“毛方林”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果21个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种双面套刻误差校准方法及光刻装置-CN201810547215.3有效
发明人： 毛方林;翟院青;宋德星 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-05-31 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种双面套刻误差校准方法及光刻装置。此方法包括：提供一基底；在基底正面形成第一层正面套刻图案和具有对准标记的图案；利用正面对准系统确定正面对准标记的位置，建立基底正面坐标系WFCS；基于基底正面坐标系WFCS，在基底正面形成第二层正面套刻图案；测量第一层正面套刻图案和第二层正面套刻图案之间的位置误差，进行第一次套刻误差校准；翻转基底；利用背面对准系统确定背面对准标记的位置，建立基底背面坐标系WBCS；基于基底背面坐标系WBCS，在基底背面形成第一层背面套刻图案和第二层背面套刻图案；测量第一层背面套刻图案和第二层背面套刻图案之间的位置误差进行第二次套刻误差校准。此双面套刻误差校准方案，方法简单，效率高。
一种双面误差校准方法光刻装置

[发明专利]一种用于光刻装置的双面套刻系统及方法-CN201310009430.5有效
发明人： 毛方林;李煜芝;王健 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2013-01-11 - 公布日： 2014-07-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种用于光刻装置的双面套刻系统，包括：一照明模块，用于提供辐射束；一支撑结构，用于支撑图案形成装置；一投影物镜，用于将图案成像至晶圆，该晶圆包括一位于背面的图案，该晶圆经过曝光后正面获得一对准标记和一套刻图案，一支撑结构，用于固定晶圆；一双面套刻误差测量装置，用于测量该套刻图案与该背面图案的相对位置误差，一正面对准系统，用于确定该晶圆正面的对准标记位置。本发明还同时公开一种用于光刻装置的双面套刻方法。
一种用于光刻装置双面系统方法

[发明专利]一种用于运动台误差定位误差校准的方法-CN201210181490.0有效
发明人： 毛方林;李煜芝;林彬 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-06-05 - 公布日： 2013-12-18 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明公开一种用于运动台误差定位误差校准的方法，其特征在于，包括：步骤一：利用干涉仪于第一起始位置以一定步长测量所述运动台的反射镜面的面形，获得第一组面形数据，所述步长为所述干涉仪的间距；步骤二：重复执行步骤一，每次起始位置与前一次起始位置的间距大于零且小于所述步长，获得多组面形数据，得到所述运动台的反射镜面的完整面形数据，计算面形误差；步骤三、结合所述面形误差，采用插值处理所述完整面形数据获得一面形残差；步骤四、对所述面形残差进行滤波获得一最终面形数据；步骤五、利用所述最终面形数据，在运动台控制系统进行伺服控制时，提前补偿反射镜面型数据。
一种用于运动误差定位校准方法

[发明专利]用于光刻设备的工件台位置误差补偿方法-CN201210181489.8有效
发明人：林彬;李煜芝;毛方林 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-06-05 - 公布日： 2013-12-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种用于光刻设备的工件台位置误差补偿方法，其特征在于，包括：步骤一、设置旋转台的旋转角度为零，并与水平向运动台保持固定的位置关系，在硅片上套刻曝光，读取曝光标记偏差，计算各曝光场的旋转角度；步骤二、根据所述各曝光场的旋转角度，拟合由所述运动轨道扭转引入的旋转角度；步骤三、使所述工件台先后沿第一方向和与第一方向垂直的第二方向运动，测量工件台的旋转角度；步骤四、根据所述工件台的旋转角度，拟合获得由缩放效应引入的旋转角度；步骤五、根据所述工件台的旋转角度、所述运动轨道扭转引入的旋转角度与缩放效应引起的旋转角度，计算方镜面形引起的旋转角度，获得一补偿后的方镜形貌。
用于光刻设备工件位置误差补偿方法

[发明专利]运动台定位精度的测量系统及测量方法-CN201210062953.1有效
发明人： 毛方林;李术新;李煜芝 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2012-03-09 - 公布日： 2013-09-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种运动台定位精度的测量系统及测量方法，所述测量系统包括：运动台控制系统，用于驱动运动台按照一设定路线步进或扫描；第一位置测量系统，用于实时测量运动台的当前位置并反馈至运动台控制系统，从而由运动台控制系统根据所述当前位置驱动运动台步进或扫描至一设定位置；第二位置测量系统，用于当运动台控制系统驱动运动台每次经过所述设定位置时，分别测量运动台位于所述设定位置时的实际位置，计算每次实际位置之间的偏差并与运动台精度指标比较，从而判断运动台定位精度是否达标。所述测量方法可离线测量运动台的定位精度，无需依赖于光刻机其它部件，在光刻机集成中可提前诊断运动台定位问题。
运动定位精度测量系统测量方法

