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[发明专利]真空处理装置的异物测定方法-CN202080021254.5在审
发明人：木下能开;早野寿典;渡边智行;尾崎训史 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：一种真空处理装置的异物测定方法，该真空处理装置具备：处理单元，其具有在内部具有处理晶片的处理室的真空容器、及将所述处理室内排气的排气泵；真空搬运单元，其具有搬运所述晶片的搬运室；和连接管，其具有在所述处理室与所述搬运室之间能够搬运所述晶片的通路，所述异物测定方法具有：异物收集工序，相比于所述处理室的内压，提高所述搬运室的内压，由此从所述搬运室向所述处理室在所述通路内使气体的流动产生，向横跨所述搬运室、所述通路与所述处理室的位置搬运晶片，并保持给定时间；以及异物测定工序，对附着在所述晶片的表面的异物进行测定。
真空处理装置异物测定方法

[发明专利]基板处理装置-CN201810608818.X有效
发明人：铃木智也;小宫山弘树;加藤正纪;渡边智行;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;木内彻 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2014-06-25 - 公布日： 2020-10-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
处理装置

[发明专利]图案描绘装置-CN201711205151.0有效
发明人：加藤正纪;奈良圭;铃木智也;渡边智行;鬼头义昭;堀正和 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2015-03-31 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： G03F7/24 文献下载
摘要：基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
图案描绘装置

[发明专利]基板处理装置及其调整方法、器件制造方法及直接描绘曝光装置-CN201711113525.6有效
发明人：加藤正纪;奈良圭;铃木智也;渡边智行;鬼头义昭;堀正和 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2015-03-31 - 公布日： 2020-03-24 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。
处理装置及其调整方法器件制造直接描绘曝光

[发明专利]基板处理方法-CN201710536605.6有效
发明人：加藤正纪;奈良圭;铃木智也;渡边智行;鬼头义昭;堀正和 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2015-03-31 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
处理方法

[发明专利]器件制造系统及图案形成装置-CN201710545966.7有效
发明人：铃木智也;小宫山弘树;加藤正纪;渡边智行;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;木内彻 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2014-06-25 - 公布日： 2019-08-06 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及器件制造系统及图案形成装置，目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
器件制造系统图案形成装置

[发明专利]基板处理装置的调整方法-CN201811596980.0在审
发明人：加藤正纪;奈良圭;铃木智也;渡边智行;鬼头义昭;堀正和 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2015-03-31 - 公布日： 2019-08-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。
基板描绘单元描绘反射光检测部基板处理装置支承构件宽度方向配置测量装置基准标记配置关系投射光束接合反射光支承面点光反射测量图案输出检测移动

[发明专利]基板处理方法和基板处理装置-CN201710536857.9有效
发明人：加藤正纪;奈良圭;铃木智也;渡边智行;鬼头义昭;堀正和 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2015-03-31 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： G03F7/24 文献下载
摘要：基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
处理方法装置

[发明专利]基板处理装置及其控制方法、控制电路与维护方法-CN201510362489.1有效
发明人： 渡边智行;铃木康裕;横山和弘 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2010-12-16 - 公布日： 2019-02-15 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明是有关于一种基板处理装置及其控制方法、控制电路与维护方法。基板处理装置包括：进行用以处理基板的规定动作的驱动部；将配置着驱动部的驱动区、与驱动区的周围的周围区加以区分的间隔部；覆盖驱动区及周围区的室本体部；设置在驱动区及周围区的至少一方的电离器；及对基板进行规定处理的处理部。基板处理装置的控制方法是：对应于设置在上述室本体部的第1门的第1开关、与对应于设置在上述间隔部的第2门的第2开关为分别连接，使上述电离器进行动作。
处理装置及其控制方法控制电路维护

