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[发明专利]动态气体隔离装置及光刻设备-CN202310822085.0在审
发明人：高梓翔;吴晓斌;王魁波;罗艳;沙鹏飞;韩晓泉;谢婉露;李慧;张良乐 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2023-07-05 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种动态气体隔离装置及光刻设备，涉及光刻技术领域。动态气体隔离装置用于连接于光刻设备的第一工作腔室和第二工作腔室之间，其包括主管道、第一进气组件、第二进气组件以及温度控制组件。主管道两端分别连接第一工作腔室和第二工作腔室；第一进气组件和第二进气组件均连接于主管道；由进入到主管道内的第一清洁气体和第二清洁气体通过气体分子间的碰撞来抑制污染物在第一工作腔室和第二工作腔室间的流通；同时，通过温度控制组件对第二进气组件的进气温度进行控制，使得第一清洁气体与第二清洁气体进行混合冷却后再进入到第二腔室内，避免气体温度过高而导致衬底升温，进而防止产生套刻误差，保证了芯片的制造质量和可靠性。
动态气体隔离装置光刻设备

[发明专利]一种掩模版相位型缺陷识别方法、装置、设备及介质-CN202210356724.4在审
发明人：马赫;吴晓斌;韩晓泉;季艺雯;谭芳蕊;王魁波;沙鹏飞;李慧;罗艳;谢婉露;马翔宇;孙家政;户权 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-04-06 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本公开涉及一种掩模版相位型缺陷识别方法、装置、设备及介质，所述方法包括：采集掩模版相位型缺陷的光场反射幅值分布，将所述光场反射幅值分布转换为掩模缺陷的空间像样本数据；将所述空间像样本数据按照预设比例分为空间像样本数据训练集、空间像样本数据测试集；对所述空间像样本数据训练集进行缺陷类型标定；对所述缺陷类型标定的结果和所述空间像样本数据训练集的对应关系进行训练，以搭建缺陷识别模型；将所述空间像样本数据测试集输入所述缺陷识别模型得到缺陷识别结果。
一种模版相位缺陷识别方法装置设备介质

[发明专利]一种带有定位装置的翻转印章-CN202310968938.1在审
发明人： 沙鹏飞;喻平;向德强;柯宇;张鸿彬;赵春洪 -专利权人：中国电建集团重庆工程有限公司
申请日： 2023-08-01 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： B41K1/02 文献下载
摘要：本申请公开一种带有定位装置的翻转印章。带有定位装置的翻转印章包括翻转印章和激光定位装置。翻转印章包括印章本体以及套筒，印章本体可活动地设置于套筒内，以在第一位置和第二位置切换；印章本体被配置为在第一位置时，印章本体的正面朝向套筒的开口；印章本体被配置为在第二位置时，印章本体的背面朝向套筒的开口。激光定位装置，设置于印章本体的背面，用于投影预设图案，预设图案对应于印章本体的正面的图案。带有定位装置的翻转印章采用投影技术将印章的图案等比例投影至资料上，可以直观地查看到印章盖在资料上的位置，由此可根据投影的印章图案精确定位印章的位置，偏转角度等，从而使所有资料印章位置统一、端正、合规且美观。
一种带有定位装置翻转印章

[实用新型]一种管口防火封堵工具-CN202321324550.X有效
发明人： 沙鹏飞;喻平;向德强;黄俊译 -专利权人：中国电建集团重庆工程有限公司
申请日： 2023-05-29 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： H02G3/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种管口防火封堵工具，涉及电力设备技术领域，包括电缆保护套，所述电缆保护套的内壁安装有电缆本体，所述电缆保护套的表面套有若干个管口外卡足，若干个管口外卡足的上表面均固定连接有泥挡，若干个所述管口外卡足靠近电缆本体的一侧均固定连接有泥承，所述泥承远离泥挡的一侧固定连接有管口内卡足。在安装管口防火封堵工具时，首先移动管口外卡足和管口内卡足靠近电缆保护套，使得泥承和泥挡安装在电缆保护套上，此时托臂安装在电缆本体的表面，通过设置管口外卡足和管口内卡足使得泥挡可以安装在电缆保护套上，通过泥挡可以防止防火泥从外管壁滑落，通过泥承使得托臂可以安装到电缆保护套上，托臂可以对防火泥起到支撑作用。
一种管口防火封堵工具

