“光刻机”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网_专利查询网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果3768584个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]光刻机对焦方法-CN200710191870.1无效
发明人：何如兵;马莺莺 -专利权人：和舰科技（苏州）有限公司
申请日： 2007-12-17 - 公布日： 2008-06-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻机对焦方法，该方法中判断焦距差值是否满足要求、计算新的焦距参数、将新的焦距参数发送给光刻机都由半导体生产自动化系统来实现，自动化程度高，可以提高效率和准确度，方便了工程师进行统计、分析，避免了由于人为异常造成的失误，能够提高光刻机的加工质量。
光刻对焦方法

[发明专利]圆片的光刻方法-CN201010253479.1无效
发明人：张春华;张馨月 -专利权人：无锡春辉科技有限公司
申请日： 2010-08-13 - 公布日： 2011-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公布了一种圆片的光刻方法，将圆片放入光刻机，光刻机的汞光灯强8～12mw/cm2、曝光时间3～6秒。本发明提高汞光灯的光强，大大降低了工作时间，提高了效率。
光刻方法

[发明专利]一种光刻机的控制方法及装置-CN201410755863.X有效
发明人：黄建 -专利权人：志圣科技（广州）有限公司
申请日： 2014-12-10 - 公布日： 2015-02-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻机的控制方法及装置，光刻机装置包括机台主体，所述机台主体内设有光刻室，所述光刻室内顶部设有紫外灯，所述光刻室内底部设有光刻装置，所述光刻装置包括由下而上依序设置的光刻平台、底片和底片固定座，所述的光刻平台和底片之间形成工作物夹持空间，所述光刻平台内布设有冷却水路，所述冷却水路的进水端连接的进水管上依次设有电液比例阀、过滤系统和进水球阀，所述冷却水路的出水端连接的出水管上设有出水球阀。本发明的光刻机的控制方法及装置能有效提升设备的对位精度和解析能力，能使用于COLLER STN产品的生产，替代进口设备，大幅度降低成本。
一种光刻控制方法装置

[发明专利]用于监测光刻机成像平面异常的方法-CN201510672885.4有效
发明人：邢滨;张强;郝静安 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2015-10-16 - 公布日： 2019-03-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种用于监测光刻机成像平面异常的方法，所述方法包括：在光罩上放置监测图形，所述监测图形的工艺窗口小于所述光罩上的产品电路图形的工艺窗口；对所述光罩上的图形进行曝光；以及对曝光后形成的图形进行缺陷扫描，以用于基于所述缺陷扫描的结果是否存在特定分布而确定光刻机成像平面是否发生异常。本发明所提供的用于监测光刻机成像平面异常的方法不需要机台暂停生产，可以提高监测的频率，减少监测所耗费的时间，并能在光刻机成像平面发生异常的初期及时发现问题，避免产品量率的损失。
用于监测光刻成像平面异常方法

[发明专利]一种减少晶圆边缘聚焦不良的方法-CN201911364438.7有效
发明人：李玉华;吴长明;姚振海;金乐群;黄发彬 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2019-12-26 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种减少晶圆边缘聚焦不良的方法，编写ASML曝光排布模拟软件和ASML光刻机水平采样模拟软件；模拟ASML曝光排布和ASML光刻机水平采样点位置；确认有完整die的边缘部分shot是否有水平采样点本发明通过编写模拟曝光排布软件和模拟光刻机水平采样软件、模拟曝光排布和光刻机水平采样点位置、以及优化曝光排布的方法可以在产品片流片前进行优化，避免产品出现异常后再进行，减少了异常发生。
一种减少边缘聚焦不良方法

[实用新型]一种电子元件生产的光刻装置-CN201922434099.7有效
发明人：伍家成 -专利权人：肇庆市家成电子有限公司
申请日： 2019-12-30 - 公布日： 2020-06-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种电子元件生产的光刻装置，包括光刻机本体、支撑底座，所述光刻机本体的下方设置有支撑底座，支撑底座的上端开设有若干个槽，槽内设置有电动伸缩杆，电动伸缩杆的上端与光刻机本体固定连接，支撑底座的为圆形，支撑底座的上端中部开设有阶梯状的槽，支撑底座内侧设置有若干个卡托件、托板一，托板一位于卡托件的下方，支撑底座的内底部设置有圆台，所述光刻机本体的一侧设置有控制件，控制件上设置有显示面板和操作面板，本实用新型多种卡接结构
一种电子元件生产光刻装置

