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[发明专利]一种光刻机系统及光刻方法-CN201911117978.5在审
发明人：赵宇航;李铭;袁伟 -专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2019-11-15 - 公布日： 2020-02-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻机系统及光刻方法，光刻机系统包括一中央光源模块，多个光刻机主机，光源传输模块及光源控制模块，中央光源模块通过光源传输模块连接光源控制模块，光源控制模块通过光源传输模块分别连接各光刻机主机，光源控制模块从中央光源模块所提供的光源中分离出目标光刻机主机所需波段的光源，并传输至目标光刻机主机，向各目标光刻机主机同时提供光刻工艺所需的曝光能量。本发明通过将一台中央光源模块所产生的光源通过光源传输模块和光源控制模块，同时传输给两台或多台光刻机主机，从而可提供每台光刻机主机光刻工艺所需的曝光能量，显著提高光刻机光源使用效率，降低光刻机系统导入成本和维护成本
光刻机主机光源控制模块光源传输中央光源光源光刻工艺曝光能量刻机光源使用效率模块连接传输波段光刻维护

[发明专利]光刻机照明系统损伤检测方法-CN202110856322.6在审
发明人：李玉华;黄发彬;林辉;吴长明;姚振海;金乐群 -专利权人：华虹半导体（无锡）有限公司
申请日： 2021-07-28 - 公布日： 2021-10-19 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种光刻机照明系统损伤检测方法，涉及半导体制造领域。该光刻机照明系统损伤检测方法包括获取光刻机的光瞳面的光强分布数据；根据所述光强分布数据计算光强填充比；根据所述光强填充比检测所述光刻机照明系统是否出现损伤；解决了目前检测光刻机照明系统损伤时效率低、耗时长的问题；达到了及时检测光刻机照明系统损伤，实现对光刻机照明系统损伤数据化，检测结果更加准确的效果。
光刻照明系统损伤检测方法

[实用新型]光刻机外壳加工工装-CN202120770958.4有效
发明人：瞿建强;钱拥军;张乐;陈高韵 -专利权人：光科真空科技（泰兴）有限公司
申请日： 2021-04-15 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： B23K26/70 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光刻机外壳加工工装，包括工装底座，工装底座上设有至少三套连接组件，光刻机外壳通过连接组件与加工工装可拆卸式连接；连接组件沿光刻机外壳高度方向依次设置；连接组件上设有与光刻机外壳上螺纹孔适配的连接螺柱本实用新型很好地根据光刻机外壳的形状以及光刻机外壳本身具有的孔，设计了能够完美夹紧光刻机外壳的二序加工工装，结构简单且夹紧过程迅速快捷。
光刻外壳加工工装

[实用新型]一种直写式光刻机控制面板的锁紧机构及直写式光刻机-CN201620920059.7有效
发明人：王昱山;刘涛;马强 -专利权人：天津芯硕精密机械有限公司
申请日： 2016-08-22 - 公布日： 2017-03-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及直写式光刻机领域，尤其涉及一种直写式光刻机控制面板的锁紧机构及直写式光刻机。直写式光刻机控制面板的锁紧机构包括骨架和支撑装置；骨架固定连接在直写式光刻机的底座上；直写式光刻机上的控制面板与骨架可拆卸连接；直写式光刻机上的气动门保护板的一端与骨架固定连接，另一端与控制面板可拆卸连接直写式光刻机包括上述直写式光刻机控制面板的锁紧机构，气动门保护板和控制面板。本实用新型提供的直写式光刻机控制面板的锁紧机构及直写式光刻机，具有结构简单新颖，稳定性强，便于拆装，且方便实用等诸多技术优势。
一种直写式光刻控制面板机构

[发明专利]同一光刻工艺中不同光刻机的匹配方法-CN201210433784.8有效
发明人：李玉华 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2012-11-01 - 公布日： 2014-05-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种同一光刻工艺中不同光刻机的匹配方法，所述不同光刻机的曝光视场呈整数倍关系，且所述光刻机按曝光视场从大到小的顺序，依次对硅片进行曝光。本发明通过减少低端光刻机的曝光视场，使得不同光刻机的曝光视场呈整数倍关系，可以大幅提高高端光刻机台的产能，从而实现更高的产品附加值。
同一光刻工艺不同匹配方法