[发明专利]一种用于光刻设备的温度控制装置及方法-CN202210212241.7在审
发明人：王魁波;孙家政;吴晓斌;丁金滨;罗艳;谢婉露;沙鹏飞;韩晓泉;马赫;谭芳蕊 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-03-04 - 公布日： 2023-09-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于光刻设备的温度控制装置及方法，属于光刻设备技术领域，解决的技术问题是在实现对硅片表面温度变化有效控制的前提下、避免引入线缆带来的环境污染问题。本发明包括：动态气体隔离装置、气体温度控制装置和高纯气源；所述气体温度控制装置和高纯气源设置在光刻设备的光刻设备主基板的外侧；所述动态气体隔离装置上设置清洁气体流动管道；所述清洁气体流动管道一端连接气体温度控制装置，另一端连接光刻设备内部；所述气体温度控制装置与高纯气源连接，且能够对高纯气源中存储的高纯清洁气体进行温度控制，本发明通过低温的高纯清洁气体对硅片进行温度控制，同时减少了污染。
一种用于光刻设备温度控制装置方法

[发明专利]载片系统及物料传递方法-CN202010930845.6有效
发明人：王魁波;吴晓斌;谢婉露;罗艳;沙鹏飞;韩晓泉 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2020-09-07 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请涉及一种载片系统及物料传递方法，载片系统包括腔室、充气装置、抽气装置和温度调节装置，腔室包括依次连通的大气腔、载片腔和工艺腔，大气腔与载片腔之间设置有第一物料阀，载片腔与工艺腔之间设置有第二物料阀；大气腔的内部设置为大气压环境，工艺腔的内部设置为真空环境；充气装置与载片腔连通，充气装置用于对载片腔充气以使载片腔的内部形成大气压环境；抽气装置与载片腔连通，抽气装置用于对载片腔抽气以使载片腔的内部形成真空环境；温度调节装置与载片腔连通以调节载片腔内的温度。本申请通过控制载片腔的气压环境和温度，以载片腔作为过渡腔，实现了物料在大气腔与工艺腔之间的传递，保证了工艺腔的清洁度和物料温度的稳定性。
系统物料传递方法

[发明专利]极紫外光学元件的微环境控制系统-CN202010929526.3有效
发明人：王魁波;吴晓斌;罗艳;谢婉露;韩晓泉;沙鹏飞 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2020-09-07 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请具体涉及一种极紫外光学元件的微环境控制系统，包括用于放置光学元件的真空室、分流辐射器和供气设备，分流辐射器设置在真空室内且位于光学元件上方，分流辐射器的底板朝向光学元件的反射面，分流辐射器的内部具有空腔，分流辐射器上设置有与空腔连通的进气口和多个出气口，多个出气口设置底板上；分流辐射器上设置有供光线通过的通光孔，通光孔与空腔之间不连通；供气设备包括高纯气源、供气管路和降温装置，供气管路的两端分别与高纯气源和进气口连通，降温装置设置在供气管路上以降低供气管路中的气体的温度，本申请提出的极紫外光学元件的微环境控制系统能够降低光学元件的温度，防止光学元件变形，能减少光学元件周围的污染物气体。
紫外光学元件环境控制系统

