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[发明专利]在浸没式光刻术中使用超临界流体以干燥芯片及清洁透镜-CN200680023614.5有效
发明人： R·苏布拉马尼亚姆;B·辛格;K·A·潘 -专利权人：先进微装置公司;斯班逊有限公司
申请日： 2006-06-23 - 公布日： 2009-06-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明揭露浸没式光刻方法与系统，其包含透过浸没式光刻工具的透镜与浸没液体照射光阻，该浸没液体位于浸没空间中与透镜及光阻接触；从浸没空间移除浸没液体；将超临界流体注入于浸没空间中；从浸没空间移除超临界流体；以及将浸没液体注入于浸没空间中。
浸没光刻使用临界流体干燥芯片清洁透镜

[发明专利]浸没式光刻设备及其浸没罩系统-CN202110579419.7在审
发明人：桑伟华;徐骁驰 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司
申请日： 2021-05-26 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请提供一种浸没式光刻设备及其浸没罩系统，所述浸没罩系统包括：浸没罩主体；浸没液供应单元，位于所述浸没罩主体中；气体供应单元，位于所述浸没液供应单元外侧的浸没罩主体中；气液回收单元，位于所述浸没液供应单元和所述气体供应单元之间的浸没罩主体中，且所述气液回收单元的主管道与水平面呈特定倾斜角；气体回收单元，位于所述气体供应单元外围的浸没罩主体中；所述气液回收单元在工作时，回收的浸没液包括所述气液回收单元的主管道下方区域的浸没液以及自所述气液回收单元的主管道下方区域向外延伸0‑0.046mm区域内的浸没液，本申请技术方案的浸没式光刻设备及其浸没罩系统能够提高对浸没液拖尾处的浸没液的回收能力。
浸没光刻设备及其系统

[实用新型]浸没式液冷箱体及浸没式液冷机柜-CN202320534671.0有效
发明人：王木胜;赵鹏;杨锡垚 -专利权人：深圳市英维克科技股份有限公司
申请日： 2023-03-13 - 公布日： 2023-08-04 - 主分类号： H05K5/02 文献下载
摘要：本申请提供一种浸没式液冷箱体及浸没式液冷机柜，浸没式液冷箱体包括浸没腔体、CDU及电控区，所述CDU及所述电控区设置在所述浸没腔体的第二端；所述浸没腔体被配置为封闭腔体，以将服务器、冷却液封闭在所述浸没腔体内；其中，所述浸没腔体的顶部设有可拆卸的盖板。本申请的浸没式液冷箱体的浸没腔体顶部设置有可拆卸的盖板，盖板用于封闭浸没腔体，可以将服务器封闭在浸没腔体内，同时可以将冷却液封闭在浸没腔体内，从而可以防止浸没腔体内的冷却液向外溅出，还可以避免杂物落入浸没腔体污染冷却液
浸没式液冷箱体机柜

[发明专利]一种浸没式光刻系统和浸没流场维持方法-CN201610255529.7有效
发明人：丛国栋;郑清泉;吴立伟 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-04-22 - 公布日： 2019-03-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种浸没式光刻系统和浸没流场维持方法，通过在浸没头中设置浸没液固化装置，在曝光过程中，浸没液固化装置将浸没头与所述硅片之间的浸没液固化形成密封墙，所述浸没头、所述密封墙和所述硅片形成盛放容器并盛放所述浸没液，在密封墙内的浸没液形成了介质，投影物镜镜头与硅片之间维持着液体的浸没液场；在曝光完成之后，浸没液固化装置将所有与硅片接触的浸没液固化，从而当硅片从工件台上移出后，浸没液不会因为重力作用下落，当工件台上上载新的未曝光的硅片后，将固化的浸没液与硅片接触，然后浸没液固化装置使固化的浸没液液化，继续下一轮曝光，因此这种装置和工艺在更换硅片后无需重新建立液场，节省了时间，提高了光刻效率。
一种浸没光刻系统维持方法

