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[发明专利]提升检测金属离子污染敏感性的方法-CN202310341067.0在审
发明人：吕亚冰;徐欢;陈力钧 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2023-03-31 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种提升检测金属离子污染敏感性的方法，包括先采用无偏置射频，大压力的各向同性工艺处理过程，再采用大功率偏置射频和小压力的各项异性工艺处理过程，或者先第二步再第一步的工艺条件，改善等离子体的在工艺腔体的分布，以同时捕捉轻重分子量的不同金属元素。本发明在刻蚀机台上通过腔室气体压力高低调节和射频功率大小的调节，使等离子体能触及到工艺腔体的角角落落，更真实的反应腔体金属污染的时间情况，大大提升了ICPMS检测的敏感性和稳定性，满足后续产品不断迭代的工艺需求。
提升检测金属离子污染敏感性方法

[发明专利]一种用于带压管路的外置式测漏工具-CN202310181315.X在审
发明人： 陈力钧;杨立华;陈豪 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2023-02-27 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G01M3/28 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于带压管路的外置式测漏工具，包括第一壳体、第二壳体、密封圈和压力表；第一壳体和第二壳体之间可拆卸式连接；密封圈设置在第一壳体的开口位置和/或第二壳体的开口位置；第一壳体、第二壳体和带压管路的外表面之间通过密封圈围合形成一密封空间；压力表固定在第一壳体上或第二壳体上，压力表用于检测密封空间内的压力。本方案可以在机器运行过程中通过第一壳体和第二壳体直接固定在带压管路上对带压管路进行泄漏检测，不再需要停机进行泄漏检测。通过观察压力表的指针或压力数值是否变化，即可判断带压管路是否存在泄漏，不再需要其它的检漏设备，操作简单，检测成本降低。避免带压管路存在检测盲点的问题。
一种用于管路外置式测漏工具

[发明专利]拼接产品的图形拼接方法-CN202111409200.9在审
发明人：朱晓斌;郑海昌;陈力钧;王晓龙;张煜 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2021-11-25 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： G03F1/70 文献下载
摘要：本发明公开了一种拼接产品的图形拼接方法，包括：步骤一、提供拼接产品的芯片设计版图；步骤二、根据芯片设计版图设计光罩版图，包括：步骤21、设置单元光罩图形；步骤22、将单元区之间的相邻区域的逻辑图形或切割道图形合并在一起来设置对应的周边光罩图形；步骤23、将各相同的周边光罩图形合并为一个；步骤24、将单元光罩图形和各周边光罩图形组成光罩版图并形成在光罩上；步骤三、进行重复曝光形成拼接产品，包括：在单元区采用单元光罩图形进行重复曝光直至定义出单元区的所有单元电路图形；在周边区采用对应的周边光罩图形进行重复曝光在芯片上形成各逻辑图形和各切割道图形。本发明能减少光罩图形的数量、减少曝光次数和曝光时间。
拼接产品图形方法

[发明专利]自动物料传输系统及自动化物料传输方法-CN202110748236.3有效
发明人： 陈力钧;戴骁超;桂纯钦;杨磊 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： B65G63/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种自动物料传输系统及自动化物料传输方法，包括机台、终端设备、天车和自动搬送轨道，所述天车为多个且用于在所述自动搬送轨道上运行，所述终端设备用于控制晶圆的自动化加工，每个所述天车能够将其位置信息发送给所述终端设备，所述终端设备可根据各所述天车所发送的位置信息获取天车的拥堵状态。本发明可提升天车在各机台之间的搬运效率，并同时提高各机台装载端口的使用率，进而可提高物料的搬运效率，降低天车的堵车风险，提高产能。
自动物料传输系统自动化方法

[发明专利]一种连接组件及应用其的刻蚀机-CN202211420217.9在审
发明人：陈秋宇;沈吉;汤介峰;荆泉;陈力钧 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2022-11-15 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供了一种连接组件及应用其的刻蚀机，其中，本发明提供的连接组包括挂钩和密封圈，所述挂钩呈二阶梯状，所述挂钩的第一阶高h1和第二阶高h2满足：1/3＜h2/h1≤1，将其应用于刻蚀机，可有效提高上腔体部分整体的配合度，改善密封圈上聚合物沉积现象，延长其使用寿命，提高刻蚀机的刻蚀速率和刻蚀均一性。
一种连接组件应用刻蚀

