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[发明专利]一种光刻机曝光控制方法以及光刻机、控制装置、存储介质-CN202310821998.0在审
发明人：陈超;涂先勤;林垂真;王鹏;蔡自立;零萍;敦士军 -专利权人：中山新诺科技股份有限公司
申请日： 2023-07-05 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种光刻机曝光控制方法以及光刻机、控制装置、存储介质，根据线路轨迹信息控制光刻发射模组偏摆，通过调节所述光刻发射模组的光线出射方向在晶圆表面曝光出线路图案层；所述通过调节所述光刻发射模组的光线出射方向在晶圆表面曝光出线路图案层包括：计算当前所述光线出射方向与基准方向之间的当前偏向角度θ，其中，所述基准方向为所述光刻发射模组正对所述晶圆表面的方向；根据当前偏向角度处理出当前曝光时间；控制所述光刻发射模组对当前照射位置进行曝光处理，并且曝光处理的时间为当前曝光时间；本设计能够均衡晶圆表面各个位置的曝光效果，提高芯片的成品质量。
一种光刻曝光控制方法以及装置存储介质

[发明专利]电子束曝光方法、电子束光刻方法及金属线条制备方法-CN201810847149.1有效
发明人：韩婷婷;冯志红;吕元杰;敦少博;顾国栋 -专利权人：中国电子科技集团公司第十三研究所
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明适用于半导体技术领域，提供了一种电子束曝光方法、电子束光刻方法及金属线条制备方法。电子束曝光方法包括：根据第一版图图形对基片进行第一电子束曝光处理；根据第二版图图形对所述基片进行第二电子束曝光处理，其中，所述第二版图图形是所述第一版图图形沿第一版图图形中的线条长度方向平移预设距离得到的本发明经过两次曝光处理，两次曝光的效果叠加避免了束斑拼接处由于能量不足导致的断点，使得整个图形均匀曝光。并且，不需要增加曝光剂量，能够保证较小的线条尺寸。
电子束曝光方法电子束光刻金属线条制备

[发明专利]互补金属氧化物半导体图像传感器的数字图像处理方法及装置-CN200710303992.5无效
发明人：谢律 -专利权人：北京中星微电子有限公司
申请日： 2007-12-24 - 公布日： 2008-05-21 - 主分类号： H04N5/335 文献下载
摘要：本发明公开了一种互补金属氧化物半导体图像传感器的数字图像处理方法及装置，以解决现有CMOS图像传感器中数字图像处理方法所引起的图像对比度不高的问题。该方法根据预设的曝光时间，将曝光时间设置为多个曝光时间档，在根据设置的曝光时间对像素列阵中预设的部分像素点进行曝光时，每到达一个曝光时间档时，记录该预设部分的像素点的曝光信息；然后对该预设部分的像素点的曝光信息进行数字信息处理
互补金属氧化物半导体图像传感器数字图像处理方法装置

[发明专利]压印设备、压印方法和制造产品的方法-CN201410227985.1有效
发明人：西川原朋史;中川一树 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2014-05-27 - 公布日： 2019-03-01 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于在基片上的多个曝光区域中形成图案的压印设备，所述压印设备包括：加热单元，所述加热单元构造成通过加热基片而使得每一个曝光区域变形；和控制单元，所述控制单元构造成控制加热单元，其中，当根据用于通过加热单元加热在目标曝光区域之前已经经受压印处理的曝光区域的加热控制信息针对作为待经受压印处理的曝光区域的目标曝光区域实施压印处理时，控制单元对加热单元加热基片实施控制，使得因根据控制信息加热基片而已经变形的目标曝光区域的形状接近目标形状。
压印设备方法制造产品

[发明专利]一种非基色单色光图像数据的处理方法及其处理装置-CN201110101912.4有效
发明人：艾民;艾骁宇 -专利权人：艾民;昆明惠翼医疗设备科技开发有限公司
申请日： 2011-04-22 - 公布日： 2011-08-31 - 主分类号： G06T5/00 文献下载
摘要：一种非基色单色光图像数据的处理方法及其处理装置，利用同一像素的色光分量的不同，运用数据处理单元获取高动态范围图像数据，降低图像的噪声，大大提高图像质量；使原来图像中由于超过该色分量传感器信号最大值而过曝光造成数据丢失的数据，可以从欠曝光数据中恢复；而原来由于欠曝光分量中暗的部分的图像数据的噪声大，可以从过曝光相同像素的低噪声图像数据中恢复，提高图像质量；其它部分的图像数据也可以用过曝光，正常曝光，欠曝光的数据平均获得，降低图像的噪声
一种基色单色光图像数据处理方法及其装置

