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[发明专利]高动态范围图像处理系统及方法、电子设备和存储介质-CN202010304152.6有效
发明人：杨鑫 -专利权人： OPPO广东移动通信有限公司
申请日： 2020-04-17 - 公布日： 2021-09-17 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本申请公开了一种高动态范围图像处理系统及方法、电子设备和计算机可读存储介质。高动态范围图像处理系统包括图像传感器、高动态融合单元和图像处理器。像素阵列以第一曝光时间曝光得到第一原始图像、以第二曝光时间曝光得到第二原始图像。图像处理器和高动态融合单元用于对第一原始图像和第二原始图像进行图像预处理、高动态范围处理、图像处理和融合算法处理得到目标图像。本申请实施方式的高动态范围图像处理系统及方法、电子设备和计算机可读存储介质通过控制像素阵列进行至少两次曝光，并根据不同的曝光时间和不同的感光像素生成多张图像，再对图像进行图像预处理、高动态范围处理、图像处理和融合算法处理
动态范围图像处理系统方法电子设备存储介质

[发明专利]图像传感器、图像处理方法、深度相机及存储介质-CN202210976999.8在审
发明人：程向伟 -专利权人：奥比中光科技集团股份有限公司
申请日： 2022-08-15 - 公布日： 2022-12-20 - 主分类号： H04N5/355 文献下载
摘要：本发明公开了一种图像传感器、图像处理方法、深度相机及存储介质，图像传感器包括控制及数据传输接口、曝光控制电路、像素阵列、读出电路和图像信号处理器，接收到图像采集指令后，采用全局曝光方式曝光原始图像帧以及采用卷帘曝光方式曝光环境光图像帧，然后将原始图像帧中每两行像素的电压信号以及环境光图像帧中对应行的像素的电压信号进行处理后得到对应的像素值，并执行减背景计算，有利于消除环境光中与深度相机的激光波长相同的干扰光线的影响，提升了深度图像的准确性将全局曝光和卷帘曝光相结合，并采用每两行像素进行处理，缩短了原始图像帧和环境光图像帧之间的曝光时间，提高了减背景效率。
图像传感器图像处理方法深度相机存储介质

[发明专利]一种LDI直写曝光机的能量格测试方法-CN202310267442.1在审
发明人：杨坤伦;朱盼盼 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-03-15 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种LDI直写曝光机的能量格测试方法，包括步骤S1、获取基板样本，并进行预处理；步骤S2、将油墨涂覆在经过预处理后的基板上进行烘烤固化，再将基板放置在曝光机吸盘垫预设位置处；步骤S3、基于图形像素预设比例得到能量测试图形，并利用曝光机对其进行曝光处理；步骤S4、对曝光处理后得到的能量测试图形进行显影读取，得到能量测试图形的能量格。本发明通过激光束将能量测试图形直接通过空间光调制器扫描成像至感光油墨上，显影后读取图形的能量格，解决现有技术中曝光尺寿命有限，需定期更换，成本较高的问题。同时曝光尺折旧会降低准确度，同时红外功能易导致曝光尺高热，引发起火等风险。
一种 ldi 曝光能量测试方法

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN201710707152.9有效
发明人：西山耕二;井上和宏 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-08-17 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种基板处理装置和基板处理方法，可以根据曝光装置的状态来抑制基板的处理效率的下降并将适当状态的基板搬入曝光装置中。曝光处理前的基板被搬入到载置兼冷却部并被冷却。在曝光装置可接收基板的情况下，通过搬送装置将从载置兼冷却部搬出来的基板搬送到曝光装置。在曝光装置不能接收基板的情况下，通过搬送装置将从载置兼冷却部搬出来的基板搬入到冷却兼缓冲部。在曝光装置变成可接收基板之后，通过搬送装置将基板从冷却兼缓冲部搬出并搬送到曝光装置。
处理装置方法

[发明专利]涂敷、显影装置和涂敷、显影方法-CN200610007088.5有效
发明人：林田安;原圭孝 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2006-02-14 - 公布日： 2006-09-13 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：涂敷·显影装置具备：处理块，在晶片上形成抗蚀剂膜后将其运送至曝光装置，并对曝光后的基板进行显影处理；和接口运送机构，设在处理块和曝光装置之间，上述处理块具有涂敷抗蚀剂的涂敷膜形成用单位块、和进行显影处理的显影处理用单位块，并另外设置有涂敷膜形成用单位块运送机构和显影处理用单位块运送机构。另外，调整把曝光后的基板从接口块运送机构交接至交接台后，由显影处理用单位块运送机构接取该基板的时刻，以使从该基板曝光到运入加热单元的时间为预先设定的时间。
涂敷显影装置方法

