“宫城聪”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果17个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN201780007448.8有效
发明人：和食雄大;宫城聪;三桥毅 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2017-02-03 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：一种基板处理装置，通过设置于热处理部的除电装置来进行基板的除电处理。在除电装置OWE中，使保持基板W的保持部(434)以及出射真空紫外线的出射部(300)中的至少一方相对于另一方沿着一个方向相对地移动。此时，由出射部出射的真空紫外线UV照射于基板的一面。通过对基板的整个一面照射真空紫外线，结束除电处理。然后，除电处理后的基板被搬运至涂敷处理部的涂敷处理单元。在涂敷处理单元中，在除电处理后的基板的一面形成处理液的膜。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN200810212379.7有效
发明人： 宫城聪;金冈雅;茂森和士;安田周一;真田雅和 -专利权人：株式会社迅动
申请日： 2008-09-12 - 公布日： 2009-03-18 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种基板处理装置和基板处理方法，在清洗基板后，基板进行旋转的状态下，液体供给喷嘴一边喷出冲洗液，一边从基板的中心部上方向外方移动。此时，没有冲洗液的干燥区域在基板上扩大。若液体供给喷嘴移动至基板周边部上方，则基板的旋转速度下降。液体供给喷嘴的移动速度维持原状态。然后，停止喷出冲洗液，并且，液体供给喷嘴移动到基板的外方。由此，干燥区域扩展到基板上整体，基板被干燥。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN200810149148.6有效
发明人： 宫城聪;金冈雅;茂森和士;安田周一;真田雅和 -专利权人：株式会社迅动
申请日： 2008-09-12 - 公布日： 2009-03-18 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：提供一种基板处理装置以及基板处理方法，在清洗了基板后，形成冲洗液的液层，覆盖基板的一面。接着，液体供给喷嘴从基板的中心部上方向外侧移动。液体供给喷嘴在从基板的中心部上方移动到规定距离时暂时停止。在此期间内，离心力使液层在薄层区域内切断，从而在液层的中心部形成干燥核斑。然后，液体供给喷嘴再次向外侧移动，从而使没有冲洗液的干燥区域在基板上以干燥核斑为起点扩大。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN200810149147.1有效
发明人： 宫城聪;金冈雅;茂森和士;安田周一;真田雅和 -专利权人：株式会社迅动
申请日： 2008-09-12 - 公布日： 2009-03-18 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。在利用冲洗液冲洗掉基板上的显影液之后，基板的转速降低，从而在基板的整个表面上会形成冲洗液的液层。然后，基板的转速上升。由于基板的转速上升，所以离心力变得稍大于张力，因此液层以周边部厚度变厚且中心部厚度变薄的状态保持在基板上。接着，气体供给喷嘴向液层的中心部喷出气体，从而在液层的中心部形成孔。由此，与作用于液层周边部的离心力相平衡的张力消失。另外，随着气体的喷出，基板的转速进一步上升。由此，液层向基板的外侧移动。
处理装置方法

[发明专利]基板处理装置-CN200710148349.X无效
发明人： 宫城聪;金冈雅;滨田哲也;茂森和士;安田周一 -专利权人：株式会社迅动
申请日： 2007-08-31 - 公布日： 2008-03-05 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种基板处理装置，其包括反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、抗蚀覆盖膜用处理区。在各个处理区中，在基板上形成反射防止膜、抗蚀膜和抗蚀覆盖膜。而且，将形成在基板的周缘部上的膜除去。通过将能够对膜进行溶解并除去的除去液供给到旋转的基板的周缘部上，实施形成在基板周缘部上膜的除去处理。在对膜的周缘部进行除去时，对基板的位置进行校正，以使得使基板的中心和旋转轴的中心一致。
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN200710137095.1有效
发明人：金山幸司;茂森和士;金冈雅;宫城聪;安田周一 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2007-07-24 - 公布日： 2008-01-30 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置，该基板处理装置具有接口区。另外，以与接口区相邻的方式配置有曝光装置。接口区包括第一以及第二清洗/干燥处理单元。在第一清洗/干燥处理单元中，对曝光处理之前的基板(W)进行清洗以及干燥处理，在第二清洗/干燥处理单元中，对曝光处理之后的基板(W)进行清洗以及干燥处理。
处理装置

[发明专利]基板处理方法、基板处理系统以及基板处理装置-CN200710101081.4无效
发明人：金山幸司;茂森和士;金冈雅;宫城聪;安田周一 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2007-04-26 - 公布日： 2007-10-31 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种能降低在曝光装置内的载物台等机构的污染的基板处理方法、基板处理系统以及基板处理装置。将仿真基板向在曝光前后进行抗蚀剂涂布处理和显影处理的基板处理装置搬送，其中仿真基板在校准处理中使用，而该校准处理是在对应于液浸曝光的曝光单元中调整图案图像的曝光位置的处理。在基板处理装置中，将接受到的仿真基板表面和背面反转，然后将其搬送到背面清洗处理单元中执行背面清洗处理。其后再次将仿真基板表面和背面反转，然后将其搬送到表面清洗处理单元而执行表面清洗处理。清洗后的仿真基板再次从基板处理装置返回到曝光单元中。由于能够在曝光单元侧使用清洁的仿真基板执行校准处理，因此能够降低基板载物台等曝光单元内的机构的污染。
处理方法系统以及装置

