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- [发明专利]图案描绘装置及图案描绘方法-CN202110922904.X有效
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加藤正纪;中山修一
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株式会社尼康
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2017-05-15
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2023-10-20
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G03F7/20
- 本发明的图案描绘装置(EX)具备：位置计测部(MU)，其计测应藉由多个描绘单元(Un)描绘的基板(P)上的被曝光区域的位置；第1调整构件(HVP)，其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案相对于被曝光区域的位置误差减少，而根据利用位置计测部(MU)计测出的位置对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中于第2方向上进行调整；及第2调整构件(AOM1)，其是为了使利用描绘单元(Un)的各个描绘的图案于第2方向上的接合误差减少，而对基于描绘单元(Un)的各个的光点(SP)的位置于基板(P)的移动中以高于第1调整构件(HVP)的响应性在第2方向上进行调整。
- 图案描绘装置方法
- [发明专利]图案曝光装置以及图案曝光方法-CN202180082822.7在审
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鬼头义昭;加藤正纪
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株式会社 尼康
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2021-12-03
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2023-08-08
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G02B26/12
- 具有在基板上描绘图案的描绘单元的图案曝光装置具有：第1光源装置，其射出第1光束；第2光源装置，其射出第2光束；光束合成部，其将来自第1光源装置的第1光束和来自第2光源装置的第2光束以分别入射到描绘单元的方式进行合成；光束形状变形部，其以使投射到基板上的第1光束所形成的第1点光的形状与第2光束所形成的第2点光的形状相互不同的方式使入射到光束合成部的第1光束与第2光束各自的截面形状相互不同；以及控制装置，其以利用第1点光和第2点光中的任意一方或双方对在基板上描绘的图案的至少边缘部进行描绘的方式进行控制。
- 图案曝光装置以及方法
- [发明专利]处理系统-CN201910510003.2有效
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鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和
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株式会社 尼康
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2015-09-03
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2023-07-28
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G03F7/30
- 本发明提供提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。
- 处理系统
- [发明专利]基板处理装置-CN202010741934.6有效
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小宫山弘树;加藤正纪;铃木智也;奈良圭
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株式会社 尼康
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2016-10-26
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2023-06-16
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G03F7/20
- 曝光装置EX，一边将长条的基板P搬送于长边方向，一边于基板P上形成既定图案，其具备：圆筒卷筒DR，支承基板P；作为第1支承构件的本体框架21及第1光学平台23轴支圆筒卷筒DR；描绘装置11，隔着基板P与旋转卷筒DR对向配置，于基板P上形成图案；作为第2支承构件的第2光学平台25保持描绘装置11；旋转机构24，将第1光学平台23与第2光学平台25能旋转地连结；标尺部GPa,GPb，用以测量圆筒卷筒DR的位置变化；以及编码器读头EN1,EN2，检测标尺部GPa,GPb的刻度。
- 处理装置
- [发明专利]处理系统-CN201910692841.6有效
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鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和
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株式会社 尼康
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2015-09-03
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2023-05-16
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G03F7/30
- 本发明提供提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。
- 处理系统
- [发明专利]基板处理装置-CN202210005576.1有效
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鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和;木内徹
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株式会社 尼康
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2017-08-07
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2023-05-05
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B65G49/06