[实用新型]电池包和车辆-CN202223340498.5有效
发明人：曲凡多;张放南;徐颖莹 -专利权人：蜂巢能源科技股份有限公司
申请日： 2022-12-12 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： H01M50/244 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种电池包和车辆，电池包包括：壳体，所述壳体设有电池容纳腔；多个电池，多个所述电池设于所述电池容纳腔内；冷板，所述冷板设于所述多个所述电池的上表面，并适于与多个所述电池换热；第一浸没液和第二浸没液，所述第一浸没液和所述第二浸没液均设于所述电池容纳腔内，所述第一浸没液的密度大于所述第二浸没液的密度，第一浸没液的沸点小于第二浸没液的沸点，且所述第一浸没液适于在与所述电池热交换时由液态转化为气态；其中，且所述第一浸没液和所述第二浸没液不相互溶解及反应。可以通过第一浸没液气液状态的转换在第二浸没液形成搅动，提升第二浸没液处热均衡的效果。
电池车辆

[实用新型]一种软式内镜清洗消毒专用槽-CN202121426909.5有效
发明人：季春妍;陈娜;张喆浩 -专利权人：连云港市第一人民医院
申请日： 2021-06-25 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： B08B3/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种软式内镜清洗消毒专用槽，包括清洗槽，所述清洗槽底部设有槽底，所述槽底上分别设有管体浸没区、操作部浸没区、导光插头部浸没区和配件浸没区，浸没区均呈下凹结构，浸没区内设有排水口，操作部浸没区、导光插头部浸没区的形状与软镜结构一致，所述清洗槽上方还设有过滤网，所述过滤网上设有支架，用于支撑软镜前端，管体浸没区、操作部浸没区、导光插头部浸没区和配件清洗区连通；本实用新型能够专用清洗软内镜（软镜），将内镜（软镜）的操作部放置到操作部浸没区，将内镜（软镜）的导光插头部放置到操作部浸没区内，其中插入部和管道分别管体浸没区，本实用新型设计的深度可以完全浸没内镜（软镜），可以节约消毒清洗液，使用的清洗液较少，完全浸没，有效浸泡掉内镜（软镜）上的赃物。
一种软式清洗消毒专用

[发明专利]一种浸没式喷枪头-CN201610770823.1有效
发明人：刘大勇;洪元;李新华;李志中;周旭;郝研 -专利权人：航天恒星科技有限公司
申请日： 2016-08-30 - 公布日： 2018-12-25 - 主分类号： F27D3/16 文献下载
摘要：本发明一种浸没式喷枪头，包括浸没段、连接段和支撑散热组件，浸没段和连接段为管状结构，浸没段套装在连接段下端部分，支撑散热组件固定安装在连接段上端部分并抵靠在浸没段上端面，浸没段为陶瓷材料。通过采用耐高温、耐侵蚀以及具有良好抗热冲击性能的陶瓷材料作为喷枪头的浸没段，有效提高了喷枪头的寿命。通过支撑散热组件对浸没段进行限位，有效解决浸没段与连接段机械连接而带来的浸没段晃动问题。
浸没连接段散热组件浸没式喷枪陶瓷材料喷枪头支撑抗热冲击性能管状结构机械连接有效解决耐高温耐侵蚀上端面上端下端限位晃动