[发明专利]一种光刻机匹配方法-CN202210267076.5在审
发明人：王成瑾;张生睿 -专利权人：东方晶源微电子科技(北京)有限公司
申请日： 2022-03-17 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及光刻机技术领域，特别涉及光刻机匹配方法，包括步骤：获取预设光刻图案，每个预设光刻图案中分别预设有X个关键位置，X为正整数；在目标光刻机上根据光刻OPC模型分别获取每个预设光刻图案的X个关键位置对应的目标关键尺寸；以目标光刻机为标准对待调光刻机进行OPC模型拟合，获取待调光刻机上每个预设光刻图案中X个关键位置对应的待调关键尺寸，计算待调关键尺寸与目标关键尺寸的差值；基于每个待调关键尺寸对每种光刻机可调参数的灵敏度建立灵敏度矩阵；根据灵敏度矩阵，建立总评价函数；根据总评价函数，调整待调光刻机的参数以调整待测关键尺寸与目标关键尺寸匹配。
一种光刻匹配方法

[发明专利]光刻机同步故障检测方法和系统-CN202011628812.2在审
发明人：于婷;陈丹;朱晶 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻机同步故障检测方法和系统，一种光刻机同步故障检测方法应用于扫描光刻机，扫描光刻机包括多个分系统，多个分系统包括干涉仪分系统、伺服运动控制分系统、曝光分系统、对准分系统和像质分系统，该方法包括：检测上位机从各分系统中采集同步诊断参数，同步诊断参数包括至少一种用于表征同步状态的参数；检测上位机根据同步诊断参数确定扫描光刻机中各分系统的同步状态；检测上位机通过人机交互界面显示扫描光刻机中各分系统的同步状态本发明实施例公开的光刻机同步故障检测方法和系统，能够提高对扫描光刻机进行同步故障检测的效率。
光刻同步故障检测方法系统

[发明专利]提高晶片产品套准精度的方法-CN201510729330.9在审
发明人：冯耀斌 -专利权人：武汉新芯集成电路制造有限公司
申请日： 2015-10-30 - 公布日： 2016-01-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种提高晶片产品套准精度的方法，通过对光刻机的套准精度的检测，获取光刻机的曝光参数漂移量，并利用APC系统根据光刻机在对当前批次芯片进行光刻工艺时的曝光补偿参数和光刻机的曝光参数漂移量设定光刻机对下一批次芯片进行光刻工艺的预设曝光参数同时该方法可以实现光刻机间系统面上的匹配，方便产品在不同光刻机间的拓展，进而达到产品良率提升、降低返工和缩短生产周期的效果。
提高晶片产品精度方法

[发明专利]一种光刻方法、光刻装置及计算机可读存储介质-CN201910931297.6有效
发明人：王津洲 -专利权人：芯恩（青岛）集成电路有限公司
申请日： 2019-09-29 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻方法、光刻装置及计算机可读存储介质，该方法根据所述光刻机的设计基板的尺寸与所述待处理基板的尺寸之间的比值，调整所述光刻机，以通过所述设计掩膜原版在所述待处理基板上形成目标图形。由此，可以在同一光刻机中利用光刻机的设计掩膜原版对不同尺寸的晶圆进行光刻，例如在8寸光刻机上实现对8寸和6寸晶圆的光刻。另外，本发明的方法无需对光刻机本身的硬件进行改造或者替换，而是通过对光刻机的设计掩膜原版、基板承载装置和光刻机的投影物镜之间的垂直距离进行调整，实现同一光刻机对不同尺寸晶圆的光刻，在晶圆上形成目标图形，
一种光刻方法装置计算机可读存储介质

[实用新型]光刻机防微振基座-CN202222419771.7有效
发明人：赵江民 -专利权人：合肥玖福半导体技术有限公司
申请日： 2022-09-13 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： F16M11/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及光刻机防微振基座，包括缓振底座，所述缓振底座的顶部固定安装有固定座，所述固定座的顶部开设有安装槽，所述安装槽的内部设置有用于存放光刻机的支撑板，所述安装槽的内部对称设置有两个用于固定光刻机的夹持机构；由于光刻机本身的重力影响，使得支撑板向下滑动，此时，L形杆在第二拨杆的作用下发生转动，使得推板朝向光刻机方向移动，配合两个导轨对滑块限位，防止推板发生偏移，通过两个推板对光刻机的外壁夹持，保证光刻机的稳定性，同时由于两个推板可通过光刻机重力来调节相对距离，便于该防微振基座适应不同尺寸的光刻机。
光刻机防微振基座