- 一种将长条的片状基板于长条方向上搬送并对片状基板实施既定的处理的基板处理装置，且设置有：处理机构，其对片状基板的长条方向的每一部分实施既定的处理；搬送机构，其一面对通过处理机构的片状基板赋予既定的张力，一面将片状基板按照既定速度于长条方向上搬送；卡留机构，其配置于片状基板的搬送路径中的既定位置，且能够将片状基板卡留于既定位置；以及控制装置，其于暂时停止片状基板的搬送的情形时，以使片状基板的搬送速度降低的方式控制搬送机构，并且以于搬送速度成为既定值以下的时点将片状基板卡留于既定位置的方式控制卡留机构。
- 处理装置
- [发明专利]图案描绘装置-CN201880052782.X有效
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鬼头义昭;加藤正纪
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株式会社尼康
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2018-09-06
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2023-03-28
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G03F7/20
- 本发明的图案描绘装置(EX)，将作为点光(SP’)投射于基板(P)的描绘光束(LBn)的强度，一边根据以多数个像素(PIC)规定的图案的描绘数据进行调变、一边将点光(SP’)的投射位置在基板(P)上沿像素(PIC)的2维排列相对扫描。图案描绘装置(EX)，具备：根据描绘数据，对相对扫描中点光(SP’)照射的曝光像素的各个射出作为描绘光束以既定周期(Tf)振荡的脉冲光的既定数，对相对扫描中不被点光(SP’)照射的非曝光像素的各个则中断既定数脉冲光的射出的光源装置(LS)，以及根据描绘数据，以使对曝光像素中对应图案边缘部的边缘部曝光像素(PIC’)射出的脉冲光的数量，相对既定数增减的方式控制光源装置(LS)的描绘控制装置(200)。
- 图案描绘装置
- [发明专利]处理系统-CN201910384087.X有效
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鬼头义昭;加藤正纪;奈良圭;堀正和
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株式会社尼康
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2015-09-03
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2023-02-17
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G03F7/30
- 本发明提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。
- 处理系统
- [发明专利]图案形成装置、及图案形成方法-CN202180025936.8在审
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加藤正纪
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株式会社尼康
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2021-04-05
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2022-11-22
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G03F9/00
- 图案形成装置在沿第1方向移动的基板上的既定区域形成图案，其具备：第1对准系统，其在于第1方向上设定于既定区域的上游侧的第1检测区域内，光学检测在基板上沿着第1方向以既定间隔形成的第1基板标记；第2对准系统，其在于第1方向上设定于既定区域的上游侧的第2检测区域内，光学检测在与第1方向正交的第2方向上与第1基板标记隔开既定距离且在基板上沿着第1方向以既定间隔形成的第2基板标记；基准标志部件，其以沿着第1、第2对准系统的方式在第2方向上延伸设置，在第2方向上对应于第1检测区域和第2检测区域各检测区域的部分形成有基准标志标记；及合成光学部件，其设置于第1、第2对准系统各对准系统，以使来自基准标志标记的光通过供来自基板标记的光通过的光路中的方式进行合成。
- 图案形成装置方法
- [发明专利]描绘装置-CN201910171295.1有效
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加藤正纪;中山修一
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株式会社尼康
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2017-04-25
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2022-06-10
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G02B26/08
- 作为于基板(P)上一维地扫描光束(LBn)的光束扫描装置的扫描单元(Un)，具备于一方向具有聚焦力的第1柱面透镜(CY1)、使透过第1柱面透镜(CY1)的光束(LBn)偏向以便进行一维扫描的多面镜(PM)、将以远心的状态偏向的光束(LBn)投射至基板(P)的fθ透镜系统(FT)、及入射透过fθ透镜系统(FT)的光束(LBn)且于一方向具有聚焦力的第2柱面透镜(CY2)，第1柱面透镜(CY1)与第2柱面透镜(CY2)于彼此正交的方向具有聚焦力，该扫描单元(Un)进而具备设置于第1柱面透镜(CY1)与多面镜(PM)之间的透镜系统(G10)。
- 描绘装置
- [发明专利]图案描绘装置及基板处理装置-CN201910086630.8有效
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加藤正纪;中山修一
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株式会社尼康
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2016-09-27
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2022-06-03
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G02B26/12
- 本发明是一种图案描绘装置(EX)，其是一面将来自光源(LS)的射束(LB)根据图案信息进行强度调变，一面将射束(LB)投射至基板(P)上而于主扫描方向进行扫描，藉此于基板(P)上形成图案者，且具备：扫描装置(14)，其是为了使射束(LB)于主扫描方向上扫描，而将包含使来自光源(LS)的射束(LB)偏向的偏向构件(PM)的多个扫描单元(Un)，以投射至基板(P)上的射束(LB)的扫描轨迹相互错开的方式配置；及电光偏向装置(BDU)，其是为了将来自光源(LS)的射束(LB)分时供给至多个扫描单元(Un)的各者，而将来自光源(LS)的射束(LB)切换为偏向状态或非偏向状态，并且为了使射束(LB)的扫描轨迹于与主扫描方向交叉的副扫描方向移位，而可调整射束(LB)的偏向角。
- 图案描绘装置处理
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