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[发明专利]图像传感器、处理系统及方法、电子设备和存储介质-CN202010233813.0有效
发明人：杨鑫 -专利权人： OPPO广东移动通信有限公司
申请日： 2020-03-30 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： H04N5/225 文献下载
摘要：本申请公开了一种图像传感器、高动态范围图像处理系统及方法、电子设备和计算机可读存储介质。高动态范围图像处理系统包括图像传感器、彩色高动态融合单元和图像处理器。当图像传感器中的像素阵列曝光时，同一子单元中至少一个单颜色感光像素以第一曝光时间曝光，至少一个单颜色感光像素以小于第一曝光时间的第二曝光时间曝光，至少一个全色感光像素以小于或等于第一曝光时间的第三曝光时间曝光，至少一个全色感光像素以小于第一曝光时间的第四曝光时间曝光。彩色高动态融合单元和图像处理器用于对第一彩色原始图像、第二彩色原始图像和全色原始图像进行高动态范围处理、图像处理和融合算法处理得到目标图像。
图像传感器处理系统方法电子设备存储介质

[发明专利]光刻设备、转移衬底的方法和器件制造方法-CN201911298755.3在审
发明人： A·A·范伯兹康;J·A·M·阿尔贝蒂;H·M·塞热;R·范德含;F·法尼;R·奥利斯拉格斯;G·彼得斯;C·M·诺普斯;P·范德艾登;P·范栋恩;B·威廉 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-05-12 - 公布日： 2020-03-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备包括：衬底台、曝光后处理模块、衬底处理机器人及干燥站。所述衬底台被配置成支撑衬底用于曝光过程。所述曝光后处理模块是用于在曝光后处理所述衬底。所述衬底处理机器人被配置成将所述衬底从所述衬底台沿着衬底卸载路径转移至所述曝光后处理模块中。所述干燥站被配置成从所述衬底的表面主动地移除液体。所述干燥站定位于所述衬底卸载路径中。所述干燥站定位于所述曝光后处理模组中。所述曝光后处理模块可以是晶片处理器。
光刻设备转移衬底方法器件制造

[发明专利]光刻设备、转移衬底的方法和器件制造方法-CN201580031670.2有效
发明人： A·A·范伯兹康;J·A·M·阿尔贝蒂;H·M·塞热;R·范德含;F·法尼;R·奥利斯拉格斯;G·彼得斯;C·M·诺普斯;P·范德艾登;P·范栋恩;B·威廉 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2015-05-12 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备包括：衬底台、曝光后处理模块、衬底处理机器人及干燥站。所述衬底台被配置成支撑衬底用于曝光过程。所述曝光后处理模块是用于在曝光后处理所述衬底。所述衬底处理机器人被配置成将所述衬底从所述衬底台沿着衬底卸载路径转移至所述曝光后处理模块中。所述干燥站被配置成从所述衬底的表面主动地移除液体。所述干燥站定位于所述衬底卸载路径中。所述干燥站定位于所述曝光后处理模组中。所述曝光后处理模块可以是晶片处理器。
光刻设备转移衬底方法器件制造

[发明专利]基板处理装置-CN201810608818.X有效
发明人：铃木智也;小宫山弘树;加藤正纪;渡边智行;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;木内彻 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2014-06-25 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
处理装置

[发明专利]图像处理芯片、应用处理芯片、电子设备及图像处理方法-CN202110304163.9在审
发明人：曾玉宝 -专利权人： OPPO广东移动通信有限公司
申请日： 2021-03-22 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种图像处理芯片、应用处理芯片、电子设备及图像处理方法，本申请实施例通过图像处理芯片获取图像采集场景的图像，并根据图像获取曝光状态信息，根据曝光状态信息获取应用处理芯片计算曝光参数所需的目标数据，以使得应用处理芯片在启动摄像头进行图像采集时，根据目标数据计算得到曝光参数并根据曝光参数控制摄像头进行图像采集。当本申请实施例应用在电子设备上时，可以在图像采集前，通过图像处理芯片获取计算曝光参数所需的目标数据，在图像采集时，应用处理芯片根据目标数据计算得到曝光参数，并控制摄像头根据曝光参数进行图像采集，有效地提高图像采集中曝光控制的速度
图像处理芯片应用电子设备方法

