专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种提高抗单粒子性能的埋P+SiCJBS结构-CN202211736852.8在审
  • 程鹏刚;唐磊;王晨霞;王忠芳;刘建军;胡长青;杨晓文;侯斌;李照;王健 - 西安微电子技术研究所
  • 2022-12-30 - 2023-06-23 - H01L23/552
  • 本发明公开了一种提高抗单粒子性能的埋P+SiC JBS结构,包括阴极金属、阳极金属、SiC N+衬底、N型缓冲层、N‑外延层、P+埋层和JBS接触P+,所述SiC N+衬底的上方设置N型缓冲层和N‑外延层,所述N‑外延层的上方连接JBS接触P+,其中,所述JBS接触P+设置在阴极金属和N‑外延层之间,所述N‑外延层和SiC N+衬底之间设置N型缓冲层,所述SiC N+衬底的下方设置阴极金属,所述JBS接触P+的上方连接设置阳极金属,所述N‑外延层和JBS接触P+之间设置P+埋层。通过改进SiC JBS结构,保证原有SiC JBS结构正向压降低、反向漏电小的优点,同时,能够保证在单粒子辐照时,减少空穴向阳极金属的收集和电子向阴极金属的收集,并且防止漏电过大和烧毁。
  • 一种提高粒子性能sicjbs结构
  • [发明专利]新型功率半导体集成器件-CN201110261260.0有效
  • 盛况 - 盛况
  • 2011-09-06 - 2011-12-07 - H01L27/07
  • 它将两个分立的半导体器件JFET与JBS集成于一块芯片上,形成一块新型半导体器件,在功能上等同于JFET与JBS并联连接,大大减小模块封装体积及成本。而且利用JFET和JBS工艺的高度兼容性,同时实现这两种器件,在一个单芯片和同一套工艺中实现两种器件。P+的注入工艺同时提供了JFET的栅极结构和JBS的P型电场阻断结构部分;JBS的阳极、JFET的源极和栅极金属电极都可以由一次淀积工艺完成。
  • 新型功率半导体集成器件
  • [实用新型]新型功率半导体集成器件-CN201120104613.1无效
  • 盛况 - 盛况
  • 2011-04-12 - 2011-10-05 - H01L27/10
  • 它将两个分立的半导体器件JFET与JBS集成于一块芯片上,形成一块新型半导体器件,在功能上等同于JFET与JBS并联连接,大大减小模块封装体积及成本。而且利用JFET和JBS工艺的高度兼容性,同时实现这两种器件,在一个单芯片和同一套工艺中实现两种器件。P+的注入工艺同时提供了JFET的栅极结构和JBS的P型电场阻断结构部分;JBS的阳极、JFET的源极和栅极金属电极都可以由一次淀积工艺完成。
  • 新型功率半导体集成器件
  • [发明专利]一种SiC JBS器件的布局方法-CN201811453239.9在审
  • 杨霏;张文婷;田丽欣;夏经华;吴沛飞 - 全球能源互联网研究院有限公司
  • 2018-11-30 - 2020-06-09 - H01L29/872
  • 本发明提供了一种SiC JBS器件的布局方法,包括:在碳化硅衬底的晶面上生长外延层,并在所述外延层上划分矩形结构的有源区;在所述有源区周边布置终端保护区,在所述有源区内布置多个P型区,且所述多个P型区呈多行多列交错排列,将离子注入每个P型区,在各P型区之间布置肖特基接触区;在碳化硅衬底背面淀积欧姆接触金属层生成SiC JBS器件。本发明在SiC JBS器件中布局了多个P型区呈多行多列交错排列,保证了SiC JBS器件的反向击穿特性的同时增加了肖特基势垒区域面积,提高了导通能力。
  • 一种sicjbs器件布局方法
  • [发明专利]一种多沟槽型碳化硅JBS器件及其制备方法-CN202210454383.4有效
  • 张益鸣;刘杰 - 深圳芯能半导体技术有限公司
  • 2022-04-24 - 2022-07-19 - H01L29/872
  • 本发明属于功率器件技术领域,提供了一种多沟槽型碳化硅JBS器件及其制备方法,多沟槽型碳化硅JBS器件包括:碳化硅衬底、碳化硅外延层、肖特基沟槽、注入沟槽、PN结注入掺杂区以及金属层,其中,注入沟槽和肖特基沟槽设置于碳化硅外延层上,肖特基沟槽设于相邻的注入沟槽之间,且注入沟槽的深度大于肖特基沟槽的深度;PN结注入掺杂区设于注入沟槽内,金属层在肖特基沟槽内与碳化硅外延层之间形成肖特基接触,该多沟槽型碳化硅JBS器件在横向尺寸不变的情况下提升肖特基结面积,有效提升了电流密度,同时降低了器件的漏电流,解决现有的沟槽结构多沟槽型碳化硅JBS器件存在的稳定性较差的问题。
  • 一种沟槽碳化硅jbs器件及其制备方法
  • [实用新型]一种高速雷达装置-CN202123456763.1有效
  • 马凌超;张佳一;王建军 - 杭州瑞盟科技股份有限公司
  • 2021-12-31 - 2022-06-14 - G01S17/02
  • 本申请公开了一种高速雷达装置,包括:FPGA1和与所述FPGA1连接的MS1004芯片组2;所述MS1004芯片组2中的每个MS1004芯片通过SPI接口与所述FPGA1连接,所述MS1004芯片的EN_START管脚与所述FPGA1连接;所述FPGA1的脉冲输出端与所述MS1004芯片的START管脚、STOP1管脚和STOP2管脚连接;所述MS1004芯片的RSTN管脚与所述FPGA1连接,用于接收FPGA1发送的接收复位信号;所述MS1004芯片的INTN管脚与所述FPGA1连接,以便FPGA1根据INTN管脚的信号进行读操作;所述MS1004芯片的SSN管脚、SCK管脚、MISO管脚和MOSI管脚作为四线中断与所述本申请利用MS1004配合FPGA1搭建雷达装置,利用MS1004精度高、速度快和测量范围大等特点,构建了具备精度高、速度快和测量范围大等特点的雷达装置。
  • 一种高速雷达装置

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