[实用新型]一种晶圆工作台用偏差矫正机构-CN202222596169.0有效
发明人：沈吉;陈诚;汤介峰;荆泉;陈力钧 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2023-02-10 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆工作台用偏差矫正机构，具体涉及矫正机构领域，包括固定底座，所述固定底座的顶端固定安装有旋转工作台，所述旋转工作台的内部具有空腔，所述旋转工作台的底端连通有真空泵，所述旋转工作台的顶端固定安装有三角板，所述固定底座的顶端固定安装有承载台，其技术要点为：设置有硅胶滑板与承载台的内壁呈相抵设置，保证旋转工作台与真空泵之间呈密封状态，当晶圆片放置在承载台表面促使弹簧下降，进而实现晶圆片、旋转工作台以及真空泵之间形成负压，吸附晶圆片进行固定，同时在旋转工作台的表面设置有三个承载台，通过旋转工作台旋转的方式进行不间断的工作，实现自动化。
一种工作台偏差矫正机构

[发明专利]光刻机首层晶圆对准装置及其对准方法-CN202211343885.6在审
发明人：傅佳伟;陈成;朱晓斌;张煜;秦利鹏;郑海昌;陈力钧 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2022-10-31 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻机首层晶圆对准装置及其对准方法，所述晶圆对准装置包括：晶圆放置台、若干顶针及至少一个激光干涉器，所述晶圆放置台用于放置所述晶圆，所述顶针位于所述晶圆放置台内，所述顶针内设置有用于吸附所述晶圆的真空吸附孔，所述顶针可带动所述晶圆上下移动或转动，所述激光干涉器位于所述晶圆放置台上且位于所述晶圆的外侧，用于检测所述晶圆的位置与预设位置是否偏移，避免由所述顶针带动所述晶圆移动过程中位置偏移造成的套刻精度降低。
光刻机首层晶圆对准装置及其方法

[发明专利]一种金属离子污染采样检测装置-CN202211213327.8在审
发明人： 陈力钧;荆泉;杨立华;何文蔚 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2022-09-29 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： G01N1/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属离子污染采样检测装置，具体涉及检测装置技术领域，包括多组采样管、采样泵、采样瓶以及防倒灌瓶，采样泵、采样瓶以及防倒灌瓶的底端相齐平，采样泵通过采样管与采样瓶呈连通状态设置，采样瓶通过采样管与防倒灌瓶呈连通状态设置，采样管远离采样泵的一端固定安装有连接腔体转接口，其技术要点为：在采样管之间固定连接有逆止阀，在逆止阀的内部滑动安装有滑动引流板，且在逆止阀的内部设置有与滑动引流板相互插合的多组竖直插杆，当气流流经逆止阀内部时促使滑动引流板的位置发生改变，从而改变逆止阀内部的连通或者密封不同转态，从而实现引流以及防止气体反流的目的。
一种金属离子污染采样检测装置

[发明专利]光罩位置匹配装置及其匹配方法、光刻机-CN202011483312.4有效
发明人： 陈力钧;王晓龙;朱晓斌 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2020-12-16 - 公布日： 2022-11-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种光罩位置匹配装置及其匹配方法、光刻机，光罩位置匹配装置具有一空腔，内有一工作台，包括第一传感器、第二传感器和处理器，处理器存储有多个光罩的位置信息与光刻机的机台型号的匹配对信息，工作台可在竖直方向上进行升降动作，并可在水平方向上进行旋转动作，第二传感器用于获取光罩的位置信息，处理器根据匹配对信息判断光罩的位置信息是否与光刻机的机台型号匹配，若两者不匹配，则驱动工作台以调整光罩的位置。本发明通过增加第二传感器，并通过设置工作台在空腔的水平方向上进行旋转动作，从而使光罩的摆放位置与当前光刻机的机台型号相匹配，避免机台因识别不到光罩发生宕机，提高工作效率，减少人力成本，降低人为错误。
位置匹配装置及其方法光刻

[实用新型]一种校准装置及真空传送装置-CN202123348110.1有效
发明人：张彬骁;陆启迪;沈吉;汤介峰;荆泉;陈力钧 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： H01L21/68 文献下载
摘要：本实用新型提供一种校准装置及真空传送装置，所述校准装置适用于所述真空传送装置，所述真空传送装置内包括腔体、设置在所述腔体内的门框和所述腔体内用于传送晶圆的手臂，所述校准装置包括校具和至少一个升降装置；其中，所述校具为一上下贯通的空心倒圆台，且所述空心倒圆台的侧壁未闭合形成一开口；所述手臂的一端通过所述开口伸入所述空心倒圆台内；所述升降装置的底部设置在所述腔体底座，所述升降装置的顶端连接所述校具的外部侧壁从而带动所述校具的升降；本实用新型提供的校准装置及真空传送装置，可以在较短时间内处理晶圆在传送过程中因位置偏移量超过偏移量预设值引起的机台宕机，从而影响整机工作时间的问题。
一种校准装置真空传送