[发明专利]一种提高异机光刻混合作业对位精度的方法-CN202110101373.8有效
发明人：赵亮;吴继清;许海明 -专利权人：湖北光安伦芯片有限公司
申请日： 2021-01-26 - 公布日： 2023-01-03 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种提高异机光刻混合作业对位精度的方法，包括如下步骤：根据步进光刻机的曝光场个数以及每个曝光场中的对位标记图形，设计制作包含有步进光刻机对位标记和接触式/接近式光刻机对位标记的光刻版，用此光刻版在产品上面制作标记图形，即可实现步进光刻机和接触式/接近式光刻机之间的任意混合作业，再对步进光刻机的比例量、正交量、旋转量、偏移量进行测量计算并对应补偿，保证各层光刻图形与对位标记对准，便能很大程度上提高异机光刻对位精度。
一种提高光刻混合作业对位精度方法

[实用新型]改善吹风洁净度的光刻机系统-CN201120471313.7有效
发明人：刘庆锋;王诚 -专利权人：上海先进半导体制造股份有限公司
申请日： 2011-11-23 - 公布日： 2012-08-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种改善吹风洁净度的光刻机系统，包括：光刻机本体，位于洁净室中；空调系统；风管，分别与光刻机本体和空调系统相连接，引导空气并将其吹送到光刻机本体的内部组件表面；还包括过滤器，位于风管的路径上本实用新型通过在光刻机系统的进风口处加装过滤器，使其过滤掉腐蚀性的酸碱气体和微小颗粒，净化光刻机内部环境，保护光刻机镜头组件不受污染，改善了光照均匀性。
改善吹风洁净光刻系统

[实用新型]一种适用于不同光刻机的光罩-CN202123377703.0有效
发明人：刘玉闯;林伟 -专利权人：成都路维光电科技有限公司
申请日： 2021-12-29 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种适用于不同光刻机的光罩，包括光罩本体，所述光罩本体上设置有被不同光刻机识别的对位标记。本实用新型的目的在于提供一种适用于不同光刻机的光罩，该光罩可用于被不同的光刻机识别，从而在进行光刻时，可根据被光刻图像的精度或复杂度选择合适的光刻机进行组合光刻，从而降低光刻成本提高光刻效率。
一种适用于不同光刻

[发明专利]光刻机硅片台移动装置及采用该移动装置的光刻机-CN200910055189.3有效
发明人：秦磊;刘育;王天明;袁志扬 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2009-07-22 - 公布日： 2009-12-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻机硅片台的移动装置及采用该移动装置的光刻机。该光刻机硅片台的移动装置包括：支撑该光刻机硅片台的支撑板；设置于该支撑板的与该硅片台相对一侧的气囊；设置于该支撑板的与该气囊同侧的气垫装置；设置于该支撑板的与该气囊同侧的滚轮；向该气囊内充气，该气囊支撑该支撑板及该光刻机的硅片台，当移动该光刻机硅片台时，该气囊释放气体的同时打开该气垫装置，该气垫装置形成的气垫支撑该支撑板及该硅片台，该光刻机硅片台的移动装置利用该滚轮将该硅片台移出或移入该光刻机。采用本发明的硅片台移动装置的光刻机的硅片台的移入移出过程更加简单，能够确保硅片台与光刻机支撑框架的准确定位，并减少地面振动对硅片台的干扰。
光刻硅片移动装置采用

[发明专利]一种光刻机之间的工艺匹配方法-CN201110384018.2有效
发明人：王剑;毛智彪;戴韫青 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2011-11-28 - 公布日： 2012-05-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种光刻机之间的工艺匹配方法，其步骤包括：1）在同一片掩模板上设计各种1D，2D图形；2）第一光刻机利用所述掩模板曝光一片基准晶圆；3）量测所设计的图形尺寸作为基准数据；4）第二光刻机使用同一片掩模板曝光相同参数晶圆；5）将第二光刻机量测数据与第一光刻机量测数据比较，得到数据吻合的参数；6）两台光刻机得到的尺寸一致，建立了两台光刻机的匹配基准。本发明减少了生产费用和工作时间，使不同光光刻机曝光的图形尺寸都能达到一样，保证质量，非常适于实用。
一种光刻之间工艺匹配方法