[发明专利]基板处理装置-CN201580018364.5有效
发明人：加藤正纪;奈良圭;铃木智也;渡边智行;鬼头义昭;堀正和 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2015-03-31 - 公布日： 2019-01-22 - 主分类号： G03F7/24 文献下载
摘要：基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上，当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时，基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号，来测量多个描绘线的配置关系。
处理装置器件制造方法调整

[发明专利]基板处理装置、器件制造系统、器件制造方法及图案形成装置-CN201480049332.7有效
发明人：铃木智也;小宫山弘树;加藤正纪;渡边智行;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;木内彻 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2014-06-25 - 公布日： 2018-06-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的目的在于进一步减少对曝光单元带来的振动，通过曝光单元良好地进行曝光。基板处理装置(U3)具有：设在设置面(E)上的减振台(131)；设在减振台(131)上且对供给的基板(P)进行曝光处理的曝光单元(121)；和设在设置面(E)上且与曝光单元(121)以非接触的独立状态设置、并作为对曝光单元(121)进行处理的处理单元的位置调整单元(120)及驱动单元(122)。
曝光单元基板处理装置设置面减振器件制造系统图案形成装置位置调整单元处理单元独立状态曝光处理器件制造驱动单元非接触基板曝光

[发明专利]基板处理装置、器件制造方法及基板处理方法-CN201580017855.8有效
发明人：加藤正纪;奈良圭;铃木智也;渡边智行;鬼头义昭;堀正和 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2015-03-31 - 公布日： 2017-12-29 - 主分类号： G03F7/24 文献下载
摘要：基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式，沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。
处理装置器件制造方法

[发明专利]等离子蚀刻方法-CN201310015232.X有效
发明人： 渡边智行;森本未知数;药师寺守;小野哲郎 -专利权人：株式会社日立高新技术
申请日： 2013-01-16 - 公布日： 2016-11-02 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：本发明涉及等离子蚀刻方法，其与现有技术相比，能够进一步提高相对于与被蚀刻膜不同的膜的被蚀刻膜的蚀刻选择比。本发明的等离子蚀刻方法，其相对于与被蚀刻膜不同的膜选择地蚀刻所述被蚀刻膜，其特征在于，使用能够生成含有与所述膜的成分同样成分的堆积膜的气体，等离子蚀刻所述被蚀刻膜。
等离子蚀刻方法

[发明专利]基板处理装置的维护方法以及安全装置-CN201080056521.9有效
发明人： 渡边智行;铃木康裕;横山和弘 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2010-12-16 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：基板处理装置中，驱动区(DA1)被室本体部(51)覆盖，进行用以处理基板的规定动作的驱动部是配置于上述驱动区(DA1)，利用间隔部(52)而区分上述驱动区、与上述驱动区的周围的周围区(SA1)。基板处理装置的维护方法包括：第1步骤，在设置于室本体部(51)的堵住第1开口的第1门(DR1)被打开之前，使X射线照射装置成为无法照射X射线的状态；第2步骤，在第1门(DR1)被打开之后、设置于间隔部(52)的堵住第2开口的第2门(DR2)被打开之前，使驱动部成为无法进行规定动作的状态；以及维护步骤，进行成为无法进行规定动作的状态的驱动部及处理部的至少一方的维护。因此，驱动部的驱动状态的观察等的点检，可以在室的内部安全地进行。
处理装置维护方法以及安全装置

[发明专利]曝光装置与曝光方法以及微元件的制造方法-CN200680001103.3有效
发明人：加藤正纪;清水贤二;户口学;渡边智行 -专利权人：株式会社尼康
申请日： 2006-01-24 - 公布日： 2007-10-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明的目的是对多个光学单元之间所发生的图样的像的投影位置的偏移进行补正。本发明的解决手段涉及一种曝光装置，其使由具有多个光学单元L1～L13的光学系统所投影的图样的像曝光转印至物体P上。此曝光装置包括一种补正装置，其对由多个光学单元L1～L13投影在此物体P上的多个像之中至少1个像的位置进行补正，以补偿多个光学单元L1～L13的变动。
曝光装置方法以及元件制造

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