[发明专利]气液抽取分离装置及光刻机-CN202011450195.1在审
发明人：曹红波;夏广宝;周二虎 -专利权人：北京华卓精科科技股份有限公司
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供了一种气液抽取分离装置及光刻机，涉及半导体加工设备领域，为解决现有的气液抽取分离装置无法满足光刻机不同工况下的气液抽取分离需求的问题而设计。该气液抽取分离装置用于光刻机，包括控制模块和多组气液抽取分离模块，多组气液抽取分离模块分别配置为抽取分离不同的气液混合体；气液抽取分离模块包括通过管路依次连接的真空吸附头、通断阀和气液分离箱，真空吸附头被配置为抽取气液混合体该光刻机包括上述气液抽取分离装置。本发明提供的气液抽取分离装置及光刻机满足了不同工况下的气液分离需求。
抽取分离装置光刻

[发明专利]用于步进光刻机对准系统的测校装置及其测校方法-CN200810041153.5有效
发明人：谢威;蔡巍;徐兵;吕晓薇;李中秋 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2008-07-29 - 公布日： 2008-12-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于步进光刻机机器视觉对准系统的测校装置及其测校方法，涉及步进光刻机对准系统领域。本发明提供的一种用于步进光刻机机器视觉对准系统的测校装置包括：掩模台测校板、硅片台测校板、物距调整机构、反射镜调整机构、信号处理与控制单元。与现有技术相比，本发明提供的一种用于步进光刻机机器视觉对准系统的测校装置及其测校方法结构简单，功能完整，易于集成于步进光刻机中并且有效地提高对准系统的精度和可靠性。
用于步进光刻对准系统装置及其校方

[发明专利]兼顾对准和调焦调平的测量系统及其测量方法和光刻机-CN201610934037.0有效
发明人：张成爽;潘炼东;于大维 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-10-31 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种兼顾对准和调焦调平的测量系统及其测量方法和光刻机，该系统包括标记板和至少一组探测支路，每组探测支路包括左探测支路和右探测支路，所述左探测支路和所述右探测支路对称设置，对称轴与所述物镜的光轴平行所述兼顾对准和调焦调平的测量系统实现了垂向测量系统和水平向测量系统的一体化结构，减少了光刻机整机的系统的空间需求。所述兼顾对准和调焦调平的测量系统的测量方法，实现工件的调焦调平及对准，提高了光刻机的工作效率。本发明还公开了一种光刻机，包括物镜和工件台等组件，以及设置在所述物镜和工件台之间的上述兼顾对准和调焦调平的测量系统，节约了光刻机的空间占用率。
兼顾对准调焦测量系统及其测量方法光刻

[发明专利]光刻机气压控制及监测系统、方法和光刻机-CN202111417683.7有效
发明人：王魁波;吴晓斌;罗艳;谢婉露;沙鹏飞;李慧;韩晓泉 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2021-11-25 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于光刻机技术领域，具体涉及一种光刻机及其气压控制及监测系统和方法，光刻机气压控制及监测系统包括全量程真空规组件、薄膜真空规组件和真空泵组。本发明的光刻机气压控制及监测系统能够对光刻机的整个工作过程进行实时监测，并且能够在工艺操作期间精确地测量各个腔室的工艺气压。
光刻气压控制监测系统方法