[发明专利]光刻机气压控制及监测系统、方法和光刻机-CN202111417683.7有效
发明人：王魁波;吴晓斌;罗艳;谢婉露;沙鹏飞;李慧;韩晓泉 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2021-11-25 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于光刻机技术领域，具体涉及一种光刻机及其气压控制及监测系统和方法，光刻机气压控制及监测系统包括全量程真空规组件、薄膜真空规组件和真空泵组。全量程真空规组件包括分别设置于主腔室、硅片台腔室、硅片传输腔室和掩模传输腔室的全量程真空规；薄膜真空规组件包括分别设置于主腔室、照明光学腔室、投影光学腔室、硅片台腔室、硅片传输腔室和掩模传输腔室的薄膜真空规；真空泵组包括主腔室真空泵、硅片台腔室真空泵、硅片传输腔室真空泵和掩膜传输腔室真空泵。本发明的光刻机气压控制及监测系统能够对光刻机的整个工作过程进行实时监测，并且能够在工艺操作期间精确地测量各个腔室的工艺气压。
光刻气压控制监测系统方法

[发明专利]光刻机的污染控制系统、方法和光刻机-CN202111417648.5有效
发明人：王魁波;吴晓斌;沙鹏飞;罗艳;谢婉露;李慧;韩晓泉 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2021-11-25 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于光刻机技术领域，具体涉及一种光刻机及其污染控制系统和方法，光刻机的污染控制系统包括高纯清洁气源、纯化器、照明光学腔室气体装置、主腔室气体装置、投影光学腔室气体装置、硅片台腔室气体装置和真空泵组，各个气体装置分别包括各自的流量控制器和配气管道，各配气管道包括多个管道支路，用于对经由各自的流量控制器输送至相应腔室的清洁工艺气体进行分配。本发明的光刻机的污染控制系统能够调节输送至各个腔室的工艺气体流量，使得各个腔室形成合适的气压梯度，并通过真空泵组从相应腔室抽气，使光刻机内部形成工艺气流场，从而将污染物排出到光刻机外部。
光刻污染控制系统方法

[发明专利]掩模缺陷检测系统-CN202310208697.0在审
发明人： 沙鹏飞;吴晓斌;王魁波;谢婉露;户权;韩晓泉;李慧;罗艳;马赫;谭芳蕊;尹皓玉 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2023-03-06 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G01N21/956 文献下载
摘要：本发明提供一种掩模缺陷检测系统，包括：光源，所述光源用于发射入射光场；聚焦组件，所述聚焦组件用于所述入射光场聚焦；掩膜，所述掩膜的检测面位于所述入射光场的焦点上，所述检测面设有缺陷，所述入射光场经所述检测面反射并形成反射光场，所述入射光场经所述缺陷反射并形成散射光场；明场成像波带片、暗场成像波带片，所述明场成像波带片和所述暗场成像波带片中的其中一者设于所述反射光场和所述散射光场的照射路径上，以用于使所述反射光场和所述散射光场照射于所述明场成像波带片和所述暗场成像波带片中的其中一者。根据本发明提供的掩模缺陷检测系统，很好地解决了现有掩模缺陷检测系统无法兼顾快速扫描和精确扫描的问题。
缺陷检测系统

[发明专利]光刻机准分子激光器的信号转接单元-CN202010243270.0有效
发明人：廖密;冯泽斌;张华;张琴;王香;黄立杰;马天龙;沙鹏飞 -专利权人：北京科益虹源光电技术有限公司
申请日： 2020-03-31 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请涉及光刻领域，具体涉及一种光刻机准分子激光器的信号转接单元。包括：气体放电管、第一TVS管、自恢复保险丝、第二TVS管、数字信号隔离芯片。本申请通过气体放电管、第一TVS管将光刻机的信号中的干扰信号电压限制在固定范围之内进行第一层防护，通过自恢复保险丝当干扰信号电流过大时断开电流变小时恢复及第二TVS管将干扰信号的电压限制为目标电压值进行第二层防护，通过数字信号隔离芯片将信号转接单元与工控机之间的控制信号进行分开进行第三层防护，能够有效抑制外部光刻机传输过来的较大静电、浪涌等干扰信号，实现准分子激光器信号转接功能的同时，还能够有效减少外部的干扰，保护准分子激光器中的其他硬件单元。
光刻准分子激光信号转接单元