[发明专利]摄像装置以及摄像方法-CN201280000879.9有效
发明人：木野达哉;内藤幸宏 -专利权人：奥林巴斯株式会社;奥林巴斯映像株式会社
申请日： 2012-03-07 - 公布日： 2013-07-31 - 主分类号： H04N5/232 文献下载
摘要：在以多个不同的曝光时间连续多次使摄像部（202）曝光而获得的曝光量不同的多个图像数据中，将在曝光时间最短的曝光时获得的图像数据决定为基准图像数据（S209）。第1合成处理部（220）根据基准图像数据进行参照图像数据的对位来执行第1合成处理（S210）。第2降噪处理部（223）对由第1合成处理获得的第1合成图像数据实施第2降噪处理（S212），第1降噪处理部（222）对基准图像数据实施第1降噪处理（S214）。第2合成处理部（221）根据第1合成处理的结果进行合成基准图像数据与第1合成图像数据的第2合成处理（S215）。
摄像装置以及方法

[发明专利]图像处理方法、装置、存储介质及移动终端-CN201811237224.9有效
发明人：王宇鹭 -专利权人： OPPO广东移动通信有限公司
申请日： 2018-10-23 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本申请实施例公开了图像处理方法、装置、存储介质及移动终端。该方法包括：检测到图像处理事件被触发；在长曝光时间内通过第一摄像头获取一长曝光图像，并通过第二摄像头连续获取至少两张短曝光图像；其中，在通过第二摄像头连续获取至少两张短曝光图像的过程中，针对每张短曝光图像，获取当前短曝光图像的抖动轨迹信息，并根据所述抖动轨迹信息调整下一张短曝光图像的曝光时间；所述长曝光图像的曝光时间大于所述短曝光图像的曝光时间；对所述长曝光图像和所述至少两张短曝光图像进行融合，得到目标图像本申请实施例通过采用上述技术方案，能够提高短曝光图像的清晰度，有效避免由于抖动造成的伪影等模糊问题，可以大大提高拍摄图像的质量。
图像处理方法装置存储介质移动终端

[发明专利]图像处理系统、图像处理方法及电子设备-CN202110432340.1在审
发明人：邱钟发 -专利权人：广州极飞科技股份有限公司
申请日： 2021-04-21 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： H04N5/232 文献下载
摘要：本申请实施例涉及图像处理技术领域，提供一种图像处理系统、图像处理方法及电子设备，通过图像抓取单元实时接收图像采集装置采集的原始图像，并通过第一图像单元将原始图像格式转换为目标图像后存入预设的第一缓冲池中；当接收到控制单元发送的拍照指令时，图像抓取单元控制图像采集装置进行全局曝光同时记录全局曝光帧号，这样，图像抓取单元就能根据全局曝光帧号从第一缓冲池中抓取全局曝光图像，再通过第二图像处理单元将全局曝光图像处理成航拍图片也就是，本申请实施例中的航拍图片是通过全局曝光方式采集的高精度图片，后续处理中不会发生图像形变，能够实现高精度测绘或者监控。
图像处理系统方法电子设备

[发明专利]基于目标检测的自动曝光控制方法及系统-CN202110368190.2有效
发明人：王小状;徐亦飞;叶宏伟;陈伟 -专利权人：浙江明峰智能医疗科技有限公司
申请日： 2021-04-06 - 公布日： 2022-10-14 - 主分类号： G06T7/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种基于目标检测的自动曝光控制方法及系统，涉及X射线图像处理领域，包括；执行定位片扫描，获得扫描图像，对所述扫描图像进行预处理，获得第一处理数据；采用目标检测网络对所述第一处理数据进行特征提取，获取包含器官类型及位置信息的第二处理数据；采用预设分析策略对所述第二处理数据进行特征分析，并基于分析结果和预设衰减系数表计算曝光参数曲线，以获得曝光数据；所述运动控制单元根据所述曝光数据执行自动曝光下扫描，以获得目标图像；解决了现有自动曝光控制系统识别组织器官的位置依赖人工或大量实验数据，成本较高且准确率较低的问题。
基于目标检测自动曝光控制方法系统

[发明专利]摄像装置-CN201580008963.9在审
发明人：水野恭辅;斋藤纱依里 -专利权人：奥林巴斯株式会社
申请日： 2015-06-30 - 公布日： 2016-10-12 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：其具有呈矩阵状设置有分别对接收到的光进行光电转换而生成电信号的多个像素的受光部(244f)、按照每行依次读取像素生成的电信号的读取部(244g)、进行如下摄像控制的摄像控制部(244e)，该摄像控制交替反复进行使读取部(244g)读取多个像素中的至少图像处理对象的像素生成的电信号的读取处理和对受光部进行曝光的曝光处理；以及驱动信息生成部(408a)，其根据电信号设定曝光处理的曝光期间，生成该设定的曝光期间作为驱动信息，摄像控制部(408a)根据驱动信息对曝光处理和读取处理进行控制。
摄像装置