[发明专利]图像处理方法和装置、电子设备、计算机可读存储介质-CN201910529718.2有效
发明人：陈伟 -专利权人： OPPO广东移动通信有限公司
申请日： 2019-06-19 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本申请涉及一种图像处理方法、装置、电子设备、计算机可读存储介质。所述方法包括：控制广角摄像头对广角成像单元进行逐行曝光；当广角摄像头曝光至广角成像单元的目标行时，实时获取广角摄像头对广角成像单元的目标行的曝光时长；当曝光时长达到预设时长时，控制长焦摄像头对长焦成像单元的起始行进行逐行曝光；将广角成像单元经过曝光得到的广角图像和长焦成像单元经过曝光得到的长焦图像进行合成，得到目标图像。上述图像处理方法、装置、电子设备、计算机可读存储介质，可以提高图像处理的准确性。
图像处理方法装置电子设备计算机可读存储介质

[发明专利]单帧双曝光图像宽动态处理方法-CN201010608108.0有效
发明人：何冬晓;陈维强;刘微;邵明欣;隋守鑫 -专利权人：青岛海信网络科技股份有限公司
申请日： 2010-12-28 - 公布日： 2011-05-25 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本发明公开了一种单帧双曝光图像宽动态处理方法，所述的单帧双曝光图像为同时包括长曝光像素块和短曝光像素块的12位原始图像，包括以下步骤：(1)插值计算，为每个像素补齐RGB三个通道的值；(2)宽动态映射，将插值后的图像进行映射压缩；(3)将宽动态映射后的图像分割，得到分别只有长曝光像素和只有短曝光像素的两幅图像；(4)采用亮度分布直方图区间分段法合并所述两幅图像。本发明的单帧双曝光图像的宽动态处理方法合并单帧图像中两种曝光模式的像素，使得每个部分都得到适当的曝光，而且只需处理单帧图像，减小计算量，通过坏点的检测、修正以及图像校正，提高了宽动态图像质量。
单帧双曝光图像动态处理方法

[发明专利]鳍式场效应管的制造方法-CN201610991129.2有效
发明人：易旭东 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请日： 2016-11-08 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：一种鳍式场效应管的制造方法，包括：在基底、鳍部以及栅极上形成光刻胶膜，光刻胶膜顶部高于所述栅极顶部，且曝光区域与非曝光区域的分界线位于相邻栅极之间；对曝光区域的光刻胶膜进行曝光处理；对光刻胶膜进行曝光后烘烤处理，使得第二区域的光酸扩散至非曝光区域中低于栅极顶部的光刻胶膜内；对光刻胶膜进行显影处理，去除曝光区域以及非曝光区域中低于栅极顶部的光刻胶膜，保留位于非曝光区域中高于栅极顶部的光刻胶膜作为光刻胶层；以光刻胶层为掩膜
场效应制造方法

[发明专利]一种线路板用的全自动高速曝光设备及方法-CN202210149720.9有效
发明人：陈志特;王华;何增灿;黄海浩;李钦鸿 -专利权人：广东科视光学技术股份有限公司
申请日： 2022-02-18 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种线路板用的全自动高速曝光设备，包括曝光箱体、上料轨道、出料轨道、曝光装置；曝光灯组件的灯体安装座通过移动机构对应设置在曝光箱体的上下内腔上，灯体安装座一侧的竖直部上转动安装有转盘，转盘的圆心处设置有定位板，转盘远离圆心的位置处设置有销轴，灯体安装座上设置有从动板，从动板上设置有与销轴相适配的长方形的槽体；从动板的中心处等间距安装有连接板，连接板的端部安装有固定曝光灯体的安装板；本发明可以对线路板进行自动化、连续性地曝光处理，以及对线路板的正反两面进行曝光处理，实现了对线路板全自动且高速的曝光处理。
一种线路板全自动高速曝光设备方法

[发明专利]高动态范围图像处理系统及方法、电子设备和可读存储介质-CN202010808125.2有效
发明人：杨鑫 -专利权人： OPPO广东移动通信有限公司
申请日： 2020-08-12 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本申请公开了一种高动态范围图像处理系统及方法、电子设备和可读存储介质。高动态范围图像处理系统包括图像传感器、高动态范围图像处理模块、图像处理器及图像融合模块。图像传感器中的像素阵列曝光，同一子单元中至少一个单颜色感光像素以第一曝光时间曝光，至少一个单颜色感光像素以第二曝光时间曝光，至少一个全色感光像素以第三曝光时间曝光。高动态范围图像处理模块对第一彩色原始图像及第二彩色原始图像进行高动态范围图像处理获得第一彩色高动态范围图像；图像处理器对第一彩色高动态范围图像及第一全色原始图像进行处理获得第二彩色高动态范围图像；图像融合模块对第一彩色高动态范围图像及第二彩色高动态范围图像进行融合获得目标图像
动态范围图像处理系统方法电子设备可读存储介质