[发明专利]极紫外掩模的缺陷检测方法、装置、设备及介质-CN202210499810.0在审
发明人：季艺雯;韩晓泉;吴晓斌;马赫;谢婉露;沙鹏飞;王魁波;罗艳;李慧;谭芳蕊 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2022-05-09 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明涉及极紫外光刻掩模技术领域，公开了一种极紫外掩模的缺陷检测方法、装置、设备及介质，包括：获取待检测极紫外掩模的目标空间像，其中目标空间像是离焦图像；确定目标空间像与模板图像的匹配度；模板图像是具有预设缺陷的极紫外掩模的空间像；根据匹配度，确定待检测极紫外掩模的缺陷检测结果。本发明可准确检测极紫外光刻掩模多层膜相位型缺陷形貌。
紫外缺陷检测方法装置设备介质

[发明专利]一种多效协同阻燃型多元醇组合物-CN202111381269.5有效
发明人：束影;周培;沙鹏飞 -专利权人：扬州工业职业技术学院
申请日： 2021-11-20 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： C08G18/66 文献下载
摘要：本案涉及一种多效协同阻燃型多元醇组合物，按质量百分比计包括20～50％的磷‑氮多元醇、10～20％硅‑硼阻燃剂以及余量的聚酯多元醇；其中，所述磷‑氮多元醇的结构式如下所示：所述硅‑硼阻燃剂的制备过程为：将硅藻土粉分散于去离子水中，分散均匀后加入适量表面活性剂，之后加入一定质量的硼酸，边搅拌边加入，于50～60℃脱水干燥，之后煅烧得到含硼硅藻土粉。本发明得到的多元醇组合物之间具有高效协同作用，是一种反应型阻燃剂，可通过化学键合的方式与异氰酸酯直接反应从而制得阻燃聚氨酯材料；不存在阻燃组分迁移析出的问题；相容性好，可用于制备聚氨酯泡沫、聚氨酯密封胶、热塑性聚氨酯弹性体等多种用途的聚氨酯材料。
一种协同阻燃多元组合

[发明专利]一种掩模缺陷检测方法及装置、计算机设备、存储介质-CN202111089147.9在审
发明人：季艺雯;韩晓泉;吴晓斌;马赫;谢婉露;沙鹏飞;王魁波;罗艳;李慧 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2021-09-16 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明公开一种掩模缺陷检测方法及装置、计算机设备、存储介质，其中缺陷检测方法包括如下的步骤。获取待检测掩模的第一图像，对第一图像进行预处理，以得到第二图像，且第二图像的分辨率小于第一图像的分辨率；对第二图像进行感兴趣区域提取处理，以确定疑似缺陷区域；对疑似缺陷区域进行图像分割处理，以确定候选目标区域；然后根据候选目标区域的灰度值确定待检测掩模上存在的缺陷。本发明基于掩模空间像进行图像处理，无需训练大量数据，在所需数据量较小的前提下实现掩模缺陷检测和掩模缺陷位置确定。本发明具有检出率高、检测速度快、位置偏差小、检测精度高及鲁棒性好等突出优点。
一种缺陷检测方法装置计算机设备存储介质

[发明专利]一种213nm激光器-CN202010084352.5有效
发明人：王家赞;江锐;储玉喜;张旭东;沙鹏飞;范元媛 -专利权人：北京科益虹源光电技术有限公司
申请日： 2020-02-10 - 公布日： 2023-02-10 - 主分类号： H01S3/109 文献下载
摘要：本发明公开了一种213nm激光器，包括1064nm激光器、二倍频晶体、四倍频晶体以及五倍频晶体；1064nm激光器、二倍频晶体、四倍频晶体以及五倍频晶体依次连接；1064nm激光器用于产生1064nm激光脉冲；二倍频晶体接收1064nm激光器发出的1064nm激光脉冲，用于将部分1064nm激光转换为532nm倍频光；四倍频晶体将532nm倍频光转换为266nm激光脉冲；五倍频晶体将1064nm激光、266nm激光脉冲转换为213nm激光。213nm激光器可以避免二倍频光和三倍频光进行和频产生213nm激光脉冲过程中偏振需要转换的问题。
一种 213 nm 激光器

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