|
|
钻瓜专利网为您找到相关结果 3768584个，建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [实用新型]光刻机-CN201922063585.2有效
-
林生财;刘振辉;王胜利
-
矽电半导体设备（深圳）股份有限公司
-
2019-11-26
-
2020-07-28
-
G03F7/20
- 本实用新型公开光刻机。一种光刻机，包括，浮动连接于机架的光刻板，载物部能够相对于光刻板运动使载物部上的硅片贴合于光刻板；一种光刻机，光刻板浮动连接于机架；载物部设置有第二密封部，所述第二密封部环绕硅片设置；载物部运动使硅片贴合于光刻板时，所述第二密封部与光刻板之间形成真空吸附区域，所述硅片容纳于所述真空吸附区域；通过在光刻板于硅片之间形成真空使光刻板贴合于硅片，从而保证硅片与光刻板之间紧密贴合，保证了对硅片光刻的位置精度。
- 光刻
- [实用新型]光刻机-CN202122217928.3有效
-
张宾
-
无锡迪思微电子有限公司
-
2021-09-10
-
2023-01-20
-
G03F7/20
- 本申请提供了一种光刻机，该光刻机包括本体结构和设置在本体结构上的导向片和定位结构，导向片包括固定端和旋转体，旋转体绕固定端旋转，旋转体用于将掩模版固定在光刻机上，导向片的材料为磁性材料，定位结构包括：真空固定件该光刻机通过真空固定件和磁固定件将导向片和掩模版固定在一起，避免掩模版与导向片形成错位导致掩模版定位不准确，采用真空吸附和磁力吸附两种方式进行固定，避免了现有技术中单用磁力吸附时磁铁老化导致可靠性差的问题
- 光刻
- [实用新型]光刻机-CN202221492101.1有效
-
李智斌;许智
-
松山湖材料实验室;中国科学院物理研究所
-
2022-06-15
-
2023-01-20
-
G03F7/20
- 本申请涉及一种光刻机。该光刻机包括光图形生成设备、空间光相位调制设备和投影设备；光图形生成设备用于投射光图形；空间光相位调制设备，用于接收光图形，并对光图形中部分区域图像的相位进行调制；其中，光图形在空间光相位调制设备上呈实像空间光相位调制设备对光图形的部分区域的相位进行调制，以实现通过投影设备投射到目标位置时光图形的不同区域互相发生干涉效应，在目标位置留下一段非曝光区，进而实现了用低分辨率的光刻机进行高分辨率的光刻的目的，
- 光刻
- [实用新型]光刻机-CN202121493943.4有效
-
曲鲁杰;关远远
-
合肥芯碁微电子装备股份有限公司
-
2021-06-30
-
2021-12-17
-
G03F7/20
- 本实用新型公开了一种光刻机，包括：底座、龙门、对位装置、曝光装置、第一移动台、第二移动台和电控系统，龙门设置于底座上，对位装置设置于龙门上且可横向和竖向运动，曝光装置设置于龙门上且可横向和竖向运动，第一移动台可纵向运动地设置于底座通过设置两个能够独立运动的第一移动台和第二移动台，当第一移动台上的基板在曝光区进行对位曝光的时候，第二移动台上的基板能够在待检区进行收放基板，第一移动台和第二移动台交替曝光，可以极大地减少光刻机各系统的工作的空闲时间,从而可以有效地提升光刻机的产能。
- 光刻
- [发明专利]一种光刻机静电检测光罩及检测方法-CN202211708606.1在审
-
王松
-
杭州富芯半导体有限公司
-
2022-12-29
-
2023-03-31
-
G01R31/00
- 本申请提供一种光刻机静电检测光罩及检测方法，光刻机静电检测光罩包括第一极板、第二极板及导电柱，在采用光罩检测机对光刻机静电检测光罩进行第一检测，获取关于光刻机静电检测光罩的第一检测信息后，于待检测的光刻机中，以光刻机静电检测光罩作为掩膜版进行光刻流程，再采用光罩检测机，对光刻机静电检测光罩进行第二检测，以获取关于光刻机静电检测光罩的第二检测信息，从而通过对第一检测信息及第二检测信息的对比，即可判定光刻机的静电状态，以检测光刻机是否产生静电放电的问题，从而通过对光刻机的调整，可避免对晶圆及光罩的损伤，以节约财力及物力。
- 一种光刻静电检测方法
|