[发明专利]相位移光罩残留缺陷处理方法、系统和相位移光罩-CN202010879382.5在审
发明人：萧志伟;查思豪;蔡奇澄;简永浩 -专利权人：泉芯集成电路制造(济南)有限公司
申请日： 2020-08-27 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明提供了一种相位移光罩残留缺陷处理方法、系统和相位移光罩，涉及半导体制造技术领域，本发明采用了局部曝光技术，与现有技术中的重新走一遍制程，并采用全面曝光技术相比，本发明通过对缺陷区域内的光刻胶层进行局部曝光和显影，并使得缺陷位置漏出，然后进行蚀刻，能够精确地对金属缺陷处进行处理，避免了对整片的曝光处理，以减少缺陷处理花费时间，缩短制程流程耗时，同时由于曝光范围小，可以采用激光设备进行局部曝光，避免使用光刻机，减少了光刻机产能的浪费
相位移光罩残留缺陷处理方法系统

[发明专利]探测单元、探测装置及方法-CN202010404733.7在审
发明人：雷述宇 -专利权人：宁波飞芯电子科技有限公司
申请日： 2020-05-14 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： G01S17/08 文献下载
摘要：本申请提供了一种探测像素单元、探测装置及使用该探测装置的探测方法，探测装置包括能够获得N个不同曝光信息的感光模块，所述的N组不同曝光信息中包含曝光持续时间不同的第一曝光时间和第二曝光时间，处理模块接收不同的信号对所述的不同曝光持续时间获得的信息进行不同处理，信息生成模块按照处理单元的不同信息处理结果输出最终的目标信息，通过这种探测装置的设置，在系统内部预制了不同的工作模式，能够实现探测系统对于视场内多对象不同距离的精确追踪，同时结果输出迅速可靠，增强了用户体验感
探测单元装置方法

[发明专利]图像采集和处理的方法和装置-CN201910472677.8在审
发明人：范蒙;武晓阳;俞海;浦世亮 -专利权人：杭州海康威视数字技术股份有限公司
申请日： 2019-05-31 - 公布日： 2019-11-22 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本申请公开了一种图像采集和处理的方法和装置，属于边缘计算技术领域。所述方法包括：通过多次曝光产生并输出第一原始图像信号和第二原始图像信号，其中，第一原始图像信号是根据第一预设曝光产生的图像信号，第二原始图像信号是根据第二预设曝光产生的图像信号，第一预设曝光和第二预设曝光为多次曝光中的其中两次曝光，第一预设曝光和第二预设曝光的至少一个曝光参数不同；对第一原始图像信号进行第一处理得到第一图像，对第二原始图像信号进行第二处理得到第二图像；对第一图像进行压缩编码，根据第二图像进行智能分析。
原始图像信号预设曝光图像图像信号智能分析图像采集和处理计算技术领域方法和装置编码压缩两次曝光曝光参数压缩编码有效解决申请采集输出应用

[发明专利]LDI曝光机能量均匀性检测方法-CN201610737471.X有效
发明人：陈功;卢汝锋;谢添华 -专利权人：广州兴森快捷电路科技有限公司;深圳市兴森快捷电路科技股份有限公司;天津兴森快捷电路科技有限公司
申请日： 2016-08-26 - 公布日： 2018-01-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种LDI曝光机能量均匀性检测方法，包括以下步骤准备测试板和干膜，并在所述测试板上设置定位孔；制作曝光图形文件，所述曝光图形文件内设定有与曝光机内所需检测的能量区一一对应的图形区，每个所述图形区均设定有宽度信息值；将所述干膜贴设于所述测试板上；将贴设干膜的所述测试板材放入曝光机中，曝光机抓取定位孔，根据所述曝光图形文件对所述测试板进行曝光处理；将经过曝光处理的测试板进行显影处理；测定测试板上干膜各显影区宽度；比较每个所述显影区和与之对应的所述图形区的宽度大小本发明通过测定测试板上各显影区的宽度，并与图形区宽度进行比对，从而来判断曝光机的能量均匀性，本发明操作简便，检测精度高。
ldi 曝光机能均匀检测方法

[发明专利]用于控制打印处理的控制设备-CN201310084327.7有效
发明人：岛桥卓也 -专利权人：兄弟工业株式会社
申请日： 2013-03-15 - 公布日： 2013-09-18 - 主分类号： G03G15/04 文献下载
摘要：提供一种用于控制打印处理的控制设备。在控制设备中，获取表示以第一分辨率沿着第一图像方向排列的像素密度的第一类型二进制图像数据，且执行第一确定处理以确定用于沿着第一曝光方向以低于第一分辨率的第二分辨率使曝光线曝光的曝光图案。在第一确定处理中，确定使与二进制部分区相关且与N条接连的曝光线重叠的输出部分区曝光的部分曝光图案使得在输出部分区中沿着第一曝光方向的曝光量的分布根据二进制部分区中至少在第一图像方向上的第二值像素布局而不同，从而允许通过在第一曝光方向上以比第二分辨率更高的分辨率显影来形成色料的图像。
用于控制打印处理设备