[发明专利]一种用于浸没式成像系统的浸没头-CN201811020844.7在审
发明人：张继真;谢晓麟;管海军;曲贺盟;徐放 -专利权人：长春长光智欧科技有限公司
申请日： 2018-09-03 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种用于浸没式成像系统的浸没头，包括镜筒、镜片和浸没头基座，镜片安装在镜筒中，浸没头基座与镜筒连接并可相对镜筒沿上下方向移动，浸没头基座设置有向上延伸的侧壁，侧壁配合设置在镜筒的外侧，侧壁与镜筒的外侧密封接触并可相对滑动，在浸没头基座相对所述镜筒上下移动的过程中，侧壁至少部分与镜筒的外侧密封接触；浸没头基座与镜筒之间设置有弹性件；当浸没头基座相对镜筒向上移动时，弹性件可为浸没头基座提供向下的缓冲弹力。本发明提供的用于浸没式成像系统的浸没头，能够在有效解决碰撞问题的同时，保证密封效果。
浸没镜筒侧壁成像系统浸没式外侧密封弹性件上下方向移动缓冲弹力镜片安装密封效果配合设置上下移动相对滑动向上延伸向上移动有效解决镜片保证

[实用新型]一种用于浸没式成像系统的浸没头-CN201821446211.8有效
发明人：张继真;谢晓麟;管海军;曲贺盟;徐放 -专利权人：长春长光智欧科技有限公司
申请日： 2018-09-03 - 公布日： 2019-04-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于浸没式成像系统的浸没头，包括镜筒、镜片和浸没头基座，镜片安装在镜筒中，浸没头基座与镜筒连接并可相对镜筒沿上下方向移动，浸没头基座设置有向上延伸的侧壁，侧壁配合设置在镜筒的外侧，侧壁与镜筒的外侧密封接触并可相对滑动，在浸没头基座相对所述镜筒上下移动的过程中，侧壁至少部分与镜筒的外侧密封接触；浸没头基座与镜筒之间设置有弹性件；当浸没头基座相对镜筒向上移动时，弹性件可为浸没头基座提供向下的缓冲弹力。本实用新型提供的用于浸没式成像系统的浸没头，能够在有效解决碰撞问题的同时，保证密封效果。
浸没镜筒侧壁成像系统浸没式本实用新型外侧密封弹性件上下方向移动缓冲弹力镜片安装密封效果配合设置上下移动相对滑动向上延伸向上移动有效解决镜片保证

[发明专利]用于浸没式光刻机的气密封和微孔密封装置-CN201410172815.8有效
发明人：傅新;徐宁;陈文昱 -专利权人：浙江大学
申请日： 2014-04-25 - 公布日： 2014-08-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于浸没式光刻机的气密封和微孔密封装置。在浸没式光刻机中的投影透镜组和硅片之间设置有气密封和微孔密封装置；气密封和微孔密封装置包括浸没单元基体、浸没单元上端盖、浸没单元下端盖和浸没单元气密封端盖；浸没单元基体上面与浸没单元上端盖接触，浸没单元基体下面依次与浸没单元下端盖和浸没单元气密封端盖接触紧固连接本发明用来完成浸没式光刻系统中缝隙流场的密封和液体注入回收功能，采用气密封结构和微孔结构防止液体泄漏，在微孔上加上负压对液体进行回收并约束缝隙流场，通过气密封结构实现缝隙流场的密封，同时能够保证缝隙流场边缘的稳定性通过大流量注液和回收实现缝隙流场内浸没液体的稳定更新。
用于浸没光刻密封微孔装置

[发明专利]浸没头的集成工装及其集成方法和光刻机-CN201911380274.7有效
发明人：陈言亭;余斌 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2019-12-27 - 公布日： 2021-12-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种浸没头的集成工装及其集成方法和光刻机，所述浸没头的集成工装包括：支撑单元，用于作为光刻机的投影物镜和浸没头的载体；垂向位置探测单元，用于检测投影物镜与浸没头之间的垂直距离、投影物镜的轴心与浸没头的轴心之间的水平距离以及投影物镜与浸没头的相对的面的水平度偏差；水平位置调整单元，用于调整浸没头在水平方向上的位置，以使得浸没头的轴心与投影物镜的轴心重合；垂向位置调整单元，用于调整浸没头在垂直方向上的位置，以使得浸没头与投影物镜的相对的面平行，且使得浸没头到达所需的安装位置本发明的技术方案使得浸没头能够安全且准确地安装到投影物镜下方的所需的安装位置。
浸没集成工装及其方法光刻

