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[实用新型]一种棱镜角度可调的光刻机-CN202320051516.3有效
发明人：胡德立 -专利权人：杭州芯微影半导体有限公司
申请日： 2023-01-09 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种棱镜角度可调的光刻机，涉及光刻机技术领域，所述光刻机中设有棱镜放置箱，所述棱镜放置箱内侧螺栓安装电动推杆，所述电动推杆的输出端滑动连接移板，所述移板侧面活动连接第一转轴和第二转轴，所述第一转轴中部花键连接第一齿轮，所述第一转轴侧端花键连接棱形安装板，所述第二转轴中部花键连接第二齿轮，所述第二齿轮表面上啮合连接条纹皮带，所述条纹皮带侧端啮合连接第一齿轮，本实用新型通过电动推杆使得光刻机棱镜可以在水平面移动位置，也可通过第一齿轮、第二齿轮和条纹皮带使棱镜转动角度，这样使得棱镜可多位置和多角度使用，进而可提升光刻机通过棱镜印制芯片的质量。
一种棱镜角度可调光刻

[实用新型]一种光刻机支架及支架组件-CN202222741713.6有效
发明人：蔡国栋 -专利权人：苏州杰悦五金机械有限公司
申请日： 2022-10-18 - 公布日： 2023-03-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型适用于光刻机技术领域，提供了一种光刻机支架及支架组件，包括底板，所述底板的下端左右两侧均安装有支撑腿，且支撑腿的下端内侧设置有定位杆，所述定位杆与支撑腿的连接处安装有调节杆，且定位杆的下端设置有防滑块；限位柱，其安装在底板的上端，所述限位柱的上端外侧设置有支撑板，所述支撑板的下侧设置有第一衔接板；调节板，其设置在第二衔接板的内侧，所述调节板的下端安装有安装杆，所述安装杆和油腔的连接处设置有缓冲板；光刻机底座该光刻机支架及支架组件，有利于对光刻机进行支撑，具有良好的定位效果，且有利于将装置进行移动。
一种光刻支架组件

[发明专利]一种光刻机能量检测装置及检测方法-CN202111554580.5在审
发明人：霍大云;刘麟跃;刘靖 -专利权人：锡凡半导体无锡有限公司
申请日： 2021-12-17 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G01J1/42 文献下载
摘要：本发明属于能量检测领域，公开了一种光刻机能量检测装置及检测方法，装置包括安装板，安装板固定安装在光刻机运动机构中，安装板的前端面横向固定设置有两根导轨，安装板的一侧固定设置有伺服电机，伺服电机通过同步轮同步带驱动有安装座本发明通过CCD和能量探头的配合使用，对光刻机的出光进行精确到像素点的能量检测，便于对光刻机的出光能量均匀性进行更精确的检测，有效提高光刻机的曝光精度，防止因衰减片的老化而出现测量误差；通过衰减片的使用
一种光刻机能检测装置方法

[实用新型]一种光刻机静电消除装置-CN202121514951.2有效
发明人：顾大元;乔畅君;韩玲玲;张联盟 -专利权人：深圳市中明科技股份有限公司
申请日： 2021-07-05 - 公布日： 2021-12-17 - 主分类号： H05F3/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及光刻机静电处理的技术领域，特别是涉及一种光刻机静电消除装置，包括固定机构，固定机构设有两个，两个固定机构上均安装有立柱，立柱之间活动设置有连杆，连杆的下方设置有静电消除板。本实用新型通过设置固定机构，进而可通过固定机构将整个静电消除安装在光刻机上，便于对其进行快速安装，实用性高；通过在立柱之间活动设置有连杆，进而便于根据实际需求，调节固定机构之间的间距，进而可将固定机构安装在不同尺寸的光刻机上，实用性高；通过设置静电消除棒，可在一定程度上对光刻机的晶圆表面进行静电消除，通过设置多根等离子棒，可进一步的对晶圆表面进行静电消除，实用性高。
一种光刻静电消除装置

[发明专利]不同光刻机之间的套刻匹配方法-CN201910033967.2有效
发明人：王亚超;李玉华 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2019-01-15 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种不同光刻机之间的套刻匹配方法，包括：提供预对位光刻版；利用第一光刻机，将0度预对位一次光刻图形形成于0度预对位圆片上，并将90度预对位一次光刻图形形成于90度预对位圆片上；利用第二光刻机，将0度预对位二次光刻图形形成于0度预对位圆片上，并将90度预对位二次光刻图形形成于90度预对位圆片上；测试0度预对位圆片上二次光刻图形与一次光刻图形间的第一套刻量，和90度预对位圆片上二次光刻图形与一次光刻图形间的第二套刻量；根据第一套刻量和第二套刻量对第二光刻机的参数进行调整，由此可实现0度角和90度角预对位的同时校准，有效解决了机台间预对位不匹配导致的对位失败的问题。
不同光刻之间匹配方法