[发明专利]胶片显影装置-CN94100037.0无效
发明人：西田茂树;谷端透 -专利权人：诺日士钢机株式会社
申请日： 1994-01-07 - 公布日： 1997-10-01 - 主分类号： G03D3/00 文献下载
摘要：胶片显影装置，其组成包括可进行与控制条上所施行条件相同规定条件构成的基准曝光的曝光部、已基准曝光胶片用的显影处理输送线、作显影处理后密度测定的密度计及根据测定结果提示处理液状态的构件。基准曝光以基准曝光专用的未曝光胶片和已拍摄胶片的未曝光部分为对象。设有多种密度计测定条件和基准曝光条件，并备有读取胶片类型的构件以适应各种胶片。具有简便进行处理液体管理的构件，显影处理简化且质量提高。
胶片显影装置

[发明专利]衬底处理方法、程序、计算机可读的记录介质以及衬底处理系统-CN200780028110.7有效
发明人：山田善章;山口忠之;山本雄一;杂贺康仁 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2007-07-19 - 公布日： 2009-07-29 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：在本发明中，将在其上已经形成了抗蚀剂膜的衬底转移到光刻机并经受曝光处理。该衬底然后在第二处理系统中经受曝光后烘。然后再将该衬底转移到光刻机并经受曝光处理。已经完成了第二次曝光处理的衬底被转移到第一处理系统并再次经受曝光后烘。第一次和第二次的从曝光处理的结束到曝光后烘的开始之间的时间被控制为相等。根据本发明，在其中抗蚀剂膜形成处理与显影操作之间执行多次曝光处理的图形形成处理中，最终能够形成具有期望尺寸的图形。
衬底处理方法程序计算机可读记录介质以及系统

[发明专利]基板处理方法、基板处理系统以及基板处理装置-CN200710101081.4无效
发明人：金山幸司;茂森和士;金冈雅;宫城聪;安田周一 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2007-04-26 - 公布日： 2007-10-31 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种能降低在曝光装置内的载物台等机构的污染的基板处理方法、基板处理系统以及基板处理装置。将仿真基板向在曝光前后进行抗蚀剂涂布处理和显影处理的基板处理装置搬送，其中仿真基板在校准处理中使用，而该校准处理是在对应于液浸曝光的曝光单元中调整图案图像的曝光位置的处理。在基板处理装置中，将接受到的仿真基板表面和背面反转，然后将其搬送到背面清洗处理单元中执行背面清洗处理。其后再次将仿真基板表面和背面反转，然后将其搬送到表面清洗处理单元而执行表面清洗处理。清洗后的仿真基板再次从基板处理装置返回到曝光单元中。由于能够在曝光单元侧使用清洁的仿真基板执行校准处理，因此能够降低基板载物台等曝光单元内的机构的污染。
处理方法系统以及装置

[发明专利]多目摄像机及其曝光方法-CN201511028574.0在审
发明人：付昕军;李国栋;王三勇 -专利权人：深圳市华途数字技术有限公司
申请日： 2015-12-31 - 公布日： 2016-03-23 - 主分类号： H04N5/232 文献下载
摘要：本发明提供了一种多目摄像机及其曝光方法，其中多目摄像机包括至少两个图像处理模块，图像处理模块将获取到的图像数据经过交换芯片发送给主控芯片。本发明通过设定一图像处理模块为基准模块，将基准模块的曝光模式设置为自动曝光，将其余图像处理模块的曝光模式设置为手动曝光，主控芯片获取基准模块的自动曝光值，并将所述曝光值通过交换芯片发送给其余图像处理模块使其以所述曝光值曝光的方式，使得多目摄像机中每一个图像处理模块都以一个统一的曝光值曝光，解决了多目摄像机获得的整体图像融合效果不理想的问题，使得使用多目摄像机依然可以获得很好的整体图像融合效果。
摄像机及其曝光方法

[实用新型]一种曝光电路-CN201620946582.7有效
发明人：王艳侠;洪晖潞;陈树毅 -专利权人：杭州海康威视数字技术股份有限公司
申请日： 2016-08-24 - 公布日： 2017-02-08 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本实用新型实施方案提供了一种曝光电路，该曝光电路中至少包括一个用于进行长曝光的第一像素电路和一个用于进行短曝光的第二像素电路；每个第一像素电路与图像处理器相连，接收图像处理器发送的长曝光复位信号进行长曝光；每个第二像素电路与所述图像处理器相连，接收图像处理器发送的短曝光复位信号进行短曝光，该每个第一像素电路和每个第二像素电路可以同时进行曝光。应用本实用新型实施例以减少两次曝光之间的时间差。
一种曝光电路