[发明专利]光刻机的垂向控制装置及方法-CN201010592409.9有效
发明人：王献英;毛方林;段立峰 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-12-16 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻机的垂向控制方法，包括如下步骤：a.由调焦调平传感器测量初始位置下基底上的测量点的位置信息，由垂向测量传感器测量初始位置下工件台的位置信息；b.根据上述位置信息计算得到将基底上的测量点调节至目标平面内的垂向设定值；c.以所述垂向设定值为闭环控制的输入值，以垂向测量传感器实时测量得到的当前位置下工件台的位置信息作为闭环控制的反馈值，对工件台的位置进行闭环控制，从而将基底上的测量点调到目标平面。根据本发明的垂向控制方法，调焦调平传感器无需参与到闭环控制中，可大大节省时间并降低闭环机制的复杂度。
光刻控制装置方法

[发明专利]提高旋转台精度的方法-CN201010592239.4有效
发明人：李煜芝;王帆;毛方林 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-12-16 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提出一种提高旋转台精度的方法。旋转台可旋转地位于工件台上并承载基底，基底具有两个以上标记。本方法包括以下步骤：控制具有多个旋转角度的旋转台旋转，每旋转一个旋转角度时，对标记分别进行对准，并记录对准后工件台的位置；根据工件台的位置计算每一旋转角度下旋转台相对于工件台的实际旋转角度；依据旋转台的每一旋转角度及与每一旋转角度对应的实际旋转角度计算工件台在每一旋转角度下的旋转偏移量，以得到与多个旋转角度分别对应的多个旋转偏移量；依据多个旋转偏移量及多个旋转角度计算旋转台在多个旋转角度下每一旋转角度对应的补偿角度；根据旋转台在每一旋转角度下的补偿角度对旋转台进行旋转角度补偿。
提高旋转精度方法

[发明专利]确定光刻投影装置最佳物面的方法及用于该方法的掩模-CN201010567531.0有效
发明人： 毛方林;李术新;李煜芝 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-12-01 - 公布日： 2012-06-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种确定光刻投影装置最佳物面的方法，包括下述步骤：驱动图案形成装置至一物面高度位置，该图案形成装置包括第一组标记图案及第二组标记图案；驱动衬底至对应的像面位置处；将该第一组标记图案曝光至衬底表面上形成第一曝光图案；水平移动该衬底；将该第二组标记图案曝光至该衬底表面上形成第二曝光图案，以使该第二曝光图案与第一曝光图案一起构成套刻图案；改变该图案形成装置的垂向高度，在不同物面高度处重复上列步骤，形成多个套刻图案；读取不同物面高度处形成的套刻图案的套刻结果；根据套刻结果拟合出不同物面高度处的畸变值；根据不同物面位置对应的畸变值，选取最小畸变值所对应的物面高度为最佳物面位置。
确定光刻投影装置最佳方法用于

[发明专利]用于光刻设备的调焦测控装置及方法-CN201010572174.7无效
发明人：陈南曙;毛方林 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-12-03 - 公布日： 2012-06-06 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开一种用于光刻设备的调焦测控装置及方法，该装置包括光源模块、光学透镜模块、标准平面透镜、执行模块、探测器模块以及处理模块，该光源模块发出的光束经过该光学透镜模块、标准平面透镜及被测对象后形成参考光束及检测光束，该探测器模块通过检测不同焦平面位置处的参考光束和检测光束的干涉条纹光强以获得该被测对象的表面面形数据，该处理模块接收该被测对象的表面面形数据，对该表面面形数据进行拟合以计算出所述被测对象相对于最佳焦平面的变化量，以供所述执行模块依据所述处理模块的计算结果驱动所述被测对象至最佳焦平面。
用于光刻设备调焦测控装置方法

[发明专利]一种测量干涉仪波长的装置及方法-CN201010507220.5有效
发明人：林彬;毛方林 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-10-14 - 公布日： 2012-05-09 - 主分类号： G01J9/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种测量工件台干涉仪波长的装置，包括：分别位于该工件台相对两侧的第一、第二干涉仪，该第一、第二干涉仪发出的第一、第二测量光束组成一波长测量轴，以及计算模块，用以计算该波长测量轴的理论长度、实际长度以及计算该第一、第二测量光束的实际波长，进而通过本发明之第一、第二干涉仪及计算模块实现对干涉仪测量光束的波长进行实时计算。本发明同时还公开了一种测量工件台干涉仪波长的方法。
一种测量干涉仪波长装置方法