[实用新型]一种高浓度废水浸没式超滤系统-CN202120614806.5有效
发明人：官祎男;吴志勇;樊尘子;罗小红;陈艳艳 -专利权人：国能朗新明环保科技有限公司
申请日： 2021-03-26 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： C02F1/44 文献下载
摘要：本实用新型提供一种高浓度废水浸没式超滤系统，包括依次连接的清水池装置、浸没式超滤进水装置、浸没式超滤膜池系统、浸没式超滤出水装置和浸没式超滤产水池装置；浸没式超滤膜池设置多个与浸没式超滤配水渠连通的进水口，浸没式超滤配水渠的水流方向与进水口的进水方向垂直；浸没式超滤膜池包括设置在排水一侧的集水坑和设置在浸没式超滤膜箱与浸没式超滤膜池之间用于填充冗余容积的垫层。本实用新型通过明渠均匀流的上部进水方式，降低了进水对浸没式超滤膜组件装置的冲击，同时在膜池内设置垫层减少了膜池的整体容积，并且在膜池排空位置增加的集水坑，达到高效排水，综合提高膜池的运行稳定性。
一种浓度废水浸没超滤系统

[发明专利]分层浸没式冷却系统以及移除方法-CN202210236186.5在审
发明人：陈朝荣;陈达稚;陈志明 -专利权人：广达电脑股份有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： G06F1/20 文献下载
摘要：本发明公开一种分层浸没式冷却系统以及移除方法，其中该分层浸没式冷却系统包括一机箱、一机柜框架、一上浸没槽、以及一下浸没槽，机柜框架可滑动地装配于所述机箱。上浸没槽可滑动地装配于所述机箱。上浸没槽可与机柜框架在水平方向滑动。上浸没槽沿所述机箱的一高度在一垂直方向相对于机柜框架滑动。下浸没槽在垂直方向定位于上浸没槽之下。下浸没槽装配以独立于机柜框架在水平方向滑动。下浸没槽于一第二内部位置以及一第二外部位置之间滑动。
分层浸没冷却系统以及方法

[实用新型]化学储能厢的安全阻隔热失控系统-CN202221329818.4有效
发明人：辛民昌;江守鑫;曾庆欣;元金石 -专利权人：九环储能科技有限公司
申请日： 2022-05-30 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01M10/42 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学储能厢的安全阻隔热失控系统，所述化学储能厢包括厢体；所述安全阻隔热失控系统包括：浸没注液泵；浸没储液装置，用于储存安全液；浸没注液管道，用于向所述厢体内注入安全液；浸没溢流管道，与设置在厢体上的溢流口相连；所述浸没注液泵的进液口与所述浸没储液装置相连，所述浸没注液泵的出液口与所述浸没注液管道相连，所述浸没注液管道上设有浸没注液阀；所述厢体的顶部设有导气口。本实用新型的化学储能厢的安全阻隔热失控系统，采用浸没的方式可有效阻隔热失控并防止热失控蔓延至化学储能厢外或其他化学储能厢，并能够防止热失控爆燃。
化学储能厢安全阻隔失控系统

[发明专利]浸没基体、浸没基体的应用和浸没设备-CN201811123379.X有效
发明人： T.奥尔特;T.卡尔克布伦纳 -专利权人：卡尔蔡司显微镜有限责任公司
申请日： 2018-09-26 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： G02B21/33 文献下载
摘要：本发明涉及浸没基体(5)，其被构造用于调整光学装置的分界面处的光学性能，所述浸没基体在浸没基体(5)的材料(6)中具有多孔结构，所述多孔结构具有孔(7)和/或纳米孔(8)，所述孔(7)具有选自大于20nm本发明还涉及浸没基体(5)的应用、具有浸没基体(5)的装置以及浸没设备。
浸没基体应用设备

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