[发明专利]一种PCB板批次管理曝光方法及其曝光设备-CN201811072228.6在审
发明人：陈振才;李诚 -专利权人：东莞市多普光电设备有限公司
申请日： 2018-09-14 - 公布日： 2018-12-18 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：本发明涉及一种PCB板批次管理曝光方法，包括如下工艺：①、PCB板准备，先将待曝光的PCB板冲洗刷油或上下面贴干膜后放入到曝光机的曝光工位；②、启动曝光灯对PCB板对应部位进行影像处理，同时通过曝光机内的打码装置采用光束硬化油墨或干膜的方式对PCB板的边缘进行打码，且曝光灯和打码装置的光线互不干扰；③、将曝光后的PCB产品进行冲洗，曝光及光束硬化的部分不会被冲洗掉，进而同步完成了PCB板的曝光和打码标记，实现了PCB板的批次管理；本发明能够在曝光的同时实现PCB板的光学硬化处理，配合曝光后的冲洗，实现准确无误的完成曝光打码一体化操作，进而实现PCB板的良好批次管理。
曝光批次管理打码冲洗打码装置曝光灯曝光机干膜硬化一体化操作互不干扰曝光工位曝光设备同步完成影像处理硬化处理冲洗刷放入油墨配合

[发明专利]成像控制方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质-CN201810916158.1有效
发明人：黄杰文 -专利权人： OPPO广东移动通信有限公司
申请日： 2018-08-13 - 公布日： 2020-01-10 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本申请提出一种成像控制方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质，其中方法应用于成像设备，方法包括：根据拍摄场景的亮度，从预设的多个曝光度组合中确定目标组合；其中，一个曝光度组合包括至少两个曝光度，不同曝光度组合所含的曝光度的数量和/或曝光度的取值存在差异；根据目标组合中包含的各曝光度进行拍摄，得到对应的各曝光度的图像；对各曝光度的图像进行合成处理。由此，可以根据拍摄场景的亮度，确定合适的曝光度组合，进而根据曝光度组合中的各曝光度进行拍摄，再对拍摄得到的各曝光度图像进行合成处理，避免了图像中出现过亮或者过暗的情况，进而提升了成像效果和成像质量，改善用户的拍摄体验
曝光度图像计算机可读存储介质拍摄成像控制电子设备合成处理拍摄场景成像设备成像效果成像预设申请

[发明专利]曝光值调整装置及曝光值调整方法-CN201310050835.3有效
发明人：林嘉彦;武景龙;阙鑫地;许育诚;杨宏智;许丽君 -专利权人：宏达国际电子股份有限公司
申请日： 2013-02-08 - 公布日： 2017-04-26 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本发明提供一种曝光值调整装置及方法。该曝光值调整装置包含一照相机模块以及一处理器。该照相机模块利用一基本曝光值撷取一基准影像。该处理器产生该基准影像的一直方图（histogram），利用一第一临限值及一第二临限值将该直方图划分成一低局部直方图、一中间局部直方图及一高局部直方图，根据该低局部直方图及该中间局部直方图决定一高曝光值，根据该高局部直方图及该中间局部直方图决定一低曝光值，并根据该高曝光值及该低曝光值决定一中间曝光值。该低曝光值低于该高曝光值，且该中间曝光值介于该高曝光值与该低曝光值之间。
曝光调整装置方法

[发明专利]一种图像处理方法、智能终端及存储介质-CN201910825612.7在审
发明人：向超;刘阳兴;李力;廖秋萍;郑加章 -专利权人：武汉TCL集团工业研究院有限公司
申请日： 2019-09-02 - 公布日： 2021-03-05 - 主分类号： G06T5/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种图像处理方法、智能终端及存储介质，所述方法包括：获取待处理图像，确定所述待处理图像对应的亮度直方图，并根据所述亮度直方图确定所述待处理图像对应的曝光补偿系数，根据所述曝光补偿系数对所述待处理图像进行处理本发明提供的图像处理方法，通过对待处理图像数据进行处理和分析，获取待处理图像的亮度直方图，根据不同的亮度直方图特性来确定对应的曝光补偿系数，实现了针对不同的图像执行不同的曝光补偿方案，获得更好的成像效果
一种图像处理方法智能终端存储介质

[发明专利]基板处理装置-CN200710006705.4有效
发明人：金山幸司;金冈雅;宫城聪;茂森和士;安田周一;滨田哲也 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2007-02-02 - 公布日： 2007-08-08 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种基板处理装置，具有：分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、抗蚀盖膜用处理区、抗蚀盖膜除去区、清洗/干燥处理区以及接口区。以与基板处理装置的接口区相邻的方式配置有曝光装置。在曝光装置中，通过浸液法来进行基板的曝光处理。在清洗/干燥处理区的端部清洗单元中，清洗刷与旋转的基板的端部相抵接，来清洗曝光处理前的基板的端部。此时，修正基板的清洗位置。
处理装置