技(苏州)有限公司
  • 2007-03-09 - 2008-02-06 - G03F7/20
  • 本实用新型提出了一种光刻的晶舟锁紧装置,针对现有技术中存在的晶舟可以在工作时任意移动有可能造成传动机械臂和晶片损坏的问题而设计,其特征在于,设有一锁紧装置,该锁紧装置与该光刻电连接,该锁紧装置在该光刻工作时处于锁紧状态,使晶舟不能移动;在该光刻不工作时处于解锁状态,使晶舟可以移动。本实用新型提出的一种光刻的晶舟锁紧装置能够提高系统的可靠性,防止设备和产品的损坏。
  • 一种光刻晶舟锁紧装置
  • [发明专利]一种掩模版及光刻-CN202111652270.7在审
  • 胡健;徐阳;周世均;王晓龙;郑海昌;陈力钧 - 上海华力微电子有限公司
  • 2021-12-30 - 2022-04-12 - G03F1/38
  • 本发明提供了一种掩模版及光刻。其中,掩模版包括曝光区域,和环绕在所述曝光区域外的非曝光区域,所述非曝光区域中设置有多个辅助图案,每个所述辅助图案包括多个间隔排列的条纹图形,其中,每个所述条纹图形的线宽小于光刻的分辨率极限。在利用光刻对该掩模版进行曝光时,即使存在杂散光会通过掩模版的非曝光区域的现象,然而由于辅助图案中的条纹图形未达到光刻的分辨率而难以被识别,进而不会将辅助图案映射在晶圆上,从而有效解决光刻因漏光带来的鬼影问题
  • 一种模版光刻
  • [实用新型]浸没式光刻基底台系统、浸没式光刻-CN201720337572.8有效
  • 魏龙飞;丛国栋;方洁 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2017-03-31 - 2018-02-27 - G03F7/20
  • 本实用新型提供的浸没式光刻基底台系统及浸没式光刻,在浸没式光刻基底台系统中设置两个可以移动的分动台,在分动台的侧边上设置伸缩桥装置,该伸缩桥装置伸长时可与另一个分动台的侧边接合,这样当投影物镜以及浸没液体在一个分动台上光刻完成后,可以经过伸长后的伸缩桥装置移动至另一个分动台,也就是说伸缩桥装置在两个分动台之间为浸没液体提供的垂向支撑,而浸没液体在投影物镜下本身通过磁力可维持水平方向的形状,使用包含这种浸没式光刻基底台系统的光刻,使得光刻时两个分动台上的光刻可以无缝衔接,提高了生产效率。
  • 浸没光刻基底系统
  • [实用新型]一种光刻的气液抽取分离装置-CN202220254351.5有效
  • 胡德立 - 江苏微影半导体有限公司
  • 2022-02-08 - 2022-07-29 - B01D19/00
  • 本实用新型提供一种光刻的气液抽取分离装置,包括:光刻主体、控制面板、观察门以及加工门,光刻主体正面上方设计设置有控制面板,光刻主体右侧面中间设置有观察门,控制面板右侧下方设置有加工门,光刻主体内部下方设置有工件台,与现有技术相比,本实用新型具有如下的有益效果:通过设置抽气泵和抽水泵,抽气泵能够通过分支抽气管抽取光刻主体内部的气体,抽液泵能够通过分支抽水管抽取工件台上方的液体,使光刻主体内部的气体和液体能够快速分离,使得本实用新型更加实用,通过设置液体箱和气体箱,能够使气体和液体分类储存,在排出时使其能够分类排出,在实际使用的时候,更适合光刻技术领域。
  • 一种光刻抽取分离装置

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