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[发明专利]一种双重曝光合成HDR图像的方法和装置-CN201710703911.4有效
发明人：罗宁;杜松 -专利权人：瑞芯微电子股份有限公司
申请日： 2017-08-16 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本发明公开一种双重曝光合成HDR图像的方法和装置，所述方法包括以下步骤：接收第一控制命令，采用第一曝光方案对第一图像进行第一曝光，得到第一曝光图像，以及采用第二曝光方案对第一图像进行第二曝光，得到第二曝光图像；所述第一曝光方案和第二曝光方案交替进行，且交替频率符合一预设频率；对第一曝光图像和第二曝光图像进行缓存；接收第二控制命令，对第一曝光图像和第二曝光图像采用HDR算法合成高动态范围的HDR图像。在相机进行预览操作时，就对第一处理图像进行处理得到第一曝光图像，当进行图像生成操作时，可以将第一曝光图像与第二曝光图像直接进行合成，有效提高了图像生成效率，提高了用户的感官体验。
一种双重曝光合成 hdr 图像方法装置

[发明专利]一种基于自适应光照一致性的多曝光图像融合方法-CN202210208177.5在审
发明人：黄颖;刘家鑫;夏鸿钊;柏浩林 -专利权人：重庆邮电大学
申请日： 2022-03-03 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： G06T5/50 文献下载
摘要：本发明属于数字图像处理技术领域，具体涉及一种基于自适应光照一致性的多曝光图像融合方法；该方法包括：获取不同程度曝光的图像并采用稀疏编码进行处理，得到稀疏编码后的图像；选择正常曝光的图像作为参考图像并根据正常曝光的图像对不同程度曝光图像进行自适应光照一致性处理，得到曝光一致的图像；采用峰值信噪比和信息熵对曝光一致的图像的质量进行度量并根据度量结果对曝光一致的图像进行选择，得到中间结果图像；对中间结果图像和不同程度曝光图像分别进行独立成分分析处理，得到纹理细节特征图和颜色信息特征图
一种基于自适应光照一致性曝光图像融合方法

[发明专利]图像处理方法、装置、图像拍摄设备及移动终端-CN201980012106.4在审
发明人：李广;李静;郭浩铭 -专利权人：深圳市大疆创新科技有限公司
申请日： 2019-08-14 - 公布日： 2020-09-25 - 主分类号： H04N5/232 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种图像处理方法、装置、图像拍摄设备及移动终端，该方法包括：对待处理图像进行分解，得到两个以上不同频段的层，确定各层的曝光补偿参数，并使用曝光补偿参数对各层进行曝光补偿处理，基于曝光补偿处理后的各层进行图像重建该方法能够对于图像全局进行更加平滑的曝光补偿，从而能够对齐全局图像的亮度差异，进而极大提升图像的拍摄质量。
图像处理方法装置拍摄设备移动终端

[发明专利]图像采集的方法、装置、电子设备及介质-CN202210225639.4在审
发明人：李刚;陈磊;夏曙东 -专利权人：北京千方科技股份有限公司
申请日： 2022-03-07 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：通过应用本申请的技术方案，可以设置交通相机的图像传感器由两路输出通道进行区域图像的采集，以实现将其中一路采集的图像用高曝光时长进行曝光处理并由此生成视频预览图像。另外一路采集的图像用低曝光时长进行曝光处理并由此识别该区域中是否存在违规行为。另外在检测到用于获取违规图像的抓拍指令时，还可以将抓拍到的图像帧以中曝光时长进行曝光处理并将其用于违法取证。从而避免了相关技术中存在的，交通相机中的不同模块所处理的图像如果采用同一曝光处理会存在有无法满足不同场景对图片曝光质量要求的缺陷。
图像采集方法装置电子设备介质

[发明专利]一种改进型Micro-LED芯片制备用曝光系统-CN202211031716.9在审
发明人：唐素敏;王勇文 -专利权人：星源电子科技（深圳）有限公司
申请日： 2022-08-26 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及芯片制造装置领域，公开了一种改进型Micro‑LED芯片制备用曝光系统，包括暗箱，其内部设置有处理腔、曝光腔、加固腔、收料腔和原料腔；预处理装置，其位于处理腔内，进行预处理；曝光装置，其位于曝光腔内，进行曝光；收料辊，其位于收料腔内；基板，其依次贯穿处理腔、曝光腔、加固腔和收料腔后与收料辊相连接；动力箱，其固定连接在暗箱的一侧，其内部连接有动能机构，所述曝光装置、收料辊均与动能机构相连接，本发明通过区域性的周期性用水，使得整体的水环境较为稳定，保证曝光的质量，减少整体的用水量，降低整体的生产成本减少搬运等过程中，降低破损率，进一步的降低整体的成本。
一种改进型 micro led 芯片制备曝光系统