[发明专利]一种实现ASML不同型号光刻机套刻匹配的方法-CN201710620922.6在审
发明人：刘磊;殷履文;李永康;王溯源;王发稳;夏久龙 -专利权人：中国电子科技集团公司第五十五研究所
申请日： 2017-07-27 - 公布日： 2017-12-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种实现ASML不同型号光刻机套刻匹配的方法，该方法包括（1）取一块ASML标准掩膜版；（2）取另一块ASML标准掩膜版；（3）使用专用4英寸GaAs圆片，校准ASML扫描式光刻机的焦平面各项参数；（4）选用4英寸GaAs圆片，表面涂盖光刻胶；（5）ASML扫描式光刻机在步骤（4）所述的GaAs圆片上分别曝光对准标记图形和第一层套刻匹配图形；（6）曝光后GaAs圆片显影，显影后干法刻蚀；去除光刻胶后,重新涂盖与步骤（4）相同的光刻胶；（7）ASML步进式光刻机在GaAs圆片上曝光第二层套刻匹配图形，实现两台设备的套刻匹配。
一种实现 asml 不同型号光刻机套匹配方法

[发明专利]一种投影式光刻机的光源结构、投影式光刻机及光刻工艺-CN202210776304.1在审
发明人：季明华;任新平;黄早红 -专利权人：上海传芯半导体有限公司
申请日： 2022-07-04 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种投影式光刻机的光源结构、投影式光刻机及光刻工艺，光源结构包括：第一光源，用于产生适于投影式光刻机的第一波长的第一光线；第二光源，用于产生第二光线，其包含第二波长至第三波长之间的一种或两种以上的子光线本发明在无需额外修改工艺或对光刻系统的其他部件进行改动的情况下，该第三光线可以使得光刻机对关键尺寸较小的掩膜图形也有较强的曝光光强投射，从而使光刻机的图案分辨率和对比度大大提高。
一种投影光刻光源结构工艺

[发明专利]光刻机数据采集与诊断系统及方法-CN202111280543.X在审
发明人：陈丹;谢仁飚;朱晶;钱峰 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： G06F13/40 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻机数据采集与诊断系统及方法，所述光刻机数据采集与诊断系统包括上位机、交换机、诊断控制器以及挂接在命令总线上的多核运动控制板及数据接口板；上位机、交换机和诊断控制器通过命令总线依次连接本发明减轻了诊断控制器及上位机的数据存储和处理压力，减少了数据传输过程中所占用的带宽，提高了光刻机系统采样数据处理能力和实时性；多核运动控制板在原始数据或性能分析数据中存在错误或异常数据时产生不同的数据诊断请求，提高了对光刻机性能及可靠性问题的排查效率，优化了光刻机的设计反馈。
光刻数据采集诊断系统方法

[发明专利]一种光刻机焦距监控方法-CN201010280265.3有效
发明人：黄玮 -专利权人：无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2010-09-10 - 公布日： 2012-04-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种光刻机焦距监控方法，包括以下步骤：步骤A，在掩膜版上形成测试图形；步骤B，对所述测试图形在涂有光刻胶的圆片上进行首次曝光和再次曝光，并控制曝光能量，仅使圆片上首次曝光和再次曝光的感光区域的重合部分达到光刻胶的反应阈值；步骤C，对曝光后的圆片显影，所述感光区域的重合部分在显影后形成标记图形，所述标记图形是带有至少两个楔形尖端的图形；步骤D，统计所述标记图形的参数以确定光刻机的最佳焦距。本发明形成的菱形标记图形可以避免光学临近效应的影响，因此菱形的锐角尖锐，长对角线长度随焦距变化明显，可以准确反映光刻机焦距的变化，对光刻机最佳焦距进行准确监控。
一种光刻焦距监控方法

[发明专利]一种芯片制备方法-CN202111529273.1在审
发明人：赵万利;葛欢;吴沛飞 -专利权人：全球能源互联网研究院有限公司;国家电网有限公司;国网山西省电力公司检修分公司
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供了一种芯片制备方法，该法包括：晶圆打标号、晶圆预清洗、PECVD在晶圆表面沉积致密SiO2薄膜、涂覆光刻胶、步进式光刻机曝光、曝光后显影、步进式光刻机第二次套刻曝光、步进式光刻机第三次套刻曝光、曝光后显影、坚膜、干法刻蚀、去除光刻胶和自动划片。
一种芯片制备方法