[发明专利]一种确定工件台光电传感器最佳高度的方法-CN201010280587.8无效
发明人：赵健;毛方林 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-09-14 - 公布日： 2012-04-04 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种确定工件台光电传感器最佳高度的方法，包括步骤：a.该工件台携带该光电传感器垂向移动至一高度；b.记录该高度，且该光电传感器测量无半影效应的透光区光强作为该高度的参考光强；c.该工件台携带该光电传感器在该高度之水平向移动，该光电传感器测量水平向不同位置上的光强；d.该光电传感器依据其所测得的水平向不同位置的光强确定一预定光强的水平位置，并记录该预定光强的水平位置；e该工件台携带该光电传感器垂向移动至一下高度，并重复执行该步骤b至d，直至所有待测的垂向高度测试完成以获得垂向不同高度的预定光强的水平位置；以及f.根据所记录的不同高度及该些高度所对应的预定光强的水平位置进行求极值运算，所得的极值点即为该光电传感器的最佳高度。
一种确定工件光电传感器最佳高度方法

[发明专利]一种光刻机投影物镜像面在线测量标记及测量方法-CN201010131941.0有效
发明人：李术新;毛方林 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-03-25 - 公布日： 2011-09-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻机投影物镜像面在线测量标记及利用该标记的测量方法。所述标记由周期分布的子标记组成，所述子标记中包括多种不同的线条标记。所述方法在预期的最佳像面附近，在不同的高度上扫描标记的空间像，记录空间像能量分布，根据能量分步计算测量标记在不同测量高度处的空间像的频率分布，根据频率分布计算视场中不同位置的最佳成像高度，最后根据最佳成像高度拟合像面高度、倾斜、场曲等参数。
一种光刻投影物镜在线测量标记测量方法

[发明专利]一种光刻机投影物镜像面在线测量标记及测量方法-CN201010131943.X有效
发明人：李术新;毛方林 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-03-25 - 公布日： 2011-09-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻机投影物镜像面在线测量标记及利用该标记的测量方法。所述测量标记为连续型标尺型标记。利用此标记通过曝光方法，获取光刻机成像视场中各位置的最佳成像高度，最终拟合出光刻机投影物镜的像面、场曲、高阶场曲等参数。
一种光刻投影物镜在线测量标记测量方法

[发明专利]一种消除长条镜面形引起的倾斜误差的方法-CN201010022990.0有效
发明人：李煜芝;毛方林;孙刚;段立峰 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-01-19 - 公布日： 2011-07-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明揭露了一种消除长条镜面形引起的倾斜误差的方法，所述方法包括如下步骤：上载基底，保持工件台Y方向的坐标不变，干涉仪控制工件台沿X方向运动到不同位置，调焦调平后，由干涉仪读取得到各不同位置下的倾斜值，计算得到长条镜Y方向面形引起的不同位置处的倾斜值；保持工件台X方向的坐标不变，干涉仪控制工件台沿Y方向运动到不同位置，调焦调平后，由干涉仪读取得到各不同位置下的倾斜值，计算得到长条镜X方向面形引起的不同位置处的倾斜值；在工件台对应位置处，干涉仪控制工件台位置倾斜时，补偿长条镜Y方向和X方向面形引起的倾斜值，即可消除由长条镜面形引起的倾斜误差。所述方法可解决长条镜面形导致的倾斜偏差，且方法简单。
一种消除长条镜面形引起倾斜误差方法

[发明专利]双面套准误差测量方法及应用该方法的光刻装置-CN200910198740.X有效
发明人： 毛方林 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2009-11-13 - 公布日： 2011-05-18 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种双面套准测量的光刻装置，包括：用于提供辐射的照明光学系统；用于支撑图案形成装置的第一支撑结构；用于将图案成像至衬底的投影系统；用于固定衬底的第二支撑结构；用于确定衬底正面标记位置的正面对准系统；用于确定衬底背面标记位置的背面对准系统；由照明光学系统发出的投影光束入射至固定于第一支撑结构上的图案形成装置，透过图案形成装置后，携带图案信息的投影光束通过投影系统，聚焦于衬底上的标记位置，正面对准系统能精确定位衬底正面的标记位置，背面对准系统能精确定位衬底背面的标记位置。利用该装置，分别在衬底的两个表面进行曝光，形成曝光标记，通过测量同一表面的不同曝光标记之间的标记位置误差，确定双面套准误差。
双面误差测量方法应用方法光刻装置

1
2
下一页»
尾页
共 21 条