[发明专利]曝光装置及器件制造方法-CN200510062563.4无效
发明人：是永伸茂;西邑直亮 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2005-03-29 - 公布日： 2005-10-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：由于基板载置台在曝光位置和处理位置之间移动后，必须在光轴方向进行查找等的基准对位，所以，曝光或处理的开始被推迟。为了解决该问题，本发明的曝光装置，包括；将图形在基板上曝光的曝光用光学系统；在离开前述曝光用光学系统的位置上、对前述基板进行规定的处理的基板处理系统；沿着与前述曝光用光学系统的光轴垂直的平面移动的基板载置台；以及，计测机构，该计测机构在前述基板载置台从前述基板处理系统下方向前述曝光用光学系统下方移动的期间内，在前述基板载置台的移动的整个范围内连续地计测前述基板载置台在前述光轴方向的位置。
曝光装置器件制造方法

[发明专利]图像处理方法、装置、终端设备及存储介质-CN202210172228.3在审
发明人：刘荣亮 -专利权人：昆山丘钛光电科技有限公司
申请日： 2022-02-24 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种图像处理方法、装置、终端设备及存储介质，其中所述方法包括：获取摄像模组拍摄的原始图像；获取图像绿通道的预配曝光范围；根据所述预配曝光范围对所述原始图像进行曝光，得到曝光图像；对所述曝光图像进行目标通道曝光范围的提取处理，得到所述摄像模组所对应拍摄图像的目标通道的目标曝光范围。采用本发明，能解决现有技术中无法获知图像其他通道的曝光范围导致无法实现摄像模组的准确测试的技术问题。
图像处理方法装置终端设备存储介质

[发明专利]高动态范围图像噪声去除方法、装置及设备-CN201711036859.8有效
发明人：刘凯 -专利权人： OPPO广东移动通信有限公司
申请日： 2017-10-30 - 公布日： 2019-09-10 - 主分类号： H04N5/232 文献下载
摘要：本申请公开了一种高动态范围图像噪声去除方法、装置及设备，其中方法包括：从自动曝光控制系统中，获取当前场景对应的曝光程度等级；根据预设的曝光程度等级与降噪参数组对应关系，确定与当前的曝光程度等级对应的降噪参数组，降噪参数组为预先确定的与同一曝光等级下不同曝光补偿值分别对应的不同降噪参数值；分别利用不同降噪参数值，对获取的不同曝光补偿值对应的图像进行降噪处理；对降噪处理后的不同曝光补偿值对应的图像进行融合处理，本申请的方法实现了对同一曝光程度等级下的不同曝光程度的图像，采用不同的降噪参数进行去噪处理，使得拍摄图像能够更好保留图像细节，提高了图像质量，提升了用户体验。
动态范围图像噪声去除方法装置设备

[发明专利]一种基于动态场景的双曝光视频成像系统-CN201910693033.1有效
发明人：赵小明;宗靖国;李英;王文超;王子;吴昌辉;王星量;高苗 -专利权人：西安电子科技大学
申请日： 2019-07-30 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G06T1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于动态场景的双曝光视频成像系统，包括双曝光图像采集模块，用于通过控制曝光时间获取第一序列图像数据，第一序列图像数据包括若干帧第一曝光图像；图像传输模块，连接双曝光图像采集模块，用于获取第一序列图像数据，对第一序列图像数据进行固定间隔帧抽帧处理得到第二序列图像数据；图像处理模块，连接图像传输模块，用于获取第二序列图像数据，并对第二序列图像数据中相邻两个第二曝光图像进行融合处理，得到融合后的图像。本发明所提出的双曝光视频成像系统能够依次交替获取高曝光度和低曝光度的序列图像，从而解决了现有的HDR摄影或摄像系统无法处理动态场景运动物体信息、不同曝光图像亮度信息差异过大导致的融合图像产生伪轮廓以及融合图像细节信息丢失的问题
一种基于动态场景曝光视频成像系统

[发明专利]电子装置以及自动曝光收敛方法-CN201811167338.0有效
发明人：印秉宏;王佳祥 -专利权人：广州印芯半导体技术有限公司
申请日： 2018-10-08 - 公布日： 2020-08-11 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本发明提出一种电子装置以及自动曝光收敛方法。电子装置包括图像传感器以及处理器。图像传感器用以取得第一图框。第一图框包括多个子图框区域，并且这些子图框区域各别包括多个像素数据。这些像素数据分别依据不同的多个曝光时间所取得。处理器耦接图像传感器。处理器用以分析第一图框，以将这些子图框区域中的具有相同曝光时间的这些像素数据组合为多个第二图框。处理器分析这些第二图框，以取得多个曝光值。处理器依据这些曝光值执行曝光收敛操作。
电子装置以及自动曝光收敛方法