[发明专利]处理基板的设备和方法-CN201010103502.9有效
发明人：金东浩;崔晋荣;高在昇;卢亨来 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2010-02-01 - 公布日： 2010-08-25 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供了处理基板的设备和方法。所述设备包括：在一个方向顺序设置的装载端口，移送模块，第一缓冲模块，涂覆/显影模块，第二缓冲模块，预曝光/后曝光处理模块，接口模块。所述预曝光/后曝光处理模块包括：设置在不同层的预处理模块和后处理模块。在曝光工艺前，所述预处理模块在晶片上涂覆保护层。所述后处理模块在曝光工艺后执行晶片清洗工艺和后曝光烘焙工艺。用于传送晶片的机械手设置在每个预处理模块和后处理模块中。
处理设备方法

[发明专利]图像处理方法、装置、电子设备及存储介质-CN202111199534.8有效
发明人：从勇 -专利权人：爱芯元智半导体（上海）有限公司
申请日： 2021-10-14 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H04N23/76 文献下载
摘要：本申请提供一种图像处理方法、装置、电子设备和存储介质，其中，方法包括：获取行交织信号，并根据所述行交织信号的行信号逐行曝光，生成不同曝光帧各自的单行帧；将所述不同曝光帧的全部所述单行帧进行组合，生成待处理组合帧；对所述待处理组合帧进行图像处理，生成所述每个曝光帧对应的目标帧。本申请中，基于时分复用技术实现了行交织信号的生成和提取，通过对不同曝光帧的组合处理，使得图像处理器可以同时处理多个曝光帧，有效减少了图像处理器的通路占用，节约了对曝光帧进行图像处理的资源消耗。
图像处理方法装置电子设备存储介质

[发明专利]图像处理方法、智能终端及存储介质-CN202310405325.7有效
发明人：明安龙;张志宇;何帅;康学净;马华东 -专利权人：北京邮电大学
申请日： 2023-04-17 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本申请提供了一种图像处理方法、智能终端及存储介质，该方法获取待处理图像；将待处理图像输入至预设像素级评估模型，通过预设像素级评估模型的输出结果确定待处理图像的像素级曝光程度信息，其中，预设像素级评估模型通过第一图像样本和第一图像样本对应的标注像素级曝光程度信息训练得到；将待处理图像和待处理图像的曝光程度信息输入至预设整体曝光评估模型，通过整体曝光评估模型的输出结果确定待处理图像的整体曝光效果信息，其中，预设整体曝光评估模型通过第二图像样本、第二图像样本对应的标注像素级曝光程度信息和第二图像样本对应的标注整体曝光效果信息训练得到
图像处理方法智能终端存储介质

[发明专利]基板处理方法、基板处理装置和半导体器件的制造方法-CN200710004308.3无效
发明人：盐原英志;松永健太郎;河村大辅;竹石知之;早崎圭;伊藤信一 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2007-01-22 - 公布日： 2007-07-25 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种基板处理方法，包括：在供于使液体介于要实施曝光处理的被处理基板与进行上述曝光处理的曝光装置的投影光学系统之间并且进行上述曝光处理的液浸曝光的上述被处理基板的要实施上述曝光处理的一侧的第1主面上设置抗蚀剂膜之前，至少对与上述第1主面相反侧的第2主面之中从周边部分开始的规定范围内的区域选择地实施疏水化处理。
处理方法装置半导体器件制造

[发明专利]衬底处理方法、衬底处理系统及衬底处理设备-CN200610172775.2无效
发明人：茂森和士;金山幸司;金冈雅;宫城聪;安田周一 -专利权人：株式会社迅动
申请日： 2006-12-26 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理方法、衬底处理系统及衬底处理设备。其中，在与液浸曝光兼容的曝光装置中紧接在用于调整图案图像的曝光位置的对准处理之前或之后，将用于对准处理的虚设衬底从曝光装置传输到衬底处理设备。在衬底处理设备中，清洗处理装置清洗并干燥接收到的虚设衬底。将已清洗的虚设衬底从衬底处理设备传输回曝光装置。在曝光装置中使用清洁的虚设衬底执行对准处理，减少了曝光装置中机构如衬底台的污染。当虚设衬底具有斥水性时，在衬底处理设备中进行清洗使虚设衬底的斥水性恢复。
衬底处理方法系统设备