[发明专利]基板处理装置-CN200710006705.4有效
发明人：金山幸司;金冈雅;宫城聪;茂森和士;安田周一;滨田哲也 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2007-02-02 - 公布日： 2007-08-08 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种基板处理装置，具有：分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、抗蚀盖膜用处理区、抗蚀盖膜除去区、清洗/干燥处理区以及接口区。以与基板处理装置的接口区相邻的方式配置有曝光装置。在曝光装置中，通过浸液法来进行基板的曝光处理。在清洗/干燥处理区的端部清洗单元中，清洗刷与旋转的基板的端部相抵接，来清洗曝光处理前的基板的端部。此时，修正基板的清洗位置。
处理装置

[发明专利]衬底处理方法、衬底处理系统及衬底处理设备-CN200610172775.2无效
发明人：茂森和士;金山幸司;金冈雅;宫城聪;安田周一 -专利权人：株式会社迅动
申请日： 2006-12-26 - 公布日： 2007-07-04 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理方法、衬底处理系统及衬底处理设备。其中，在与液浸曝光兼容的曝光装置中紧接在用于调整图案图像的曝光位置的对准处理之前或之后，将用于对准处理的虚设衬底从曝光装置传输到衬底处理设备。在衬底处理设备中，清洗处理装置清洗并干燥接收到的虚设衬底。将已清洗的虚设衬底从衬底处理设备传输回曝光装置。在曝光装置中使用清洁的虚设衬底执行对准处理，减少了曝光装置中机构如衬底台的污染。当虚设衬底具有斥水性时，在衬底处理设备中进行清洗使虚设衬底的斥水性恢复。
衬底处理方法系统设备

[发明专利]基板处理装置-CN200610093230.2有效
发明人：茂森和士;金山幸司;春木晶子;宫城聪;金冈雅;安田周一 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2006-06-23 - 公布日： 2006-12-27 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置具有：分度器模块、端部清洗处理模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块、抗蚀覆盖膜用处理模块、抗蚀覆盖膜除去模块、清洗/干燥处理模块以及接口模块。相邻于基板处理装置的接口模块而配置有曝光装置。在曝光装置中，通过浸液法来进行对基板的曝光处理。在端部清洗模块的端部清洗处理部中，对曝光处理前的基板的端部进行清洗。
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN200510129565.0有效
发明人：安田周一;金冈雅;金山幸司;宫城聪;茂森和士;浅野彻;鸟山幸夫;田口隆志;三桥毅;奥村刚 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2005-12-06 - 公布日： 2006-08-02 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种基板处理装置，具有分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、浸液曝光用处理区以及接口区。以相邻于接口区的方式配置曝光装置。浸液曝光用处理区具有抗蚀剂盖膜用涂敷处理部以及抗蚀剂盖膜用除去处理部。在曝光处理之前，在浸液曝光用处理区形成抗蚀剂盖膜。在曝光处理之后，在浸液曝光用处理区除去抗蚀剂盖膜。
处理装置

[发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN200510129566.5有效
发明人：安田周一;金冈雅;金山幸司;宫城聪;茂森和士;浅野彻;鸟山幸夫;田口隆志;三桥毅;奥村刚 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2005-12-06 - 公布日： 2006-06-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：基板处理装置具有：分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、洗涤/显影处理模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置曝光装置。在抗蚀膜用处理模块中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在洗涤/显影处理模块的洗涤处理单元中进行基板的洗涤以及干燥处理。
处理装置以及方法

[发明专利]基板处理装置-CN200510129564.6有效
发明人：安田周一;金冈雅;金山幸司;宫城聪;茂森和士;浅野彻;鸟山幸夫;田口隆志;三桥毅;奥村刚 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2005-12-06 - 公布日： 2006-06-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置，其具有分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、干燥处理区以及接口区。曝光装置以相邻于接口区的方式配置。干燥处理区具有干燥处理部。接口区具有接口用搬送机构。在曝光装置中对基板进行曝光处理之后，通过接口用搬送机构将基板搬送到干燥处理部。在干燥处理部对基板进行清洗以及干燥处理。
处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN200510129567.X无效
发明人：安田周一;金冈雅;金山幸司;宫城聪;茂森和士;浅野彻;鸟山幸夫;田口隆志;三桥毅;奥村刚 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2005-12-06 - 公布日： 2006-06-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置，其具有：分度器区、反射防止膜用处理区、抗蚀膜用处理区、显影处理区、清洗处理区以及接口区。以相邻于接口区的方式配置曝光装置。清洗处理区具有清洗处理部。在抗蚀膜用处理区中，在基板上形成抗蚀膜。在曝光装置中对基板进行曝光处理之前，在清洗处理部中进行基板的清洗以及干燥处理。
处理装置

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN200510120440.1有效
发明人：金山幸司;久井章博;浅野彻;小林宽;奥村刚;安田周一;金冈雅;宫城聪;茂森和士 -专利权人：大日本网目版制造株式会社
申请日： 2005-11-10 - 公布日： 2006-05-17 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明提供的基板处理装置具有分度器模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块以及接口模块。以相邻于接口模块的方式配置有曝光装置。接口模块具有含有2个干燥处理单元的干燥处理部和接口用搬送机构。在曝光装置中，在对基板实施了曝光处理后，基板通过接口用搬送机构被搬送到干燥处理部的干燥处理单元。在干燥处理部的干燥处理单元中，进行基板的洗涤和干燥。
处理装置方法

1
2
下一页»
尾页
共 17 条