[实用新型]一种用于极紫外光光刻机的基础座-CN201820978642.2有效
发明人：何成伟 -专利权人：协伟集成电路设备（上海）有限公司
申请日： 2018-06-22 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于极紫外光光刻机的基础座，本实用新型具有结构合理简单、生产成本低、安装方便，功能齐全，能满足极紫外光光刻机对基础座的刚性需求和防微震要求，以及提供其配套设备的安装环境，确保了中国内陆地区在引进极紫外光光刻机的时候，能够提供极紫外光光刻机正常运行所需要的环境，从而保证了极紫外光光刻机的顺利引进以及安装运行，对中国内陆地区的整个电子厂特别是半导体厂，使其中国内陆地区整个行业的半导体产品制作工艺提升得到很好改善，并且同时也加速了中国内陆的半导体制造工艺达到国际水平的进程
极紫外光光刻机本实用新型内陆地区半导体制造工艺半导体产品生产成本低安装方便安装环境半导体厂国际水平配套设备制作工艺电子厂微震内陆陆地进程保证

[实用新型]气液抽取分离装置及光刻机-CN202022984194.7有效
发明人：曹红波;夏广宝;周二虎 -专利权人：北京华卓精科科技股份有限公司
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种气液抽取分离装置及光刻机，涉及半导体加工设备领域，为解决现有的气液抽取分离装置无法满足光刻机不同工况下的气液抽取分离需求的问题而设计。该气液抽取分离装置用于光刻机，包括控制模块和多组气液抽取分离模块，多组气液抽取分离模块分别配置为抽取分离不同的气液混合体；气液抽取分离模块包括通过管路依次连接的真空吸附头、通断阀和气液分离箱，真空吸附头被配置为抽取气液混合体该光刻机包括上述气液抽取分离装置。本实用新型提供的气液抽取分离装置及光刻机满足了不同工况下的气液分离需求。
抽取分离装置光刻

[实用新型]一种用于半导体芯片生产的光刻机-CN202022690383.3有效
发明人：方萌;刘小祥;方小明;赵纪平 -专利权人：浙江旭盛电子有限公司
申请日： 2020-11-19 - 公布日： 2021-07-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及光刻机技术领域，且公开了一种用于半导体芯片生产的光刻机，包括光刻机本体，所述光刻机本体的内部安装有物镜，所述物镜的内部安装有工作管套。该用于半导体芯片生产的光刻机，通过设置冷却仓、导热管、抽风机和半导体制冷片，冷却仓中通入其容积四分之三的冷却水，由于水的含量较多，且由于水比热容的原因，冷却仓中的水不会被很快加热到很高的温度，使得冷却仓中的水对工作管套起到了绝对的保护作用
一种用于半导体芯片生产光刻

[实用新型]一种可多侧上下料的光刻机-CN202121533362.9有效
发明人：霍锦充 -专利权人：东莞王氏港建机械有限公司
申请日： 2021-07-06 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及光刻机技术领域，更具体地说，它涉及一种可多侧上下料的光刻机，该光刻机包括机台和曝光组件；所述曝光组件包括下模板和用于安装掩模板的上模板，所述下模板具有用于承载晶圆的承载部，所述上模板和下模板均用于设置在机台上，且所述上模板为可相对下模板升降的活动面板；所述光刻机还包括机壳，所述机壳用于将曝光组件罩设在内部，所述机壳上设有供晶圆进出的过孔；所述过孔的数量为两个以上、且分别位于曝光组件的不同侧，以使晶圆从过孔及其对应曝光组件的一侧进出承载部根据本实用新型的方案，其可以提高晶圆上下料装置摆放的自由度，使光刻机对晶圆上下料装置摆放的适应性得到增强。
一种可多侧上下光刻

[实用新型]一种棱镜角度可调的光刻机-CN202122644087.4有效
发明人：鹿庆文 -专利权人：济南紫源电子有限公司
申请日： 2021-11-01 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型属于光刻机技术领域，尤其为一种棱镜角度可调的光刻机，包括光刻机本体和可调式棱镜组件，光刻机本体内开设棱镜安装腔，可调式棱镜组件固定安装在棱镜安装腔内，可调式棱镜组件包括棱镜本体、伸缩式转动支架第二齿轮、齿轮传动结构、第三齿轮和驱动结构，棱镜本体固定设置于调节外框架内，调节外框架通过伸缩式转动支架固定安装在棱镜安装腔内，第一齿轮通过第一支架固定安装在棱镜安装腔内，本实用新型通过可调式棱镜组件作为光刻机本体的光源进行控制处理
一种棱镜角度可调光刻

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top