[发明专利]半导体工艺中光刻机台的控制方法及装置-CN200910090371.2有效
发明人：李劲;詹祥宇 -专利权人：北大方正集团有限公司;深圳方正微电子有限公司
申请日： 2009-08-06 - 公布日： 2010-01-06 - 主分类号： G05B19/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种半导体工艺中光刻机台的控制方法及装置，主要技术方案包括：确定待光刻半导体产品对应的描述信息；根据预设的描述信息与光刻机台控制信息的对应关系，获取与所述描述信息对应的光刻机台控制信息；根据所述光刻机台控制信息确定执行各工步光刻的光刻机台信息，并利用与所述光刻机台信息对应的光刻机台执行对所述半导体产品各工步的光刻，采用该技术方案，提高了对半导体产品进行光刻的准确度，从而保证了产品性能。
半导体工艺光刻机台控制方法装置

[发明专利]一种具有辅助散热装置的光刻机-CN202211656660.6有效
发明人：庄荣坤 -专利权人：上海凯矜新材料科技有限公司
申请日： 2022-12-22 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有辅助散热装置的光刻机，包括光刻机和光刻机下方活动连接的散热柜，散热柜前方表面开设有散热窗，散热柜左右两侧开设有活性散热窗，活性散热窗包括有固定杆，固定杆固定连接于散热柜左右两壁内，固定杆内部设置有活动轴该具有辅助散热装置的光刻机通过设置散热装置来对内部进行散热，通过内部的固定柱来进行对散热扇的固定，通过设置两个双轴电机为同步运转，来带动固定柱两边的扇轴与转动轴，扇叶的形状呈不规则形状，当转动时所带动的气流随着扇叶的形状吹出来，形成不规则的气流，从而带动光刻机内部的各方向气流，避免散热不完整出现散热死角。
一种具有辅助散热装置光刻

[实用新型]一种用于干式和沉浸式光刻机防微振基础座-CN201821038225.6有效
发明人：何成伟 -专利权人：协伟集成电路设备（上海）有限公司
申请日： 2018-07-02 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于干式和沉浸式光刻机防微振基础座，本实用新型具有结构合理简单、生产成本低、安装方便，功能齐全，能满足该光刻机对基础座的刚性需求和防微震要求，以及提供其配套设备的安装环境，确保了中国内陆地区在引进干式和沉浸式光刻机的时候，能够提供干式和沉浸式光刻机正常运行所需要的环境，从而保证了该光刻机的顺利引进以及安装运行，对中国内陆地区的整个电子厂特别是半导体厂，使其中国内陆地区整个行业的半导体产品制作工艺水平得到很好改善，并且同时也提速了中国内陆的半导体制造工艺达到国际水平的进程
干式沉浸式光刻机本实用新型沉浸式光刻内陆地区光刻机微振半导体制造工艺半导体产品生产成本低安装方便安装环境半导体厂国际水平配套设备制作工艺电子厂提速微震内陆陆地进程保证

[实用新型]一种直写式光刻机的自动门-CN201920816364.5有效
发明人：彭海磊;刘栋;蔡瑞;章卫平;李伟成;张雷 -专利权人：苏州源卓光电科技有限公司
申请日： 2019-06-03 - 公布日： 2020-01-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种直写式光刻机的自动门，置于所述直写式光刻机的支架上，所述自动门包括置于所述直写式光刻机支架上相对的第一平行轨道和相对的第二平行轨道，沿所述第一平行轨道滑动的第一门板、相对于所述第二平行轨道滑动的第二门板以及制动装置以及应用前述自动门的直写式光刻机。所述自动门通过两个门板联动或者单独运动实现所述自动门的开启或者闭合，两个门板的使用，减小了单个门板的面积，进而可以减小所述挡板的面积，实现减小所述直写式光刻机体积的目的。
门板平行轨道直写式光刻机自动门滑动减小支架制动装置控制闭合挡板单独运动开启位置制动装置联动应用

[实用新型]一种双面光刻机-CN202023125583.0有效
发明人：张其文 -专利权人：四川鸿源鼎芯科技有限公司
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2021-10-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种双面光刻机，包括支撑板和桌脚，所述支撑板的上方固定有伸缩杆，且伸缩杆的上方设置有气缸，所述桌脚位于气缸的上方，且桌脚的外侧固定有侧板，所述桌脚的上方固定有工作平台，且工作平台的上方从后往前依次设置有上机体和安装座该双面光刻机，与现有的普通双面光刻机相比，方便调节该双面光刻机工作平台的高度，使得该双面光刻机适应不同身高的工人，方便进行加工，方便将加工产生的废屑，进行收集，方便处理，对电路板进行限位，方便将电路板夹持
一种双面光刻