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- [发明专利]一种辅助图形的添加方法-CN201611259536.0有效
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胡红梅
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上海集成电路研发中心有限公司
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2016-12-30
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2019-10-25
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G03F1/36
- 本发明提供了一种辅助图形的添加方法,包括:提供一OPC目标图形,根据辅助图形基准规则,选取其中只能加入一根辅助图形部分的规则,建立辅助图形额外规则;把目标图形整体进行放大,使目标图形的所有边向外扩展A距离;基于辅助图形额外规则,将该辅助图形额外规则中相应目标图形之间的距离值减去2A;并且,基于A距离,将辅助图形额外规则中因目标图形整体放大而受到影响的其他参数进行相应调整;运行辅助图形额外规则,生成第一辅助图形;以第一辅助图形作为新增的参考图形,对目标图形执行辅助图形基准规则,生成第二辅助图形;将第一辅助图形,第二辅助图形和其它已有辅助图形叠加构成最终的辅助图形。
- 辅助图形目标图形基准规则放大减去叠加参考
- [发明专利]一种多尺度图形识别方法及系统-CN202110634739.8在审
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汪知礼
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汪知礼
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2021-06-08
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2021-08-13
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G06T5/50
- 本发明涉及一种图形识别的技术领域,公开了一种多尺度图形识别方法,包括:获取待识别图形,将待识别图形转换为图形灰度图,并利用局部最大类间方差法对图形灰度图进行二值化处理,得到二值化图形;利用自适应图形增强算法对二值化图形进行细节增强处理;利用图形分解算法对细节增强后的图形进行分解处理,将图形的轮廓和纹理尺度信息分解到不同的图形;利用多尺度融合算法将不同尺度的图形进行融合处理,得到融合后的图形;将融合后的图形作为图形识别模型的输入,利用图形识别模型对融合后的图形进行图形识别本发明还提供了一种多尺度图形识别系统。本发明实现了多尺度的图形识别。
- 一种尺度图形识别方法系统
- [发明专利]光学邻近修正方法和装置-CN202310625840.6在审
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陈世言
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长鑫存储技术有限公司
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2023-05-30
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2023-06-30
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G03F1/36
- 该方法包括:在原始图形中分别利用第一光学辅助图形形成方式和第二光学辅助图形形成方式形成第一光学辅助图形和第二光学辅助图形;确定在原始图形中存在异常光学辅助图形,异常光学辅助图形是由第一光学辅助图形和第二光学辅助图形形成的,异常光学辅助图形是指能够在基板上形成曝光图形的光学辅助图形;对异常光学辅助图形处理,获得包括目标光学辅助图形和原始图形的目标图形,目标光学辅助图形是指不会在基板上形成曝光图形的光学辅助图形。本公开实施例的方法能够提高所需目标图形的准确性。
- 光学邻近修正方法装置
- [发明专利]目标版图优化方法-CN202211343908.3在审
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何大权;魏芳;陈翰;张辰明
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上海华力微电子有限公司
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2022-10-31
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2023-01-31
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G03F1/36
- 本发明提供了一种目标版图优化方法,包括:对第一金属层图形使用标准模型进行OPC修正得到第一OPC图形;对第一OPC图形使用工艺窗口模型模拟得到模拟图形,并从中标记出桥接图形和断线图形;选择第一金属层和桥接图形接触的第一图形边并移动第一距离得到第二金属层图形;选择第二金属层图形与断线图形接触的第二图形边并移动第二距离得到第一目标图形;选择第一目标图形与桥接图形接触的第三图形边并向图形内部方向移动第一距离,得到第三金属层图形;选择第三金属层图形与断线图形接触的第四图形边并向图形外部方向移动第二距离,得到第二目标图形;对第二目标图形基于标准模型和工艺窗口模型进行OPC修正,得到第二OPC图形。
- 目标版图优化方法
- [发明专利]半导体器件版图结构-CN202310692640.2有效
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张振;陈星;王焕琛
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合肥晶合集成电路股份有限公司
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2023-06-13
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2023-08-18
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G06F30/392
- 本发明提供一种半导体器件版图结构,包括第一互连图形层、第二互连图形层至第n互连图形层,第一互连图形层包括位于冗余图形区的至少两个第一冗余金属图形、第三冗余金属图形和第四冗余金属图形,第二互连图形层至第n互连图形层均包括位于冗余图形区的至少两个第二冗余金属图形、第三冗余金属图形和第四冗余金属图形;第三冗余金属图形、第四冗余金属图形和第二冗余金属图形的面积均不同,第四冗余金属图形与第二冗余金属图形的形状不同,第四冗余金属图形与第三冗余金属图形的形状不同,可以提高冗余图形区的图形填充率,提高冗余图形区的图形均匀性,由此改善实际半导体器件制备中化学机械研磨的负载效应,避免互连层间短路和互连层表面凹陷。
- 半导体器件版图结构
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