[发明专利]进行光刻制程的方法-CN201810621209.8在审
发明人：翁明晖;张庆裕;林进祥 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2018-06-15 - 公布日： 2019-03-05 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：提供进行光刻制程的方法，进行光刻制程的方法包含在基底上方形成光刻胶层，并将光刻胶层的一部分曝光，以在未曝光部分之间形成曝光部分。进行光刻制程的方法还包含将光刻胶层显影以移除光刻胶层的曝光部分，使得开口形成于未曝光部分之间，并在开口中和光刻胶层的未曝光部分上方形成后处理涂布材料。进行光刻制程的方法还包含通过进行后处理制程，光刻胶层的未曝光部分的一部分与后处理涂布材料反应，以及移除后处理涂布材料。
光刻胶层光刻制程曝光后处理涂布材料移除开口基底显影制程中和

[发明专利]图像处理方法及其相关设备-CN202210023807.1在审
发明人：陈珂 -专利权人：荣耀终端有限公司
申请日： 2022-01-10 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： G06T5/50 文献下载
摘要：本申请提供一种图像处理方法及其相关设备，涉及图像处理领域，其中，该方法包括：检测到第一操作；响应于第一操作，开启所述相机，确定符合第一预设条件，采集M帧图像；确定所述第一曝光图像与所述第三曝光图像符合第二预设条件，且所述第二曝光图像与所述第三曝光图像符合所述第二预设条件；对所述第一曝光图像、所述第二曝光图像和所述第三曝光图像进行融合处理，得到第一目标图像，保存所述第一目标图像。本申请提供的图像处理方法可以有效改善从光源变色的场景中采集的多帧图像进行融合后的图像质量。
图像处理方法及其相关设备

[发明专利]浸润式光刻的方法及其处理方法-CN200610109531.X有效
发明人：张庆裕;游大庆 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2006-08-04 - 公布日： 2007-02-21 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种浸润式光刻的方法及其处理方法，包括：提供一光致抗蚀剂层在半导体基底上，以及使用浸润式光刻曝光系统曝光该光致抗蚀剂层。该浸润式光刻曝光系统在曝光时使用液体，并可在曝光后去除一些但不是全部的液体；曝光后，使用一处理步骤以中和在浸润式曝光过程中，一些不希望的元素扩散至光致抗蚀剂层所产生的效应；经过处理后，进行曝后烤及显影步骤本发明所述浸润式光刻的方法及其处理方法，可在光致抗蚀剂上产生想要的图案并减少缺陷。
浸润光刻方法及其处理

[发明专利]图像处理方法及装置、计算机可读存储介质、终端-CN201710974469.9有效
发明人：张家重;董毅;李光瑞;王玉奎 -专利权人：浪潮金融信息技术有限公司
申请日： 2017-10-19 - 公布日： 2020-09-01 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：一种图像处理方法及装置、计算机可读存储介质、终端，所述方法包括：获取待处理的两种以上曝光率的第一图像；所述两种以上曝光率的第一图像为在预设的逆光条件下的图像；采用与所述逆光条件对应的中间曝光率色彩值，对所述两种以上曝光率的第一图像进行曝光处理，得到最终的图像；所述中间曝光率包括在逆光条件下所述对应的两种以上曝光率的图像中同一像素点的色彩值变化的信息。上述的方案，可以在对逆光下拍摄得到的图像进行处理时，提高所得到的图像的质量，提升用户的使用体验。
图像处理方法装置计算机可读存储介质终端

[发明专利]图像处理装置、图像处理系统及图像处理方法-CN200510053874.4有效
发明人：丰田哲也 -专利权人：奥林巴斯株式会社
申请日： 2005-03-14 - 公布日： 2005-09-21 - 主分类号： H04N5/91 文献下载
摘要：本发明提供一种图像处理装置、图像处理系统及图像处理方法。可以对根据任意的曝光基准所拍摄的RAW数据实施适当的灰度特性的灰度转换处理。通过由摄像部(3)进行摄像而至少取得实施灰度转换处理前的图像处理前数据，在根据该图像处理前数据生成图像文件(5)时，将图像处理前数据和存储在曝光基准值存储部(2)中的曝光基准值一起记录。在图像处理装置(21)中，在进行了曝光校正指定的情况下，校正在图像文件(5)中所记录的曝光基准值，根据该校正的曝光基准值，从灰度转换表存储部(25)中选择灰度转换表。然后根据该所选择的灰度转换表，在灰度转换/逆灰度转换处理部(24)中对图像处理前数据进行灰度转换处理。
图像处理装置系统方法

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