[实用新型]干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物清理检测系统-CN202123348572.3有效
发明人：张军;徐作杰;姜祎祎;张德伟;汤介峰;荆泉;陈力钧 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2022-06-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型提供一种干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物清理检测系统，包括：检测盒，设置在干法刻蚀机台的设备前端模块上；酸性指示剂，装填在检测盒之内，能够吸附设备前端模块的颗粒堆积物并且与颗粒堆积物产生化学反应；PH值探测器，安装在检测盒上并且能够与酸性指示剂相接触，以检测酸性指示剂的PH值；控制面板，与PH值探测器连接，用于接收PH值探测器的检测值，控制面板将检测值与预设值相比较，以判断是否需要对干法刻蚀机台的设备前端模块的颗粒堆积物进行清理。本实用新型避免了过早及滞后对颗粒堆积物进行清理造成的不利影响，降低了人工成本、提高了干法刻蚀机台的利用率，提高了晶圆刻蚀工艺的效率和质量。
刻蚀机台设备前端模块颗粒堆积物清理检测系统

[实用新型]一种DRIE机台的等离子体约束环用定位锁定结构-CN202122945564.0有效
发明人：赵干;张德伟;荆泉;陈力钧 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2021-11-29 - 公布日： 2022-06-10 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种DRIE机台的等离子体约束环用定位锁定结构，包括螺旋传动组件和升降主体，其中螺旋传动组件包括转动环和丝杆，传动环侧壁开设止动螺孔，止动螺孔内安装有止动螺杆，止动螺杆的顶部至丝杆表面的距离小于传动螺孔的孔壁至丝杆的表面的距离，止动螺杆对丝杆进行止动；本实用新型通过止动螺杆对丝杆的传动环部进行止动，止动螺杆对传动环部起到的阻挡的作用，实现了丝杆的位置固定，该种定位方式定位精度高，且不易出现被损坏而影响定位精度的问题，能实现对等离子体约束环的精密定位。
一种 drie 机台等离子体约束定位锁定结构

[发明专利]涂胶显影设备的稳压装置以及涂胶显影设备-CN202011486095.4有效
发明人： 陈力钧;吴国光;莫少文 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2020-12-16 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种涂胶显影设备的稳压装置以及涂胶显影设备，所述涂胶显影设备的稳压装置包括风洞，具有一轴向贯穿所述风洞两端的进风端和出风端的通孔，通孔的侧壁上设置有限位口；轴承，轴向设置于所述通孔中；活塞，与所述限位口配合打开或关闭所述通孔；弹簧，所述弹簧的靠近所述限位口的一端通过所述轴承上的一弹簧限位杆固定于所述轴承上；曲柄和曲柄连杆，设置于所述弹簧的远离所述进风端的一侧，所述曲柄与所述弹簧的远离所述限位口的一端连接；螺旋桨，设置于所述轴承的靠近所述出风端的一端。本发明提供的技术方案能够稳定涂胶显影腔室与外界大气之间的压差，进而使得晶圆表面的膜厚的均匀性能够控制在规格内，降低晶圆的返工率。
涂胶显影设备稳压装置以及

[发明专利]一种掩模版及光刻机-CN202111652270.7在审
发明人：胡健;徐阳;周世均;王晓龙;郑海昌;陈力钧 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩模版及光刻机。其中，掩模版包括曝光区域，和环绕在所述曝光区域外的非曝光区域，所述非曝光区域中设置有多个辅助图案，每个所述辅助图案包括多个间隔排列的条纹图形，其中，每个所述条纹图形的线宽小于光刻机的分辨率极限。在利用光刻机对该掩模版进行曝光时，即使存在杂散光会通过掩模版的非曝光区域的现象，然而由于辅助图案中的条纹图形未达到光刻机的分辨率而难以被识别，进而不会将辅助图案映射在晶圆上，从而有效解决光刻机因漏光带来的鬼影问题。
一种模版光刻

[实用新型]一种显影设备-CN202122961152.6有效
发明人： 陈力钧;史衍方;郑海昌;王晓龙 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2021-11-29 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种显影设备，包括：显影单元和清洗液供给单元。其中，显影单元，用于通过喷嘴向显影腔体内的基板喷洒显影液以进行显影；清洗液供给单元，与所述喷嘴连通，用于在所述显影单元对所述基板进行显影完成后，将清洗溶液通过所述喷嘴喷洒出，以去除所述喷嘴中吸附的显影残留物。本实用新型提供的显影设备，可在每次完成显影工作后，自动清洗喷嘴上吸附的显影残留物，高效、快捷，消除了停机清洗喷嘴造成的产能损失，有助于提升生产效益。
一种显影设备

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